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[发明专利]微沟槽电火花加工工具电极及其制备方法-CN201710348594.9有效
发明人：伍晓宇;雷建国;吴稳;伍博;鲁艳军;徐斌 -专利权人：深圳大学
申请日： 2017-05-17 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： B23H1/04 文献下载
摘要：本发明揭示了一种微沟槽电火花加工工具电极及其制备方法，微沟槽电火花加工工具电极包括层叠贴合连接的表皮导电层、低电阻率导电层和高电阻率导电层，且贴合后的厚度端面为加工面；低电阻率导电层与高电阻率导电层设有多层，表皮导电层设有两层；两个表皮导电层分别位于层叠的低电阻率导电层和高电阻率导电层的两个侧壁；低电阻率导电层与高电阻率导电层间隔设置；且，两个表皮导电层内部分别贴紧设有高电阻率导电层。每个低电阻率导电层都由两个高电阻率导电层包夹；提高了微沟槽电火花加工工具电极的刚度；且高电阻率导电层比低电阻率导电层损耗大得多，使得低电阻率导电层始终保持有足够的长度，进而具有自修整能力，使用寿命更长。
沟槽电火花加工工具电极及其制备方法

[发明专利]导电膜及其制造方法以及具有该导电膜的基材-CN02823880.X无效
发明人：猪熊久夫;阿部启介;真田恭宏 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2002-12-04 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明提供一种使导电性提高、抑制导电性经时降低、反射率和耐磨损性不减弱并且兼具低反射机能的低反射导电膜及着色低反射导电膜及其制造方法和具有上述膜的基材。上述低反射导电膜至少由含导电性微粒的导电膜和形成在上述导电膜上的、折射率低于上述导电膜的低折射率膜2层膜构成，在上述导电膜中含有降电阻材料。上述低反射导电膜的制造方法是通过在基体上涂布含导电性微粒的导电膜形成用涂布液，其后再涂布含降电阻材料的低折射率膜形成用涂布液来形成低反射导电膜的方法。
导电及其制造方法以及具有基材

[发明专利]低电阻率水性导电丝网油墨-CN201310346860.6有效
发明人：袁国林;张世范;张妤;孟庆飞;蒋军华;孙明珠 -专利权人：中钞油墨有限公司;中国印钞造币总公司
申请日： 2013-08-09 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： C09D11/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种低电阻率水性导电丝网油墨，以水性油墨连结料为载体，同时含有无机导电材料与有机高分子导电材料。本发明降低了油墨印刷成膜后的电阻率，减少了油墨使用量，降低器件制造成本；降低了油墨粘度，提高了油墨的流动性与转移的印刷适应性，解决了高导电填料含量油墨成膜干燥后容易出现空隙与缺陷的问题。
电阻率水性导电丝网油墨

[发明专利]透明导电膜层叠用薄膜及其制造方法、以及透明导电性薄膜-CN201610115875.5有效
发明人：星野弘气;户高昌也;大類知生;所司悟 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2016-03-01 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明提供一种能够不易辨识透明导电膜的图案，且能够将透明导电膜的电阻值设定为所期望的值，并且在低折射率层的表面设置线路等时的加工性优异的透明导电膜层叠用薄膜、及使用该透明导电膜层叠用薄膜来制造的透明导电性薄膜本发明的透明导电膜层叠用薄膜(1)具备透明塑料基材(2)及低折射率层(4)，该低折射率层(4)设置在所述透明塑料基材(2)的至少一面侧，所述透明导电膜层叠用薄膜(1)的特征在于，所述低折射率层(4)的折射率为1.30～1.50，所述低折射率层(4)的表面积增加率为5％以下，所述低折射率层(4)的表面自由能为25.0～100mJ/m²，所述低折射率层(4)的厚度为2～70nm。
透明导电层叠薄膜及其制造方法以及导电性

[发明专利]一种低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法-CN202010708975.5有效
发明人：刘楷楷;董红星 -专利权人：宁波惠之星新材料科技有限公司
申请日： 2020-07-22 - 公布日： 2022-03-25 - 主分类号： C09D175/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法，其低水接触角高折射率硬化液包括高耐磨高硬度树脂、高折射率填料、分散剂、光引发剂、有机溶剂和可重涂流平剂；其低水接触角高折射率硬化液制备ITO导电膜的方法，包括以下步骤：步骤S001，选取合适的基材；步骤S002，制备低水接触角高折射率硬化液；步骤S003，涂布低水接触角高折射率层；将低水接触角高折射率硬化液涂布在基材上，并经UV固化后形成低水接触角高折射率层；步骤S004，溅射ITO导电层；在低水接触角高折射率层上溅射ITO导电层形成ITO导电膜；本发明提供了低水接触角高折射率硬化液及其制备ITO导电膜的方法，克服了现有ITO导电膜制备效果差以及制备工艺繁琐的缺陷
一种接触角折射率硬化及其制备 ito 导电方法

