专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]水性粘接剂-CN201580037417.8有效
  • 栉田贡 - 爱克工业株式会社
  • 2015-10-14 - 2018-12-18 - C09J131/04
  • 一种水性粘接剂,其是以含乙酰乙酰化聚乙烯醇和乙烯改性聚乙烯的聚乙烯作为保护胶体,使乙酸乙烯酯单体乳液聚合、或使乙酸乙烯酯单体与具有乙酰乙酰基的单体在链转移剂的存在下乳液共聚乙酸乙烯酯类树脂乳液,向该乙酸乙烯酯类树脂乳液中掺入金属化合物和硅烷类偶联剂而成的
  • 水性粘接剂
  • [发明专利]一种聚酯类辐射冷却降温及其制备方法和应用-CN202210068007.1有效
  • 王璟;白书欣;安一卓;孙骏宇;纪澄;郭涛涛 - 中国人民解放军国防科技大学
  • 2022-01-20 - 2023-06-06 - C08J7/04
  • 本发明公开了一种聚酯类辐射冷却降温及其制备方法和应用,该的制备包括:将聚酯类聚合物、溶剂、聚合物添加剂、钛酸酯偶联剂制成铸液;将铸液涂覆在支撑表面,对所得湿进行静置,再浸泡在非溶剂凝固浴中,由此制得聚酯类辐射冷却降温。本发明聚酯类辐射冷却降温具有抗拉强度高、界面结合强度高、柔性性能优异、隔热降温性能优异等优点,可随意弯折卷曲,能够适用于各自不同性质、形状的基体,有利于聚酯类辐射冷却降温的推广和应用,使用价值高,应用前景好本发明制备方法具有工艺简单、操作方便、对设备要求低、溶剂及非溶剂可回收利用、生产成本低、效率高等优点,适合规模化的工业生产,对节能环保具有重要意义。
  • 一种聚酯辐射冷却降温及其制备方法应用
  • [发明专利]含硅193nm负性光刻胶及其树脂-CN200610039655.5有效
  • 冉瑞成;沈吉;庄学军 - 苏州华飞微电子材料有限公司
  • 2006-04-19 - 2006-09-20 - G03F7/038
  • 一种含硅193nm负性光刻胶及其树脂,在树脂配方中引入了可以共聚合的含有机硅的丙烯酸酯类偶联剂单体,同含可交联的碱性可溶基团单体进行共聚合制备一种新的树脂。这种新的树脂与光致酸、交联剂、溶剂、以及其他添加剂组成光刻胶后,由于含硅丙烯酸酯类偶联剂单元的作用,增加了光刻胶与硅片之间的粘结性能。同时,也改善了抗干刻蚀的性能。进一步说,由于含硅的丙烯酸酯类偶联剂单元在树脂中的存在,其硅片上的光刻胶胶膜在光刻过程中,在曝光区,含硅丙烯酸酯偶联剂中存在的Si-OH基团以及Si-OR基团在光致酸产生的酸作用下将参与同交联剂的交联反应
  • 193nm光刻及其树脂
  • [发明专利]深紫外正性光刻胶及其树脂-CN200610038787.6无效
  • 冉瑞成;沈吉;庄学军 - 苏州华飞微电子材料有限公司
  • 2006-03-13 - 2006-08-16 - G03F7/033
  • 一种深紫外正性光刻胶及其树脂,在一般以聚对羟基苯乙烯为基础的树脂配方中引入了可以与之共聚合的含硅的丙烯酸酯类偶联剂,进行共聚合制备一类新的树脂。这种新的树脂与光致酸、溶剂、以及其他添加剂组成光刻胶后,由于含硅丙烯酸酯类偶联剂单元的作用,增加了光刻胶与硅片之间的粘结性能。同时,也改善了抗干刻蚀的性能。即由于含硅的丙烯酸酯类偶联剂单元在树脂中的存在,其硅片上的光刻胶胶膜在光刻过程中,在非曝光区,偶联剂中的Si-OR基团将减少胶膜在显影液中的溶解性,曝光区在光致酸形成的强酸作用下,偶联剂中Si-OR
  • 深紫外正性光刻及其树脂
  • [发明专利]偏振片用保护以及偏振片-CN200680029353.8有效
  • 中村典永;铃木裕子;松仓哲夫 - 大日本印刷株式会社
  • 2006-08-14 - 2008-08-13 - G02B5/30
  • 本发明的偏振片用保护10具有聚对苯二甲酸乙二酯等聚酯类1、和设置在该聚酯类1的一个面上并包含乙酰纤维素等纤维素类亲水性树脂的易粘接层2。在聚酯类1的另一面上叠层了硬涂层、防眩层、减反射层等各种功能层3。硬涂层3是通过电子射线使添加了紫外线吸收剂的电离辐射固化性树脂固化而得到的层。通过水性粘接剂层4在偏振片用保护10的易粘接层2侧设置聚乙烯醇类偏光5,由偏振片用保护10和偏光5得到偏振片20。
  • 偏振保护膜以及
  • [发明专利]聚氨酯酰亚胺渗透汽化芳烃/烷烃分离的制备方法-CN200710118480.1有效
  • 李继定;叶宏;陈剑;林阳政 - 清华大学
  • 2007-07-06 - 2008-02-13 - B01D71/64
  • 聚氨酯酰亚胺渗透汽化芳烃/烷烃分离的制备方法属于渗透汽化膜分离技术领域。现有的聚氨酯类膜分离因子低,且多需要在高温下进行渗透汽化分离性能的测试。本发明包括1)聚氨酯-酰亚胺预聚体的合成:在氮气保护、机械搅拌和冷凝回流的条件下,将聚己二酸乙二酯二与二异氰酸酯反应得到封端预聚物,再加入均苯四酸二酐进行扩链得到聚氨酯-酰亚胺的预聚物溶液;2)聚氨酯-酰亚胺的制备:溶液流延并在红外灯下挥发溶剂,再经150℃热处理1.5-2小时即可。本发明的材料合成及制过程简单,所制得的具有良好的热、化学稳定性,而且在温合条件下对芳烃/烷烃混合液即具有良好的分离效果,具有较大的实用价值。
  • 聚氨酯亚胺渗透汽化芳烃烷烃分离制备方法

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