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[实用新型]晶圆镀镍用的辅助装置以及晶圆镀镍设备-CN202223059731.2有效
发明人：孙文杰;孙雪峰;谭笑;肖凌峰 -专利权人：晟盈半导体设备（江苏）有限公司
申请日： 2022-11-18 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及的晶圆镀镍用的辅助装置以及晶圆镀镍设备，该辅助装置包括辅助槽、进液管路、出液管路、镀镍液处理单元，其中镀镍液处理单元包括阳极、阴极、电源，镀镍液在进液管路、出液管路、辅助槽、镀镍槽之间循环流动，阳极和阴极同步浸没在位于辅助槽内的镀镍液中，且镀镍液中析出的杂质能够吸附于阴极上。本实用新型通过辅助槽和镀镍液处理单元构成一个独立的电解槽，将镀镍槽中的镀镍液引入辅助槽中实施电解反应以将有机污染物吸附于阴极上，这样一来，有效去除镀镍液中的杂质，优化晶圆表层镀镍质量；同时能够保持长期连续进行晶圆镀镍，从而降低停机更换和补充镀镍液的频率，简化操作，提高生产效率。
晶圆镀镍用辅助装置以及晶圆镀镍设备

[实用新型]镀镍槽-CN201420397782.2有效
发明人：朱中华 -专利权人：江阴市天宇镍网有限公司
申请日： 2014-07-18 - 公布日： 2014-12-10 - 主分类号： C23C18/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镀镍槽，包括内槽（1），内槽（1）外设有外槽（2），所述内槽（2）的内表面覆盖有一层绒布（3），绒布（3）与内槽（2）之间设有若干绒布袋，绒布袋内放置有镍珠；所述外槽（2）上还架设有一卷网辊（4），卷网辊（4）从内槽（1）上方穿过，所述卷网辊（4）的下方还连有一压杆（5），通过卷网辊（4）和压杆（5）在内槽（1）内对镍网的不同区域镀镍。通过本实用新型生产出来的镍网网孔更均匀，质量更好。
镀镍槽

[发明专利]一种实现化学镀镍镀层均匀性的装置及方法-CN201711436810.1有效
发明人：季宏飞;赵永;徐小敏;吴晓伟;周杨 -专利权人：合肥恒力装备有限公司
申请日： 2017-12-26 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： C23C18/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种实现化学镀镍镀层均匀性的装置及方法，包括化学镀镍槽，所述化学镀镍槽外侧设置有自动加药设备，所述自动加药设备的加药管设置于化学镀镍槽的侧壁，所述化学镀镍槽内设置有搅拌器；方法包括以下步骤：a.化学镀镍槽配好渡液后，启动搅拌器，启动过滤泵；b.化学镀镍槽槽壁设置阳极保护装置；c.将工件送入化学镀镍槽工作区，开始镀镍，同时启动自动加药设备维持镀液的主盐的浓度。本发明可以提供化学镀镍槽内温度、浓度均匀性，使化学镀镍溶液各组分的浓度维持在正常的工艺范围，从而实现化学镀镍镀层均匀性。
一种实现化学镀层均匀装置方法

[实用新型]一种带有除杂功能的镀镍在线回用设备-CN201621455346.1有效
发明人：蔡大牛;骆劲松;谢彬彬;叶圣武;刘航 -专利权人：南京源泉环保科技股份有限公司
申请日： 2016-12-28 - 公布日： 2017-09-08 - 主分类号： C02F9/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带有除杂功能的镀镍在线回用设备，包括镀镍槽液除杂系统、漂洗水收集箱、预处理系统、一段反渗透处理系统、二段反渗透处理系统、镀镍回收槽；镀镍槽液除杂系统包括树脂罐、镀镍槽液回收箱，树脂罐顶部入口与镀镍槽的出口连接，树脂罐底部出口经镀镍槽液回收箱与镀镍槽连接形成镀镍槽液的循环除杂系统。本实用新型设计合理，利用螯合树脂选择性的不同，有效去除镀镍槽液中的杂质金属离子，避免了杂质金属离子影响电镀产品的质量，大大降低了镀镍槽液大处理的频率。本实用新型对镀镍漂洗水进行浓缩处理，操作简单，能够有效地利用淡水资源，同时可以将镀镍浓水回用到电镀槽中，避免了贵金属资源的浪费，避免了环境污染。
一种带有功能在线设备

