专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]LED拼接-CN202121934355.X有效
  • 张光明 - 深圳市众联智强科技有限公司
  • 2021-08-18 - 2022-03-11 - G09F9/302
  • 本实用新型提供一种LED拼接屏,由至少两块子LED屏拼接形成,还包括透光件,相邻两块子LED屏在拼接位置的发光面上形成拼接通道,透光件设置在拼接通道中。本实用新型由于采用了透光件,当两个子LED屏拼接时,透光件设置在拼接通道中,LED拼接屏显示画面时,在拼接位置上,透光件会遮挡住LED灯发出的部分光,使得拼接位置上不会产生很强的光线,具有结构简单和观看效果好等优点
  • led拼接
  • [发明专利]掩膜板、拼接曝光方法及基板-CN201911366617.4有效
  • 张振宇;顾维杰;马晓飞;陈亚坤 - 云谷(固安)科技有限公司
  • 2019-12-26 - 2023-06-20 - G03F1/38
  • 本发明涉及一种掩膜板、拼接曝光方法及基板,包括:第一掩膜板,具有第一遮光区,第一遮光区包括在第一方向上相互连接的第一拼接段及第一拼接段;第二掩膜板,具有第二遮光区,第二遮光区包括在第一方向上相互连接的第二拼接段及第二拼接段;第一拼接段与第二拼接段在第二方向上的线宽相等,第一拼接段在待曝光膜层所在平面形成的在先投影和第二拼接段在待曝光膜层所在平面形成的在后投影在第二方向上错位;第一拼接段与第二拼接段至少一者的线宽大于第一拼接段的线宽
  • 掩膜板拼接曝光方法
  • [发明专利]一种大尺寸拼接产品曝光方法-CN201710190123.X有效
  • 李飞;吴鹏;郑海昌 - 上海华力微电子有限公司
  • 2017-03-27 - 2018-08-28 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种大尺寸拼接产品的曝光方法,包括以下步骤:将光罩划分为六个区域;在晶圆上选择出功能部分和功能部分,所述功能部分由完整功能单元拼接曝光而成,功能部分由完整功能单元拼接曝光而成;拼接曝光完整功能单元;拼接曝光完整功能单元;将晶圆中功能部分和功能部分全部拼接曝光,其中非完整功能单元和完整功能单元尺寸相同,但曝光次数远远小于完整功能单元的曝光次数。本发明提供的一种大尺寸拼接产品曝光方法,具有减少曝光次数,改善套刻精读和拼接对准,避免遮光带形成长线的优良特性。
  • 一种尺寸拼接产品曝光方法
  • [发明专利]一种拼接发光屏体-CN202210872286.7在审
  • 朱映光;张国辉;胡永岚;李栋栋;陈旭;王静 - 淮北翌光科技有限公司
  • 2022-07-20 - 2022-10-11 - H01L51/52
  • 本发明公开了一种拼接发光屏体,该拼接发光屏体包括:至少两个发光屏体单元;发光屏体单元包括第一拼接部件、发光衬底、发光单元层、封装层和第二拼接部件;发光衬底位于第一拼接部件的一侧;发光单元层位于发光衬底远离第一拼接部件的一侧;封装层位于发光单元层远离发光衬底的一侧;第二拼接部件位于封装层远离发光单元层的一侧;封装层和发光衬底均位于发光屏体单元的发光区和发光区;发光区围绕发光区;第一拼接部件的至少部分和第二拼接部件的至少部分位于发光区;一发光屏体单元的发光区中的第一拼接部件与其他的发光屏体单元的发光区中的第二拼接部件粘扣连接。本发明提供的拼接发光屏体,结构简单,便于拼接和拆卸。
  • 一种拼接发光
  • [发明专利]拼接显示装置-CN202210710895.2有效
  • 范勇平 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2022-06-22 - 2023-10-17 - G09F9/302
  • 本申请公开一种拼接显示装置,拼接显示装置包括:至少两个拼接连接的第一显示单元,第一显示单元具有显示区;以及第二显示单元,位于第一显示单元的出光侧,吸附固定于相邻两个第一显示单元拼接处的显示区。通过第二显示单元吸附固定于相邻两个第一显示单元拼接处的显示区,以提高第二显示单元固定于相邻两个第一显示单元拼接处的显示区的平整度,进而提高拼接显示装置的显示效果。
