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[发明专利]用于电外科工具的受控光学性能釉瓷组合物-CN201780056742.8在审
发明人：程晓明;W·X·小赛欧佩斯 -专利权人：美敦力先进能量有限公司
申请日： 2017-11-14 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： C03C3/064 文献下载
摘要：用于电外科金属切削刀片的釉瓷涂层，其中打到该釉瓷涂层的入射光被漫反射或吸收，且根据ASTM D523‑14镜面光泽度标准测试方法测定，该釉瓷涂层的60°光泽度小于100光泽单位。
等离子体金属切削刀片电外科工具电外科设备镜面光泽度标准测试光学性能光泽单位标记物电外科光泽度漫反射入射光传感器放电手术室介导受控透照眩光光源器械邻近穿过灯光发射吸收

[发明专利]一种仿汉白玉高光洁度纤维增强混凝土板的制作方法-CN202211064438.7在审
发明人：方寅生;秦兆权;余战进;崔伟;杨根红;陶鹏程 -专利权人：安徽汇辽新型装饰材料有限公司
申请日： 2022-09-01 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： C04B28/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种仿汉白玉高光洁度纤维增强混凝土板的制作方法，涉及建筑装饰技术领域，本发明产品的抗弯强度高，通过多层定向耐碱玻璃纤维毡的增强作用获得优良的韧性，抗弯强度达到25MPa以上，远高于天然汉白玉的抗弯强度19MPa；且产品的表面光洁度高，表面光泽度在90GU以上；通过向产品中掺入增透光聚合物，实现表面如汉白玉般的通透效果，同时抑制碱的析出，使其表面光泽耐久性能优良。
一种汉白玉光洁度纤维增强混凝土制作方法

[发明专利]玻化抛光地板砖防污剂及其制备方法-CN200410068895.9无效
发明人：王清峰 -专利权人：王清峰
申请日： 2004-07-14 - 公布日： 2005-03-02 - 主分类号： C08L67/08 文献下载
摘要：本申请提供了一种防污效果好并能增加砖面光泽度的玻化抛光地板砖防污剂，该防污剂主要包括：4－7％的石蜡，其中石蜡度数为54－60度；0－1％的氯化钠；40－60％的萘；20－40％的松香改性醇酸树脂，其中松香与醇酸树脂的比例为该防污剂能够渗入到玻化抛光地板砖内部的微细孔，结晶干化后于玻化抛光地板砖表面牢固结合，封闭堵塞微细孔，使污物无空可入，防污性能好，耐水擦洗且耐久性好；另外还能提高砖面光泽度10度以上。
抛光地板砖防污及其制备方法

[发明专利]多层吹塑制件和多层吹塑法-CN97193903.9无效
发明人：安藤秀树 -专利权人：新日铁化学株式会社;新日本制铁株式会社
申请日： 1997-04-14 - 公布日： 2001-04-11 - 主分类号： B29C49/22 文献下载
摘要：一种具有两层或多层的多层吹塑制件，它是由满足To度（Ra）限定的不大于０．２μm的表面粗糙度，或满足对应于至少６０％的６０度镜面光泽度的表面性能。一种具有两层或多层的多层吹塑制件的吹塑方法，由该方法在所选用的树脂和模具温度满足了To面光洁度和表面光泽度的模塑件，Ｔｏ
多层制件吹塑法

[发明专利]一种明焰裸烧无铅熔块釉-CN201310087423.7有效
发明人：张垠;张子祺 -专利权人：张垠;张子祺
申请日： 2013-03-19 - 公布日： 2017-11-10 - 主分类号： C03C1/00 文献下载
摘要：烧成后的产品瓷釉面细腻、光润、平整、光泽度好；釉面光泽不易脱落，不留污啧，易清洗。彻底解决了高品质日用陶瓷无法进行明焰裸烧的问题，大大降低了陶瓷的烧成成本，使陶瓷产品成为真正的绿色健康陶瓷。
一种明焰裸烧无铅熔块釉