[实用新型]用于镭射工作版的镀镍池-CN201920211029.2有效
发明人：林加宝;沈五展;刘卫平 -专利权人：福建泰兴特纸有限公司
申请日： 2019-02-18 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于镭射工作版的镀镍池，包括装配于主机架上的镀镍池；镀镍池配置有镀镍进料传送带、镀镍传送带、镀镍液和镀镍中转传送带；所有传送带的表面固定装配有若干平行分布的U形卡槽，镀镍传送带的U形卡槽的至少一个内槽壁上固定装配有阴极电板，镀镍进料传送带向镀镍传送带传送每一镭射工作版时，镀镍传送带的U形卡槽在设定位置静止接收镭射工作版，镭射工作版接收完成后，镀镍传送带恢复传送。该镀镍池在镀镍的过程中，没有镭射信息的工作版底面与镀镍传动带相对紧密连接，进而有效减少该底面的镀镍处理而实现单面镀镍效果，降低生产成本，生产效率高，镀镍效果稳定。
用于镭射工作镀镍池

[实用新型]一种化学镀镍装置-CN201620403177.0有效
发明人：张振虎;何大瑞;何金坤 -专利权人：西安靖安特环境科技有限公司
申请日： 2016-05-06 - 公布日： 2016-09-28 - 主分类号： C23C18/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学镀镍装置，包括整体支架，所述整体支架上从前往后依次安装有除油槽、第一去离子水槽、活化槽、第二去离子水槽、冲击镀镍槽、第三去离子水槽、第一化学镀镍槽、第二化学镀镍槽、第四去离子水槽和热水槽本实用新型的化学镀镍装置，通过所述冲击镀镍槽和所述第一化学镀镍槽和所述第二化学镀镍槽三个镀镍槽体依次进行镀镍，使用两种不同的镀镍方式使得镀镍效果更为突出，而且使用多个去离子水槽对工件表面进行清洗，使得镀膜能够牢固、均匀地附着在工件表面，提高镀镍后得到的成品的质量。
一种化学装置

[实用新型]化学镀镍液的再生处理装置-CN00238015.3无效
发明人：黄岳山;岑人经 -专利权人：华南理工大学
申请日： 2000-08-17 - 公布日： 2002-01-09 - 主分类号： C23C18/36 文献下载
摘要：一种化学镀镍液的再生处理装置主要由化学泵、碳酸钙过滤床、沉淀槽、过滤泵通过管道依次连接构成,氨水补加槽向沉淀槽补加氨水,化学泵将化学镀镍槽中的镀镍液抽到碳酸钙过滤床,过滤泵将处理后的化学镀镍液送回化学镀镍槽本实用新型装置可减少或消除化学镀镍液中影响化学镀镍液寿命和镀层质量的副产物,防止化学镀镍液在使用过程中的老化,使化学镀镍液不断活化、再生,从而延长化学镀镍液的使用寿命,降低化学镀镍的生产成本。
化学镀镍液再生处理装置

[发明专利]镭射工作版镀镍装置-CN201910120499.2在审
发明人：林加宝;沈五展;刘卫平 -专利权人：福建泰兴特纸有限公司
申请日： 2019-02-18 - 公布日： 2019-04-23 - 主分类号： C25D5/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种镭射工作版镀镍装置，包括主机架及装配于主机架上的镀前清洗池、镀镍池、镀后清洗池；镀镍池配置有镀镍进料传送带、镀镍传送带、镀镍液和镀镍中转传送带；所有传送带的表面固定装配有若干平行分布的U形卡槽，镀镍传送带的U形卡槽的至少一个内槽壁上固定装配有阴极电板，镀镍进料传送带向镀镍传送带传送每一镭射工作版时，镀镍传送带的U形卡槽在设定位置静止接收镭射工作版，镭射工作版接收完成后，镀镍传送带恢复传送。该镀镍装置不需要配置任何的吊具结构，自动化程度高，人工介入率得到有效降低，结构简单，生产成本得到有效降低；能够大批量的被镀元件同步进行镀镍处理，生产效率高，镀镍效果稳定。
镀镍传送带工作版镭射进料传送带清洗池主机架装配传送表面固定吊具结构固定装配平行分布生产效率效果稳定阴极电板镀镍液内槽壁生产成本配置静止自动化恢复