[发明专利]一种具有高导电覆盖率的柔性透明电极及其制备方法-CN202011595327.X有效
发明人：黄亦龙;杨东升;刘炎;黄圆;高辉 -专利权人：南京国博电子股份有限公司;南京国微电子有限公司
申请日： 2020-12-29 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有高导电覆盖率、低表面粗糙度的柔性透明电极的制备方法，属于柔性电子技术领域。具有高导电覆盖率、低表面粗糙度的柔性透明电极包含柔性透明高分子，以及镶嵌在柔性透明高分子表面几十纳米范围内的复合导电网络。本发明公开的具有高导电覆盖率、低表面粗糙度的柔性透明电极兼具高导电覆盖率、低表面粗糙度、高导电性、高透光性和高柔性的优点，导电覆盖率达到60%，表面粗糙度低至1.72nm，透光率达到85%，方阻达到15.7Ω
一种具有导电覆盖率柔性透明电极及其制备方法

[实用新型]导电玻璃-CN201620148284.3有效
发明人：马志锋;杜晓峰;刘玉华 -专利权人：宜昌南玻显示器件有限公司
申请日： 2016-02-26 - 公布日： 2016-08-10 - 主分类号： C03C17/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种导电玻璃。一种导电玻璃，所述导电玻璃包括玻璃基板，所述玻璃基板具有相对的第一表面和第二表面，所述导电玻璃还包括高折射率光学介质层。低折射率光学介质层及导电层，所述第一表面为具有防眩光功能的表面，所述高折射率光学介质层及所述低折射率光学介质层依次层叠于所述第二表面，所述导电层形成于所述低折射率光学介质层的表面。上述导电玻璃具有防眩功能且透光率较高。
导电玻璃

[发明专利]透明导电膜层叠用膜、其制造方法及透明导电性膜-CN201310158896.1有效
发明人：荒添铁也;大类知生;所司悟 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2013-03-01 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种透明导电膜层叠用膜，其包含透明基体材料、(A)低折射率层和(B)高折射率层，其特征在于，在上述透明基体材料的至少一面层叠上述(A)低折射率层，在上述(A)低折射率层上进一步层叠上述(B)高折射率层，上述(B)高折射率层的折射率比上述(A)低折射率层的折射率高0.2以上。根据本发明的透明导电膜层叠用膜，提供在可见光的短波长区域的透射率高、透明导电膜的层叠部分不明显的触摸面板用透明导电性膜，特别是用于静电容量方式触摸面板的透明导电性膜及用于提供上述透明导电性膜的透明导电膜层叠用膜
透明导电层叠制造方法导电性

[实用新型]一种消影透明导电膜-CN202122616277.5有效
发明人：司荣美;汤倩 -专利权人：天津宝兴威科技股份有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：一种消影透明导电膜，包括基板、高折射率层、功能层、低折射率层和透明导电层，基板的上表面设置有高折射率层，高折射率层的上表面设置有功能层，功能层的上表面设置有低折射率层，低折射率层的上表面设置有透明导电层，透明导电层的上表面设置有阻燃层，基板为柔性透明基板，基板的下表面设置有由UV固化型丙烯酸制成的增硬层。本实用新型高折射率层的折射率远远大于低折射率层的折射率，经过功能层折射率的逐渐变化，进而使得高折射率层和低折射率层的相互配合组成消影层，该消影层与透明导电层相互配合，使ITO导电膜刻蚀前后的反射差小于0.5
一种透明导电

[实用新型]低收缩率、高导电率的复合金属材料-CN201320566263.X有效
发明人：李伟 -专利权人：天津天佑润德新材料科技有限公司
申请日： 2013-09-11 - 公布日： 2014-04-30 - 主分类号： B32B15/04 文献下载
摘要：本实用新型属于复合金属材料技术领域，具体涉及一种低收缩率、高导电率的复合金属材料，包括金属材料层，其特征在于还包括有机高分子层、石墨层、陶瓷材料层，所述石墨层设置在所述金属材料层的上、下表面，所述有机高分子层设置在所述金属材料层的一侧本实用新型的有益效果为：利用石墨层增加了复合材料的导热性能，有机高分子层能有效增加材料的防腐蚀性、防锈性，表面陶瓷材料层的设置使材料再冷热环境中反复使用时收缩率变化不大。
收缩导电复合金属材料