[发明专利]光泽测量装置以及光泽测量方法-CN200610065705.7有效
发明人：桑田良隆 -专利权人：富士施乐株式会社
申请日： 2006-03-10 - 公布日： 2006-09-13 - 主分类号： G01N21/57 文献下载
摘要：光泽测量装置以及光泽测量方法。本发明提供了一种光泽测量装置，从光源照射光、根据由被测量物反射的正反射光求出表示上述被测量物的光泽度的评价值。该光泽测量装置具有取得单元、像素光泽度计算单元、评价值计算单元。取得单元根据来自上述被测量物表面的正反射光的各个预定像素的受光量，取得图像信息。像素光泽度计算单元根据由上述取得单元取得的图像信息的各个像素的受光量，算出各个像素的光泽度。评价值计算单元根据由上述像素光泽度计算单元算出的上述光泽度，算出表示上述被测量物的光泽度的评价值。
光泽测量装置以及测量方法

[发明专利]一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方及生产工艺-CN202010991127.X在审
发明人：张勇;黄义波;丘日红;曹三敦;丘贵军 -专利权人：鹤山市新玖新材料科技有限公司
申请日： 2020-09-20 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种高光泽度高通透性纳米陶瓷抛光液配方，包括如下原料组成：A组分：纳米二氧化硅溶胶、去离子水和酸度调节剂，B组分：有机钛、水解延缓剂和水溶性有机溶剂，所述纳米二氧化硅溶胶是指硅粉法生产的二氧化硅溶胶，按重量百分比该分散液二氧化硅含量为30‑40%，本发明结构科学合理，使用安全方便，解决超洁亮处理后砖面光泽度差和砖面通透性差的问题，本发明采用复合纳米技术，利用各种纳米材料各自不同的特性，在纳米溶胶和常温常压的状态下对单一种纳米颗粒进行修饰改性，从而得到稳定的具有高光泽度和高通透性的纳米陶瓷抛光液，克服了单组份纳米陶瓷抛光液光泽度差和通透性差的问题。
一种光泽通透纳米陶瓷抛光配方生产工艺

[发明专利]一种填充增强阻燃聚碳酸酯及其制备方法-CN200910109147.3有效
发明人：赖华林;余志东 -专利权人：深圳市华力兴工程塑料有限公司
申请日： 2009-07-29 - 公布日： 2010-01-06 - 主分类号： C08L69/00 文献下载
摘要：本发明的填充增强阻燃PC以未封端PC为基体，以无碱短玻璃纤维为增强体采用共混技术制备，有效地提高了PC的光泽度，使PC的光泽度、强度及稳定性平衡兼顾，从而制备出高光泽度、高强度及高稳定性的填充增强阻燃PC不仅可广泛用于制造产品内部组件，还可广泛用于制造对表面光泽度要求较高、具有装饰效果的产品外部组件。本发明不仅材料成本较低，且制备工艺简单，综合成本也低。
一种填充增强阻燃聚碳酸酯及其制备方法

[发明专利]一种增加石材石线光泽度的生产工艺-CN201010614164.5无效
发明人：周其进 -专利权人：周其进
申请日： 2010-12-30 - 公布日： 2011-09-07 - 主分类号： B24B19/22 文献下载
摘要：一种在传统加工石材石线的工艺流程过程中，能增加石材石线光泽度的生产工艺，包括以下步骤：1、将加工成型的石材石线产品，根据不同规格分别选用不同型号的专用石材磨轮机进行初期的打磨及抛光处理；2、根据产品的不同品质选用合适型号的砂纸逐一进行打磨加工通过此种加工工艺生产出来的产品会比原始的加工产品的光泽度提高30％，同时也会使石材石线产品的表面光泽度比原始的石材石线产品的光泽度使用寿命延长约10年。
一种增加石材光泽生产工艺

[发明专利]一种低光泽度消光改性聚丙烯材料-CN201510843686.5在审
发明人：翁永华;汪理文;丁贤麟 -专利权人：苏州润佳工程塑料股份有限公司
申请日： 2015-11-27 - 公布日： 2016-02-24 - 主分类号： C08L23/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种低光泽度消光改性聚丙烯材料，按质量百分比计，包括以下组分：聚丙烯55-70%，接枝聚丙烯5-15%，热塑性聚酯弹性体3-10%，无机纳米粉末10-15%，相容剂2-10%，抗氧剂1-5%本发明的配方不仅能够显著降低产品的表面光泽度，而且所得产品力学性能优良。
一种光泽度消光改性聚丙烯材料

