专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]测量装置-CN201921650598.3有效
  • 雷帮军;潘璠;周力夫;王峰 - 湖北九感科技有限公司;三峡大学
  • 2019-09-30 - 2020-04-07 - G01F23/04
  • 本实用新型涉及工程测量监测技术领域,提供了一种测量装置,包括:圆筒形的本体,沿所述本体的高度方向依次设置有编码信息标识段和测量段;所述编码信息标识段包括设置于所述本体的外侧壁上的一个水平凹槽和从上往下布置的多个水平凸起;所述测量段包括设置于所述本体的外侧壁上的四个正立的第一等腰三角形区域和四个倒立的第二等腰三角形区域,所述第一等腰三角形区域和所述第二等腰三角形区域相邻布置。该测量装置可实现在远端对位信息进行读取,不仅数据读取结果准确,误差可控制在0.5cm以内,而且效率高,不存在安全风险。
  • 液面测量装置
  • [实用新型]测量装置-CN202321212046.0有效
  • 董少男 - 中信湘雅生殖与遗传专科医院有限公司
  • 2023-05-18 - 2023-10-20 - G01F23/58
  • 本申请涉及一种测量装置,包括主体及光源。主体包括相连的漂浮底及示高杆,示高杆立设于漂浮底上。光源设于主体,并用于照亮示高杆。上述测量装置,可漂浮在液氮的面上,其示高杆远离漂浮底的一端自液氮罐的罐口伸出,示高杆伸出罐口的长度即代表液氮罐内面的高低。如此,检测者不需要手扶硬尺,也不需要另外操作手电筒进行打光,更不需要分辨,便可高效地完成测量工作。此外,测量装置相比于测量硬尺,还能够降低划伤液氮罐罐底的风险,进而减小测量对液氮罐的保温效果和使用寿命的影响。
  • 液面测量装置
  • [发明专利]单晶制造装置以及熔位置的控制方法-CN201680059722.1有效
  • 山田泰己;增田直树 - 信越半导体株式会社
  • 2016-09-20 - 2020-07-24 - C30B15/26
  • 本发明是一种单晶制造装置,其特征在于,其具有:测量原料熔的熔位置的至少两个以上不同的熔位置测量单元;基于测量的熔位置来控制熔位置的控制单元;以及判断在熔位置测量单元是否发生测量异常的判断单元,通过多个熔位置测量单元同时测量位置,从多个熔测量单元中选择一个采用于熔位置控制的熔位置测量单元,在通过判断单元判断为该选择的熔位置测量单元中发生了测量异常的情况下,采用于熔位置控制的熔位置测量单元切换为别的熔位置测量单元由此,提供一种单晶制造装置以及熔位置的控制方法,其即使在熔位置的测量中发生了测量异常的情况下,也能够稳定地进行熔位置的控制。
  • 制造装置以及液面位置控制方法
  • [发明专利]一种钻井环空监测方法及系统-CN202111409948.9有效
  • 胡中志;饶芯;崔学兵 - 四川轻化工大学
  • 2021-11-25 - 2023-08-11 - E21B47/047
  • 本发明提供一种钻井环空监测方法及系统,钻井环空监测方法包括:测量装置安装于钻杆元件上;测量装置按照钻杆元件的入井次序进行编号,得到编号信息;信号接收与处理装置设于钻井井筒外部;测量装置所处环境压力等于大气压时运行,发射代表所在钻杆元件的编号信息并且监测其它测量装置发射的编号信息;测量装置监测到先入井的测量装置发射的编号信息时,发射先入井的测量装置的编号信息;信号接收与处理装置接收来自多个测量装置的多组编号信息;信号接收与处理装置接收到的多组编号信息一致时,即可确定当前环空位置。本发明能快速确定环空位置,对及时发现井漏、保障钻井安全有积极作用。
  • 一种钻井液面监测方法系统
  • [实用新型]一种反应釜测装置-CN201320619723.0有效
  • 吴伟龙 - 安徽天地高纯溶剂有限公司
  • 2013-10-09 - 2014-05-07 - B01J19/00
  • 本实用新型属于化工生产中使用的反应釜领域,更具体的说涉及一种反应釜测量装置。一种反应釜测装置,其特征在于:所述测装置包括呈上下位置设置的两个计,所述计为翻版计,所述翻版计包括测量柱和柱,所述测量柱内设置有两不同颜色的磁翻版,测量柱外部设置有刻度标尺,所述柱内设置有磁性浮子。采用本实用新型技术方案,将两个计呈上下设置,便于测量较高较大的反应釜的,避免了传统的较高的反应釜在测量时的计太长而容易变形或折断的现象。
  • 一种反应液面装置
  • [发明专利]一种用于全封闭玻璃供料道的测量机构-CN202011600284.X在审
  • 李军葛;周莉;符有杰;郝霞;潘国治;林鸿剑;何长多 - 海南海控特玻科技有限公司
  • 2020-12-29 - 2021-03-19 - G01F23/14
  • 本发明提供一种用于全封闭玻璃供料道的测量机构,包括空间和测量组件,所述位空间连通有取孔和排料孔,所述取孔用于与密封料道连通,所述测量组件固定于所述位空间的上部,所述测量组件用于测量所述位空间的玻璃本发明通过空间连通密封料道,可将密封料道内的玻璃导入位空间内,测量组件实现对空间内的玻璃进行测量空间内玻璃所产生的因挥发或者设备故障造成的玻璃质量缺陷不会对密封料道内玻璃产生影响,既可实现对玻璃面的测量,也可保证后端成型玻璃的质量,排料孔可以定期对位空间内玻璃进行置换,同时还可以作为紧急故障的排料孔,保证生产工艺的稳定性。
  • 一种用于封闭玻璃供料液面测量机构
  • [发明专利]一种晶片稳定清洗控制方法-CN202210145158.2在审
  • 池泽龙;张俊宝;陈猛 - 上海超硅半导体股份有限公司;重庆超硅半导体有限公司
  • 2022-02-17 - 2023-08-29 - B08B3/08
  • 本发明涉及一种晶片稳定清洗控制方法,特别是晶片清洗过程中的补方法,包括溶液浓度测量模块、溶液测量模块、控制模组、清洗槽、溶液槽、供应计量泵,使用浓度测量模块和测量模块精准分时测量溶液浓度和高度,测量结果反馈给控制模组,当化学测量浓度或高度呈现较快下降趋势时,控制模组开启化学供应计量泵,进行补,与此同时,测量模块分时测量浓度并将测量数据反馈给控制模组,当测量值高于预先设定的浓度下限或下限且浓度保持在一定范围内稳定,补停止。本发明通过实时监控浓度和高度数据,当数据呈现下降趋势时,开始补,始终保持溶液浓度和高度在预设范围内,从而保证晶片清洗质量。
  • 一种晶片稳定清洗控制方法

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