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[发明专利]谱图掩模触发-CN200510088243.6有效
发明人： J·D·厄尔斯 -专利权人：特克特朗尼克公司
申请日： 2005-07-29 - 公布日： 2006-02-01 - 主分类号： G01R23/16 文献下载
摘要：产生谱图掩模触发以响应在被监控的信号内多或复杂频率事件。按照频率径迹、跳频或在信号中所期望的其他复杂频率事件，产生在时间段上的频率掩模序列，以形成谱图掩模。然后，给信号的多谱或谱图应用谱图掩模，以确定在时间段内是否已经发生反常频率事件，或者在信号内识别特定的频率模式。依据谱图掩模应用的结果，产生谱图掩模触发，用于存储来自围绕触发事件的信号的数据块供进一步分析。
谱图掩模触发

[发明专利]单声道人声与背景音乐分离方法-CN202011118459.3在审
发明人：旷昊恒 -专利权人：成都明杰科技有限公司
申请日： 2020-10-19 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： G10L21/0272 文献下载
摘要：本发明公开了单声道人声与背景音乐分离方法，包括一、将待分离的时域模拟语音信号转化为时域数字语音信号；二、对步骤一中的时域数字语音信号进行短时傅里叶变换，取其幅值信息得到语谱图；三、建立循环神经网络框架；四、将步骤二得到的语谱图输入步骤三中的循环神经网络框架，得到与语谱图尺寸相同人声时频掩模；五通过差分的方法计算得到背景音乐的时频掩模；六、将步骤五中得到的两个时频掩模与步骤二得到的语谱图进行点乘，得到分离出的人声语谱图和背景音乐语谱图通过引入循环神经网络和时频掩模，显著的提高了分离过程的识别率和准确率。
单声道人声背景音乐分离方法

[发明专利]一种声学特征处理方法和装置-CN202010486083.5在审
发明人：汪法兵;李健;武卫东 -专利权人：北京捷通华声科技股份有限公司
申请日： 2020-06-01 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G10L17/02 文献下载
摘要：本发明提供的声学特征处理方法和装置，通过根据待识别的语音中提取的声学特征，绘制二维语谱图，并通过对所述二维语谱图对应的梯度信息进行加权计算，得到目标掩模函数，利用所述目标掩模函数与所述二维语谱图进行乘积计算，得到目标语谱图，最后根据所述目标语谱图确定所述语音对应的目标声学特征。
一种声学特征处理方法装置

[发明专利]一种音频指纹提取方法及装置-CN201810273669.6在审
发明人：李根;李磊;何轶 -专利权人：北京字节跳动网络技术有限公司
申请日： 2018-03-29 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： G10L17/02 文献下载
摘要：本公开涉及一种音频指纹提取方法及装置，该方法包括：将音频信号转换成声谱图；确定所述声谱图中的特征点；在所述声谱图上，为所述特征点确定一个或多个掩模，每个所述掩模包含多个谱区域；确定每个所述谱区域的均值能量；根据所述掩模中的所述多个谱区域的均值能量确定音频指纹比特；判断所述音频指纹比特的可信程度以确定强弱权重比特；将所述音频指纹比特和所述强弱权重比特进行组合，得到音频指纹。
音频指纹声谱图掩模音频指纹提取特征点权重强弱音频信号转换能量确定可信

[发明专利]基于卷积循环神经网络的单通道人声与背景声分离方法-CN202011119804.5有效
发明人：孙超 -专利权人：南京硅基智能科技有限公司
申请日： 2020-10-19 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： G10L21/0272 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于卷积循环神经网络的单通道人声与背景声分离方法，包括步骤：S1、获取原始混合语音信号；S2、得到原始混合信号幅度谱和原始混合信号相位谱；S3、将原始混合信号幅度谱输入卷积神经网络；S4、将低分辨率特征图和原始混合信号幅度谱输入循环神经网络，结合时频掩模得到人声经过时频掩模后的预测值和背景声经过时频掩模后的预测值；S5、将人声经过时频掩模后的预测值和背景声经过时频掩模后的预测值分别与原始混合信号相位谱结合
基于卷积循环神经网络通道人声背景分离方法