[发明专利]表现出低光泽度外观的层合物和表面涂层剂-CN202080026748.2在审
发明人：杉山直大;近藤绅介 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： C08J7/04 文献下载
摘要：本发明提供了表现出优异的低光泽度外观的层合物和表面涂层剂。该表面层包含树脂小珠、无机纳米粒子和粘结剂，该树脂小珠具有4微米或更大且20微米或更小的平均粒径，其中基于100质量份的粘结剂计，表面层总共包含100质量份或更大的树脂小珠和无机纳米粒子，并且表面层在60度下具有6.0GU或更小的表面光泽度。
表现出光泽度外层合物表面涂层

[发明专利]一种低侧光高耐候的外墙涂料及其制备方法-CN202210907857.6有效
发明人：杨佃辉 -专利权人：东莞大宝化工制品有限公司;上海大宝化工制品有限公司;成都大宝化工制品有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C09D125/14 文献下载
摘要：其在保证耐候性、耐水性的同时降低外墙涂料涂覆后的侧面光泽度，使其侧面不同角度光泽度接近，从而降低对基底和施工的高要求。
一种低侧光高耐候外墙涂料及其制备方法

[发明专利]一种高光轻质铜版纸的制造工艺-CN201410283318.5无效
发明人：陈金山;朱宏伟;尹超;王玉珑;李丹;刘春景;刘成良;彭华军;周华勇 -专利权人：岳阳林纸股份有限公司
申请日： 2014-06-24 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： D21H11/02 文献下载
摘要：产品突出的特点是产品挺度、松厚度好，纸面光泽度和印刷光泽度高，印刷色彩饱满鲜艳，图像网点清晰的特点。适用于高档杂志、宣传材料等的彩色印刷。
一种高光轻质铜版纸制造工艺

[发明专利]一种超平厚抛釉及超平厚抛釉瓷质砖的制造方法-CN201410185336.X有效
发明人：陈奕;饶培文;梁志雄;程科恺 -专利权人：广东道氏技术股份有限公司
申请日： 2014-05-05 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： C04B41/86 文献下载
摘要：本发明的超平厚抛釉由高温流动性好的熔块和部分生料组成，使釉面在高温下快速地流平，熔融性能良好；再通过不同材料的搭配，使得釉面高温粘度小，便于釉层气体排出，保证釉面的平滑效果和釉层气泡较小较少。检测结果显示，使用本发明超平厚釉制造得到的超平厚抛釉瓷质砖，1.6mm直径视域内气泡个数仅为1～3个，气泡直径仅为0.02mm～0.06mm，气泡少且小，釉层通透感更好；超平厚抛釉抛光后光泽度可达105度～110度，高于普通全抛釉的95度～100度。
一种超平厚抛釉超平厚抛釉瓷质砖制造方法

[发明专利]一种两面光泽度不同的单晶硅晶圆腐蚀片的加工方法-CN201210508272.3无效
发明人：罗翀;翟洪升;张宇;严政先;董建斌 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司
申请日： 2012-12-03 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： C30B33/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种两面光泽度不同的单晶硅晶圆腐蚀片的加工方法，包括如下步骤：1)将硅片双面去除量控制在32±2μm；2)配制混酸，3)将研磨后的单晶硅晶圆片按每2片为一组插片，4)进行腐蚀，5)在每回合腐蚀结束后，排酸腐蚀液和补充新酸，本发明采用2片单晶硅晶圆片的负解理面相对的插片方式及酸腐蚀工艺可以制备正解理面有较高光泽度、较低粗糙度，负解理面有较低光泽度、较高粗糙度的腐蚀片晶圆，使半导体器件厂商容易的辨别正负解理面
一种两面光泽不同单晶硅腐蚀加工方法