[发明专利]用于镭射工作版的自动镀镍装置-CN201910120588.7在审
发明人：林加宝;沈五展;刘卫平 -专利权人：福建泰兴特纸有限公司
申请日： 2019-02-18 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： C25D19/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于镭射工作版的自动镀镍装置，包括主机架及装配于主机架上的镀前清洗池、镀镍池、镀后清洗池；镀镍池配置有镀镍进料传送带、镀镍传送带、镀镍液和镀镍中转传送带；所有传送带的表面固定装配有若干平行分布的U形卡槽，镀镍传送带的U形卡槽的至少一个内槽壁上固定装配有阴极电板，镀镍进料传送带向镀镍传送带传送每一镭射工作版时，镀镍传送带的U形卡槽在设定位置静止接收镭射工作版，镭射工作版接收完成后，镀镍传送带恢复传送该镀镍装置不需要配置任何的吊具结构，自动化程度高，人工介入率得到有效降低，结构简单，生产成本得到有效降低；能够大批量的被镀元件同步进行镀镍处理，生产效率高，镀镍效果稳定。
镀镍传送带工作版镭射进料传送带清洗池主机架装配传送表面固定吊具结构固定装配平行分布生产效率效果稳定阴极电板镀镍液内槽壁生产成本配置静止自动化恢复

[实用新型]镭射工作版镀镍装置-CN201920206782.2有效
发明人：林加宝;沈五展;刘卫平 -专利权人：福建泰兴特纸有限公司
申请日： 2019-02-18 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： C25D5/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种镭射工作版镀镍装置，包括主机架及装配于主机架上的镀前清洗池、镀镍池、镀后清洗池；镀镍池配置有镀镍进料传送带、镀镍传送带、镀镍液和镀镍中转传送带；所有传送带的表面固定装配有若干平行分布的U形卡槽，镀镍传送带的U形卡槽的至少一个内槽壁上固定装配有阴极电板，镀镍进料传送带向镀镍传送带传送每一镭射工作版时，镀镍传送带的U形卡槽在设定位置静止接收镭射工作版，镭射工作版接收完成后，镀镍传送带恢复传送该镀镍装置不需要配置任何的吊具结构，自动化程度高，人工介入率得到有效降低，结构简单，生产成本得到有效降低；能够大批量的被镀元件同步进行镀镍处理，生产效率高，镀镍效果稳定。
镭射工作版镀镍装置

[实用新型]用于镭射工作版的自动镀镍装置-CN201920206444.9有效
发明人：林加宝;沈五展;刘卫平 -专利权人：福建泰兴特纸有限公司
申请日： 2019-02-18 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： C25D19/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于镭射工作版的自动镀镍装置，包括主机架及装配于主机架上的镀前清洗池、镀镍池、镀后清洗池；镀镍池配置有镀镍进料传送带、镀镍传送带、镀镍液和镀镍中转传送带；所有传送带的表面固定装配有若干平行分布的U形卡槽，镀镍传送带的U形卡槽的至少一个内槽壁上固定装配有阴极电板，镀镍进料传送带向镀镍传送带传送每一镭射工作版时，镀镍传送带的U形卡槽在设定位置静止接收镭射工作版，镭射工作版接收完成后，镀镍传送带恢复传送该镀镍装置不需要配置任何的吊具结构，自动化程度高，人工介入率得到有效降低，结构简单，生产成本得到有效降低；能够大批量的被镀元件同步进行镀镍处理，生产效率高，镀镍效果稳定。
用于镭射工作自动装置