[发明专利]一种消影透明导电膜-CN201310125495.6有效
发明人：朱选敏;彭育华;段柯州 -专利权人：红安华州光电科技有限公司
申请日： 2013-04-11 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本发明公开了一种消影透明导电膜，消影透明导电膜附在透明基材上，消影透明导电膜是至少包含有高折射率层、低折射率层和透明导电膜。高折射率层波长在550nm，折射率指数在2.1-2.4的膜层材料；低折射率层波长在550nm，折射率指数在1.4-1.5膜层材料；透明导电膜波长在550nm，折射率指数在1.79-1.95透明导电的膜层材料在透明基材的其中一面与透明基材向外依次连接高折射率层、低折射率层，低折射率层分别与最外层的透明导电膜、高折射率层相连。此发明膜层结构简单，使用方便，消影透明导电膜的各膜层的厚度小，生产工艺简便，特别是适合于在大面积连续磁控溅射镀膜生产线上实现。具有光学消影的效果，同时适合实现连续大面积批量生产。
一种透明导电

[实用新型]高透过消影导电玻璃-CN201420450152.7有效
发明人：徐根保;蒋继文;张宽翔;姚婷婷;曹欣;杨勇;金克武 -专利权人：中国建材国际工程集团有限公司;蚌埠玻璃工业设计研究院
申请日： 2014-08-11 - 公布日： 2015-03-18 - 主分类号： B32B17/06 文献下载
摘要：一种高透过消影导电玻璃，包括沿垂直方向依次层叠的玻璃基板，折射率匹配层，和透明导电膜层，所述折射率匹配层由高折射率层，折射率渐变层，及低折射率层组成，所述折射率渐变层沿垂直方向位于所述高折射率层和所述低折射率层之间，所述高折射率层与所述玻璃基板相连，所述低折射率层连接至所述透明导电膜层。所述折射率匹配层由SiOxNy构成，所述SiOxNy为SiO₂和Si₃N₄的中间相。采用此种结构的消影导电玻璃，透明导电电极区域和刻蚀区域透过率差值在0.5％以下，并且整个消影导电玻璃的反射率降至5％以下，在实现消影的同时，大幅度的提高了其光学透过率。
透过导电玻璃

[实用新型]一种导电玻璃-CN201721337984.8有效
发明人：胡春和 -专利权人：中科和盛光电有限公司
申请日： 2017-10-18 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种导电玻璃，包括滑槽、导电金属管、玻璃基板、低折射率膜层、消影层、导电层、高折射率膜层和防眩光层，所述玻璃基板的一侧安装有低折射率膜层，且玻璃基板的另一侧设置有消影层，所述玻璃基板一侧的中间位置处设置有滑槽本实用新型通过置有真空腔、导电金属管和微型导电管，使得在导电效率上更加快速，且传输的电量不易流失，同时设置有高折射率膜层和低折射率膜层，使得在使用时高折射率膜层和低折射率膜层相互配合，可以实现减反射的效果，提高透光率。
一种导电玻璃

[实用新型]一种消影透明导电膜-CN201320180691.9有效
发明人：朱选敏;彭育华;段柯州 -专利权人：红安华州光电科技有限公司
申请日： 2013-04-11 - 公布日： 2013-10-30 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种消影透明导电膜，消影透明导电膜附在透明基材上，消影透明导电膜是至少包含有高折射率层、低折射率层和透明导电膜。高折射率层波长在550nm，折射率指数在2.1-2.4的膜层材料；低折射率层波长在550nm，折射率指数在1.4-1.5膜层材料；透明导电膜波长在550nm，折射率指数在1.79-1.95透明导电的膜层材料在透明基材的其中一面与透明基材向外依次连接高折射率层、低折射率层，低折射率层分别与最外层的透明导电膜、高折射率层相连。此实用新型膜层结构简单，使用方便，消影透明导电膜的各膜层的厚度小，生产工艺简便，特别是适合于在大面积连续磁控溅射镀膜生产线上实现。具有光学消影的效果，同时适合实现连续大面积批量生产。
一种透明导电

[发明专利]发光二极管芯片-CN201510023123.1有效
发明人：吕志轩;陈誉云;林永鑫;李芳仪;潘锡明 -专利权人：晶元光电股份有限公司
申请日： 2015-01-16 - 公布日： 2017-12-22 - 主分类号： H01L33/14 文献下载
摘要：本发明揭示了一种发光二极管芯片，包括自下而上设置的第一型半导体层、发光层、第二型半导体层、电流阻挡层，以及透明导电层和电极；透明导电层位于第二型半导体层上，且覆盖电流阻挡层；电极位于与电流阻挡层相对应的透明导电层上；电流阻挡层包括多个高折射率层以及多个低折射率层，且高折射率层与低折射率层交互堆栈，高折射率层包括第一高折射率层与第二高折射率层，低折射率层包括低折射率底层，位于第二型半导体层与第一高折射率层之间；第一低折射率层，位于第一高折射率层与第二高折射率层之间；以及第二低折射率层，位于第二高折射率层与透明导电层之间，且低折射率底层的厚度大于其他低折射率层与高折射率层的厚度。
发光二极管芯片

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