  • 拼接显示装置
  • [发明专利]一种图像拼接测试方法、装置、设备和存储介质-CN201910810280.5有效
  • 潘胜军 - 浙江宇视科技有限公司
  • 2019-08-29 - 2022-05-17 - H04N17/00
  • 本发明实施例公开了一种图像拼接测试方法、装置、设备和存储介质。其中,方法包括:实时拍摄实平面中的两个实体或实体,并将拍摄到的图像进行拼接;重复执行上述操作,直到拼接后的图像中两个实体或实体上的指定点重合为止;其中在两个实体或实体上的指定点重合时,两个实体或实体上的指定点为图像拼缝上目标点的两个等效点;确定两个实体或实体上的指定点之间的距离,并结合多目拼接设备的参数,计算目标点到多目拼接设备的最佳拼接距离。本发明实施例通过测量实平面中拼缝点的等效实体或实体之间的距离,并集合设备参数即可完成拼缝点最佳拼接距离的测试,无需实景测试,减少测试人力,提高测试精度。
  • 一种图像拼接测试方法装置设备存储介质
  • [发明专利]拼接亮暗线处理方法、装置及计算机可读存储介质-CN202210622282.3在审
  • 李松霖;马莉 - 利亚德光电股份有限公司
  • 2022-06-02 - 2022-08-30 - G09G3/32
  • 本发明公开了一种拼接亮暗线处理方法、装置及计算机可读存储介质。其中,该方法包括:获取第一校正数据文件和第二校正数据文件;基于第一校正数据文件确定第一矩形模组的第一边缘像素点,以及基于第二校正数据文件,确定第二矩形模组的第二边缘像素点;基于第一矩形模组的第一边缘像素点,确定第一矩形模组的第一拼接像素点,以及基于第二矩形模组的第二边缘像素点,确定第二矩形模组的第二拼接像素点;通过调整第一拼接像素点的校正数据以及第二拼接像素点的校正数据,对第一矩形模组与第二矩形模组拼接处的亮暗线进行亮度补偿处理本发明解决了相关技术中对规则形状的模组拼接处的进行亮暗线调整效率过低的技术问题。
  • 拼接暗线处理方法装置计算机可读存储介质
  • [实用新型]一种拼接式反射罩及其背光模组-CN202122241785.X有效
  • 张小齐;吴新理;庞春果 - 深圳市隆利科技股份有限公司
  • 2021-09-15 - 2022-04-26 - F21V7/00
  • 本实用新型公开了一种拼接式反射罩及其背光模组,该拼接式反射罩包括若干相邻设置的反射罩单元,反射罩单元包括拼接区域以及连接于拼接区域两相对侧的第一拼接部和第二拼接部;相邻两反射罩单元的第一拼接部与第二拼接部叠设形成拼接区域,拼接区域的高度与拼接区域的高度相同,确保了拼接后反射罩的上下表面均平齐,避免拼接区域影响影响反射罩的使用效果。应用拼接式反射罩以满足大尺寸反射罩使用需求的背光模组,由于相邻两反射罩单元的拼接区域重叠拼接,可避免拼接式反射罩的连接处不连续以及拼接式反射罩拼接处翘曲脱落、移位或开裂的问题,从而确保背光模组具有较佳的使用效果
  • 一种拼接反射及其背光模组
  • [发明专利]像素结构及具有该像素结构的显示面板-CN202110599155.1在审
  • 卢景怡 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2021-05-31 - 2021-08-31 - G02F1/1362
  • 本申请提供一种像素结构及具有该像素结构的显示面板,通过将3T像素结构中用于控制次像素区域亮度的第一薄膜晶体管中至少设置两条沟道,从而增加了第一薄膜晶体管的沟道的数量,也增大了由于曝光机在棱镜拼接处与棱镜拼接处的曝光量差异导致的拼接处的第一薄膜晶体管的沟道宽度的变化量,从而减少了第二薄膜晶体管的宽长比与第一薄膜晶体管的宽长比之间的比值在拼接处与拼接处之间的差异,因此降低了拼接处与拼接处的次像素区域的亮度的差异,即降低了拼接处与拼接处的像素单元的整体亮度的差异,
  • 像素结构具有显示面板

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