[实用新型]半导体均匀镀镍装置-CN202123208971.X有效
发明人：张少阳;高翔鹰 -专利权人：苏州芯矽电子科技有限公司
申请日： 2021-12-20 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： C25D17/00 文献下载
摘要：本实用新型揭示了一种半导体均匀镀镍装置包括机架，所述机架两端支杆底部设置有抛动机构，所述机架上设置有水浴槽，所述水浴槽内通过恒温机构/加热机构+温度感应机构控制水浴槽内水温，所述水浴槽的内部设置有镀镍槽，所述水浴槽与镀镍槽连接支杆，并随所述支杆做抛动运动，所述镀镍槽内设置有用于固定半导体的定位机构，所述镀镍槽内还设置有防镍析出机构。本方案通过抛动机构在镀镍过程中使产品与镀镍液充分均匀地接触，同时通过水浴槽对镀镍液稳定地进行水浴加热，确保镀镍液的稳定性，保证产品镀镍层的均匀性和稳定性。
半导体均匀装置

[实用新型]一种含镍清洗废水槽边镍回收和纯水回用系统-CN202020824638.8有效
发明人：张甬波;余潇露 -专利权人：浙江捷斯安环保科技有限公司
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： C02F9/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种含镍清洗废水槽边镍回收和纯水回用系统，包括含镍废水储罐、微过滤器、吸附镍树脂罐、脱盐树脂罐、纯水储罐、液碱储罐、酸储罐、镍回收浓液罐、第一镀镍水洗槽、第二镀镍水洗槽和镀镍槽；第一镀镍水洗槽的出水口与含镍废水储罐相连；吸附镍树脂罐的进水口连接微过滤器、液碱储罐、酸储罐，出水口连接脱盐树脂罐、镍回收浓液罐；脱盐树脂罐的进水口连接液碱储罐、酸储罐，出水口连接纯水储罐；镍回收浓液罐的进水口连接吸附镍树脂罐，出水口连接镀镍槽；纯水储罐的出水口连接吸附镍树脂罐、脱盐树脂罐以及第二镀镍水洗槽，第二镀镍水洗槽与第一镀镍水洗槽相连。本实用新型既可以进行镍回收，又可以对纯水进行回用。
一种清洗水槽回收纯水系统

[实用新型]一种连续镀化学镍专用槽-CN201920604331.4有效
发明人：陈业平;区佩金 -专利权人：深圳市启沛实业有限公司
申请日： 2019-04-26 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： C23C18/32 文献下载
摘要：一种连续镀化学镍专用槽，包括连续镀化学镍子槽和连续镀化学镍母槽，连续镀化学镍子槽的左右两端分别连接有进料槽和出料槽，所述进料槽、出料槽和连续镀化学镍子槽的外部槽壁上设有第一PP防护板，连续镀化学镍母槽的外部槽壁上设有第二PP防护板，进料槽的左侧槽壁上沿上下方向开设有第一进料开口，进料槽与连续镀化学镍子槽连接部的槽壁上开设有第二进料开口，出料槽的右侧槽壁上沿上下方向开设有第一出料开口，出料槽与连续镀化学镍子槽连接部的槽壁上开设有第二出料开口本实用新型具有使产品多次环绕行走，同时满足多条产品的产品同时被连续镀化学镍，减少能耗，操作简单，节约占地空间，生产品质稳定，产能高等优点。
化学镍连续镀子槽出料槽进料槽出料开口进料开口上下方向壁上沿防护板外部槽槽壁母槽本实用新型生产品质占地空间右侧槽专用槽左侧槽产能能耗环绕节约

[实用新型]适用于GPP晶圆镀镍液的循环装置-CN202320576036.9有效
发明人：叶海峰;邱益东;张纪稳;蔡永军;金优;陈岩;王磊;唐琨 -专利权人：江苏环鑫半导体有限公司;ＴＣＬ环鑫半导体（天津）有限公司
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C25D17/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种适用于GPP晶圆镀镍液的循环装置，包括：镀镍槽，适用于为GPP晶圆提供镀镍环境，镀镍槽包括进液口和回液口；补液槽，一端与进液口连接用以向镀镍槽输送配备好的溶液，另一端与回液口连接接收镀镍槽的回流液；以及配液组件，与补液槽的另一端连接，配液组件被构造成向补液槽输入预设成分及温度的补充液，通过补液槽向镀镍槽内随时补入反应溶液，配液组件在补液槽完成配液，能够解决相关技术中镀镍槽体积小容置反应溶液少，导致的在化学镀镍过程中有效成分逐渐减少，化学镀镍反应速度逐渐降低、镀层品质下降的缺陷。
适用于 gpp 晶圆镀镍液循环装置

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