专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]涡轮叶片内部针肋凹陷复合冷却结构-CN200910053749.1无效
  • 饶宇;臧述升 - 上海交通大学
  • 2009-06-25 - 2009-11-18 - F01D5/18
  • 本发明涉及一种涡轮叶片内部针肋凹陷复合冷却结构,包括:叶片流道、针肋,其特征在于,还包括凹陷,叶片流道内设有针肋,叶片流道至少一个内壁面上设有凹陷,所述凹陷在叶片流道内差排布置,凹陷形状为半球形、或半球形的一部分凹陷使冷却流体流过时,产生涡流,提高了气流与叶片流道壁面以及针肋表面的对流换热效果;同时,气流流过凹陷时,减少了流体下游对针肋的直接撞击,从而避免了流动损失的增大,同时也增大了热交换的面积。
  • 涡轮叶片内部凹陷复合冷却结构
  • [发明专利]一种针对凹陷型护栏立柱内部物的清除设备-CN202110380975.1有效
  • 苏兰 - 北京琅珑科技有限公司
  • 2021-04-09 - 2022-11-11 - E01H1/00
  • 本发明涉及道路施工技术领域,具体为一种针对凹陷型护栏立柱内部物的清除设备。一种针对凹陷型护栏立柱内部物的清除设备,包括机架,所述机架左侧下部设置有辅助腔,本设备能够通过逐渐缩小挤压轮之间的距离,使其中心处的立柱被限制,并配合其转动,会将因中部外凸的立柱逐渐挤回原位,从而使立柱恢复,进而便于将立柱内因凹陷而无法取出的泥土等物进行取出,此种方式一改传统通过外部敲击或摔打护栏立柱的方式来进行内部泥土的取出,也很大程度的保护了立柱不被破坏,能够进行二次利用;还能够将被立柱矫正装置处理过后的立柱内部的物质进行清理
  • 一种针对凹陷护栏立柱内部清除设备
  • [发明专利]凹陷-CN201410121527.X在审
  • 范光平 - 范光平
  • 2014-03-28 - 2015-09-30 - E05B19/24
  • 一种凹陷贴,包括:钥匙本体、钥匙手柄、矩形凹陷区、卡槽按顺序连接,矩形凹陷区在钥匙手柄处,卡槽在矩形凹陷区两侧,把标签卡纸推入卡槽,在纸片上标签所需内容。
  • 凹陷
  • [外观设计]鞋底(凹陷)-CN202230846011.7有效
  • 戚建强 - 戚建强
  • 2022-12-18 - 2023-04-07 - 02-04
  • 1.本外观设计产品的名称:鞋底(凹陷)。2.本外观设计产品的用途:鞋底。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:主视图。
  • 鞋底凹陷
  • [实用新型]一种表面凹陷纹理瓷质砖-CN201921039184.7有效
  • 吴华锦 - 佳辉(福建)陶瓷有限公司
  • 2019-07-05 - 2020-05-12 - E04F13/072
  • 本实用新型公开了一种表面凹陷纹理瓷质砖,包括瓷质砖本体和防尘条,防尘条设置在瓷质砖本体的上方,瓷质砖本体的顶部开设有若干个纵向凹陷纹理和横向凹陷纹理,防尘条由若干个纵向封条和横向封条组成,纵向封条粘接在纵向凹陷纹理的内部,横向封条粘接在横向凹陷纹理的内部,本实用新型一种表面凹陷纹理瓷质砖通过在瓷质砖本体表面开设的纵向凹陷纹理和横向凹陷纹理,可以增大瓷质砖本体表面的摩擦力,并且通过设置在纵向凹陷纹理和横向凹陷纹理内部粘接的防尘条,可以有效的防止灰尘积累在凹陷纹理的内部,同时防尘条粘接在凹陷纹理的内部,可以便捷的对其进行取出清理,省时省力。
  • 一种表面凹陷纹理瓷质砖
  • [发明专利]凹陷结构的刻蚀方法以及凹陷结构-CN202010434386.2在审
  • 林昱佑 - 广东汉岂工业技术研发有限公司
  • 2020-05-20 - 2021-11-26 - H01L21/308
  • 本发明涉及一种凹陷结构的刻蚀方法,包括步骤S1、对基板进行第一次刻蚀以形成第一刻蚀结构;步骤S2、采用沉积材料在所述第一刻蚀结构的侧壁和底部上形成沉积层;步骤S3、破坏所述第一刻蚀结构的底部的所述沉积层;步骤S4、在所述第一刻蚀结构的底部进行第二次蚀刻以形成所述凹陷结构。本发明还涉及采用该凹陷结构的刻蚀方法所制备的凹陷结构。本发明通过将凹陷结构的刻蚀步骤划分成两个或以上的刻蚀步骤,在每两个刻蚀步骤之间添加沉积步骤,直至达到刻蚀步骤,可以有效保护基板侧壁,从而获得开口小且成品率高的凹陷结构。
  • 凹陷结构刻蚀方法以及

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