[发明专利]联合模型训练方法及系统-CN201811623998.5有效
发明人：钱彦旻;张王优;周瑛 -专利权人：苏州思必驰信息科技有限公司
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： G10L15/06 文献下载
摘要：该方法包括：隐式地提取带噪语音训练集的相位谱以及对数幅度谱；利用对数幅度谱拓展后的幅度谱片段作为时频掩模网络的输入特征，利用带噪语音训练集和干净语音训练集确定用于训练时频掩模网络的目标掩模标签，基于输入特征和目标掩模标签，训练时频掩模网络，估计出软阈值掩模；利用软阈值掩模对带噪语音训练集的相位谱进行增强，将增强后的相位谱作为波达方向估计网络的输入特征，以训练波达方向估计网络。本发明实施例通过设立目标掩模标签，隐式的提取输入特征，并将时频掩模和DOA估计网络联合训练更适合DOA估计任务。
联合模型训练方法系统

[发明专利]极紫外光刻无缺陷掩模衍射谱快速严格仿真方法-CN201310534000.5有效
发明人：刘晓雷;李思坤;王向朝;步扬 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2013-10-31 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：一种极紫外光刻无缺陷掩模衍射谱快速严格仿真方法，采用等效膜层法由上至下逐层计算膜层复反射系数得到整个多层膜的复反射系数，首先通过吸收层薄掩模模型计算掩模吸收层衍射谱，然后经过多层膜反射，最后再次通过吸收层薄掩模模型，得到极紫外光刻无缺陷掩模衍射谱。本发明方法可以快速准确的仿真极紫外光刻无缺陷掩模衍射谱。
紫外光刻缺陷衍射快速严格仿真方法

[发明专利]极紫外光刻三维接触孔掩模衍射谱快速仿真方法-CN201710011142.1有效
发明人：张恒;李思坤;王向朝;诸波尔;孟泽江;成维 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2017-01-06 - 公布日： 2018-04-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种极紫外光刻三维接触孔掩模衍射谱快速仿真方法。该三维接触孔掩模从下至上依次由基底(1)、多层膜(2)、吸收层(3)三个主要部分构成。所述的接触孔掩模其吸收层(3)中的图形为矩形开孔图形。该方法首先将三维接触孔掩模按照分离变量法分解成过接触孔矩形图形中心且平行于矩形长宽两方向的对应纵截面上的二维掩模，然后采取严格电磁场仿真的波导法对两二维掩模进行衍射谱仿真，最后将仿真得到的两二维掩模衍射谱相乘得到三维接触孔掩模衍射谱本发明可快速准确的仿真极紫外光刻三维接触孔掩模的衍射谱。
紫外光刻三维接触孔掩模衍射快速仿真方法

[发明专利]极紫外光刻掩模衍射谱的快速仿真方法-CN202111392142.3在审
发明人：胡少博;李思坤;唐明;王向朝;张子南 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2021-11-19 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：一种极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法，将掩模整体看作一个多层膜结构，划分为有吸收层覆盖区域和无吸收层覆盖区域。在斜入射情况下，基于等效膜层法计算两种区域膜层复反射系数，采用基尔霍夫近似计算掩模衍射谱。本发明方法可以快速仿真极紫外光刻掩模衍射谱，提高了斜入射情况下衍射谱的仿真精度。
紫外光刻衍射快速仿真方法

[发明专利]一种语音信号的喉声和气声识别与分离方法及系统-CN201710692892.X有效
发明人：何庆祥;张巍;霍颖翔;冯镇业;滕少华;张子臻 -专利权人：广东工业大学
申请日： 2017-08-14 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： G10L21/0272 文献下载
摘要：本发明公开了一种语音信号的喉声和气声识别与分离方法及系统，方法包括：获取单峰测试掩模函数和还原掩模函数；对输入的语音信号进行叠窗快速傅里叶变换，得到傅里叶变换后的幅值谱；测定各窗信号经傅里叶变换后的幅值谱的基频；根据单峰测试掩模函数和测定的基频计算傅里叶变换后的幅值谱在正整数倍基频处的幅值峰值；根据计算的幅值峰值得到喉声分量的包络；根据还原掩模函数和计算的幅值峰值计算喉声分量的幅值谱；根据傅里叶变换后的幅值谱和喉声分量的幅值谱计算气声分量的幅值谱；根据气声分量的幅值谱得到气声分量的包络。本发明引入了单峰测试掩模函数和还原掩模函数，能识别并分离语音信号中的喉声和气声，可广泛应用于信号处理领域。
一种语音信号和气识别分离方法系统

