专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于制备含氟聚合杂合复合材料的方法-CN201380056356.0在审
  • A.弗拉彻;J.K.塔塔;G.卡米诺;G.贝萨纳;J.A.阿布斯勒梅 - 索尔维公司
  • 2013-10-22 - 2015-07-15 - C08J3/20
  • 本发明涉及一种用于制备含氟聚合杂合的有机/无机复合材料的方法,该方法包括:(i)在水性介质存在下,使具有下式(I)的金属部分水解和/或缩聚:X4-mAYm,其中X是烃基,Y是选自由烷氧基、酰氧基和羟基组成的组的水解基团,A是选自由Si、Ti和Zr组成的组的金属,并且m是从1至4的整数,以便获得包含预凝胶化的金属[化合(M)]的水性介质,该金属包含一个或多个由≡A-O-A≡键组成的无机结构域和一个或多个残留的水解基团Y,并且然后(ii)使官能含氟聚合[聚合(F)]的羟基的至少一部分与所述预凝胶化的金属[化合(M)]的水解基团Y的至少一部分以熔融状态反应,以便获得含氟聚合杂合的有机/无机复合材料。本发明还涉及所述含氟聚合杂合的有机/无机复合材料在若干应用中的用途。
  • 用于制备聚合物复合材料方法
  • [发明专利]碳分析方法-CN201680045442.5有效
  • 田口裕务 - 东亚合成株式会社
  • 2016-07-22 - 2021-02-12 - G01N31/00
  • 本发明的碳分析方法的特征在于,使含有具有水解性的卤化金属和有机成分的原料与纯水混合,使卤化金属水解,形成水解后,回收得到的水解和上述有机成分的混合,通过对该混合进行碳分析,得到碳量。另一本发明的碳分析方法的特征在于,用纯水使具有水解性、含有卤原子和碳原子的金属水解,形成含有碳原子的水解后,对得到的水解进行碳分析,得到碳量。
  • 分析方法
  • [发明专利]复合金属氧化用原料组合-CN200610145962.1无效
  • 木岛健;滨田泰彰;上野真由美 - 精工爱普生株式会社
  • 2006-11-28 - 2007-07-04 - C04B35/01
  • 本发明提供了在液相法中,组成控制性良好的用于形成复合金属氧化的原料组合。复合金属氧化用原料组合是用于形成复合金属氧化的原料组合,所述复合金属氧化用通式AB1-xCxO3表示,A元素至少包括Pb,B元素包括Zr、Ti、V、W以及Hf的至少一种,C元素包括Nb以及Ta的至少一种,所述原料组合包括:热分解性有机金属水解性有机金属、以及水解性有机金属的部分水解及/或缩聚的至少一种;聚羧酸及聚羧酸酯的至少一种;以及有机溶剂,其中,该热分解性有机金属含有所述A元素、所述B元素或所述C元素,该水解性有机金属含有所述A元素、所述B元素或所述C元素。
  • 复合金属氧化物原料组合
  • [发明专利]抗蚀剂图案金属工艺用组合-CN202080032980.7在审
  • 柴山亘;武田谕;志垣修平;石桥谦;加藤宏大;中岛诚 - 日产化学株式会社
  • 2020-03-27 - 2021-12-10 - G03F7/20
  • 本发明的课题是提供一种组合以及使用该组合的抗蚀剂图案的金属方法,其能够通过使抗蚀剂图案的抗蚀剂金属来改善抗蚀剂图案的粗糙度或塌陷,并提高耐蚀刻性。本发明是一种用于抗蚀剂图案金属工艺的组合以及使用该组合提供于抗蚀剂中渗透有前述组合成分的抗蚀剂图案的抗蚀剂图案金属方法,所述组合含有(A)成分:选自金属氧化(1)、水解性硅烷化合(2)、前述水解性硅烷化合水解(3)、及前述水解性硅烷化合水解缩合(4)中的至少一种;(B)成分:不含有羧基(‑‑COOH)的酸化合;及(C)成分:水性溶剂。
  • 抗蚀剂图案金属化工艺组合
  • [发明专利]二氧化硅系被膜形成用组合-CN200680011763.X有效
  • 饭田启之;高滨昌 - 东京应化工业株式会社
  • 2006-03-16 - 2008-04-02 - C09D183/04
  • 本发明的二氧化硅系被膜形成用组合,含有硅氧烷聚合和碱金属。作为该硅氧烷聚合,优选具有水解性基团的硅烷化合水解缩合。作为上述碱金属的碱金属,可使用钠、锂、钾、铷和铯等。另外,作为上述碱金属,可列举上述碱金属的硝酸盐、硫酸盐、碳酸盐、氧化、氯化、溴化物、氟化、碘化、氢氧化的等。该二氧化硅系被膜形成用组合也可以含有空穴形成用材料。作为该空穴形成用材料,可使用选自聚亚烷基二醇及其末端烷基化的一种以上。
  • 二氧化硅系被膜形成组合

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