专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]图像形成装置、图像形成方法和文档管理系统-CN201210309883.5有效
  • 鲸井康弘 - 佳能株式会社
  • 2012-08-28 - 2013-03-13 - G03G15/01
  • 该图像形成装置包括:日志获得单元,被配置为获得作为打印作业的执行历史的打印日志;彩色利用比率获得单元,被配置为从由所述日志获得单元获得的所述打印日志中获得彩色利用比率,所述彩色利用比率是执行过去的打印作业时的彩色色材利用的比率;确定单元,被配置为确定当由所述彩色利用比率获得单元获得的所述彩色利用比率等于或大于阈值时,进行混色校正和单色校正,而当所述彩色利用比率小于所述阈值时,进行所述单色校正,而不进行所述混色校正;以及校正单元
  • 图像形成装置方法文档管理系统
  • [发明专利]集成电路及其制造方法-CN98107770.6有效
  • 马赛厄斯·伊尔克;德克·托本;彼得·韦甘德 - 西门子公司
  • 1998-04-29 - 2004-07-21 - H01L21/768
  • 一种使半导体结构平面化的方法,半导体结构包括一具有高外观比率外形的第一表面区和一具有低外观比率外形的第二表面区。一流动材料沉积在结构的第一和第二表面区上。材料的一部分填入高外观比率外形的间隙内,从而在高外观比率外形上形成一基本上是平的表面。一掺杂层形成于流动材料之上。掺杂层沉积在高外观比率区和低外观比率区上。低外观比率区的上表面部分比流动材料的上表面部分高。第一和第二表面部分的上部被移去。
  • 集成电路及其制造方法
  • [发明专利]图像还原的方法-CN200810169961.X无效
  • 胡碧德 - 胡碧德
  • 2008-10-08 - 2009-05-13 - G09G5/00
  • 本发明公开了一种图像还原的方法,该方法主要包括步骤:A.计算显示器设备与显示分辨率的图像失真比率;B.根据所述图像失真比率将图像调整为原形状的图像失真比率的倍数;C.将所述调整后的图像输出到显示设备中进行显示其中,可以保持宽度比率不变,计算高度失真比率;也可以保持高度比率不变,计算宽度失真比率
  • 图像还原方法
  • [发明专利]显示装置-CN201410129580.4有效
  • 全丙起;崔溶锡;李柱亨;朴钟雄;梁铜彧 - 三星显示有限公司
  • 2014-04-01 - 2018-04-10 - G09G3/3208
  • 包括多个像素以根据经补偿的图像数据信号显示图像;测试数据输入部,将预定的测试图像数据信号发送到像素以显示测试图像;亮度测量单元,从显示测试图像的显示单元接收亮度信息并且用接收到的亮度信息确定第一颜色、第二颜色和第三颜色的实际亮度比率;补偿比率确定器,从每个颜色的实际亮度比率和参考亮度比率二者计算补偿比率;数据补偿器,通过根据补偿比率调节外部输入视频信号产生经补偿的图像数据信号。
  • 显示装置
  • [发明专利]多层电子组件和介电组合物-CN202210089214.5在审
  • 尹硕晛;金珍友;田仁浩;李朱熙 - 三星电机株式会社
  • 2022-01-25 - 2022-11-22 - H01G4/30
  • 所述多层电子组件包括:主体,包括介电层和内电极;以及外电极,设置在主体上并连接到内电极,其中,介电层包括第一晶粒和第二晶粒,其中,第一晶粒具有核‑壳结构,核‑壳结构包括核和壳,壳的2×Sn/(Ba+Ti+Sn)的原子比率或2×Hf/(Ba+Ti+Hf)的原子比率大于等于1.0%且小于等于5.0%,核的2×Sn/(Ba+Ti+Sn)的原子比率和2×Hf/(Ba+Ti+Hf)的原子比率小于1.0%,第二晶粒的2×Sn/(Ba+Ti+Sn)的原子比率和2×Hf/(Ba+Ti+Hf)的原子比率小于1.0%,其中,在第一晶粒和第二晶粒的总面积中由第一晶粒占据的面积比率为28.3%~82.3%。
  • 多层电子组件组合
  • [发明专利]靶材以及黑化膜-CN202310365619.1在审
  • 户塚巡;下村恭平 - 大同特殊钢株式会社
  • 2023-04-07 - 2023-10-20 - C23C14/34
  • 本发明涉及一种溅射用靶材,具有由CuaNibCoc表示的组成,a以at%表示Cu的比率、b以at%表示Ni的比率、c以at%表示Co的比率,a+b+c=100、0.30≤a/(a+b+c)≤0.70、10≤b≤65、0.1≤c;以及一种黑化膜,由组成由(CuaCoc)100‑xOx表示的金属氧化物构成,a以at%表示Cu的比率、b以at%表示Ni的比率、c以at%表示Co的比率、x以at%表示O的比率,其特征在于,a+b+c=100、0.30≤a/(a+b+c)≤0.70、10≤b≤65、0.1≤c、30≤x≤50。
  • 以及黑化膜

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