[发明专利]基于斜入射校正的极紫外光刻掩模衍射谱仿真方法-CN201910543997.8有效
发明人：张子南;李思坤;王向朝;成维 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2020-05-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基于斜入射校正的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法，针对光源斜入射的情况，对基于边界点脉冲的吸收层模型进行参数校正，得到了准确的吸收层衍射谱，将无缺陷多层膜近似为单平面，其反射系数幅值和相位通过对严格仿真结果进行插值得到本方法依次仿真吸收层衍射谱、多层膜反射谱、吸收层衍射谱，得到极紫外光刻掩模衍射谱。本发明可快速准确地仿真任意入射角照明下的极紫外光刻掩模的衍射谱。
基于入射校正紫外光刻衍射仿真方法

[发明专利]掩模坯料、转印用掩模的制造方法、及半导体器件的制造方法-CN202080022142.1在审
发明人：宍户博明;大久保亮;野泽顺 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2020-02-20 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明的课题在于，提供能够使掩模图案、硬掩模图案进一步微细化、以及能够提高图案品质的掩模坯料，为了解决该课题，本发明的掩模坯料(100)具备在透光性基板(1)上依次层叠有图案形成用薄膜(3)和硬掩模膜(4)的结构，该掩模坯料(100)如下所述地构成：上述硬掩模膜(4)的通过X射线光电子能谱法进行分析而得到的Si2p窄谱在103eV以上的键能具有最大峰，通过X射线光电子能谱法进行分析而得到的N1s窄谱的最大峰为检测下限值以下
坯料转印用掩模制造方法半导体器件

[发明专利]极紫外光刻厚掩模缺陷的快速仿真方法-CN201310102557.1有效
发明人：刘晓雷;李思坤;王向朝;步扬 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2013-03-27 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：一种极紫外光刻厚掩模缺陷的快速仿真方法，该方法将缺陷多层膜等效为无缺陷平面镜和缺陷平面镜两部分，首先通过薄掩模近似得到掩模吸收层衍射谱，相位补偿后经过缺陷多层膜反射，然后再进行相位补偿，最后通过薄掩模近似和相位补偿，得到极紫外光刻缺陷掩模衍射谱。本发明可以有效的仿真缺陷对掩模成像的影响，并提高了极紫外光刻厚掩模缺陷的仿真速度。
紫外光刻厚掩模缺陷快速仿真方法

[发明专利]EUV光刻杂散光计算和补偿-CN201280021450.8有效
发明人： J·希利;H·宋 -专利权人：新思科技股份有限公司
申请日： 2012-05-01 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种针对EUV光刻中使用的掩模计算杂散光的方法包括将杂散光功率谱密度（PSD）分解为低频分量和高频分量。此外，所述方法包括在杂散光图产生器中接收多个布局。多个布局中的每一个布局对应于掩模上的芯片图案位置。而且，所述方法包括使用杂散光图产生器，通过使用快速傅立叶变换（FFT），根据低频分量产生针对掩模的低频杂散光图。
euv 光刻散光计算补偿

[发明专利]一种畜禽音频指纹提取方法及装置-CN202111082663.9在审
发明人：余礼根;杜天天;李奇峰;孟蕊;吕阳;高荣华;丁露雨;马为红;薛青飞;刘庭君 -专利权人：北京市农林科学院信息技术研究中心
申请日： 2021-09-15 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： G10L17/02 文献下载
摘要：本发明提供一种畜禽音频指纹提取方法及装置，所述方法包括：按预设采样周期采集目标畜禽的多个音频片段；针对任一目标音频片段，将所述目标音频片段转换成声谱图，并根据预设的至少一个掩模确定所述声谱图中的多个谱区域；确定每个谱区域的均值能量，所述均值能量为所述谱区域所包含的所有点的能量值的平均值；获取每个掩模对应的多个谱区域的均值能量之间的差值，并根据所述差值生成所述目标音频片段的音频指纹；获取每个所述音频片段所对应的音频指纹
一种畜禽音频指纹提取方法装置

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