专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]控显示装置-CN202011102152.4在审
  • 张愉;江淼 - 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2020-10-15 - 2021-01-22 - H01L27/32
  • 一种控显示装置,包括显示面板和控层,所述控层设置于所述显示面板出光面的一侧,所述控层包括多个阵列分布的开关薄膜晶体管和薄膜晶体管,所述开关薄膜晶体管和所述薄膜晶体管均包括金属元件;其中,所述开关薄膜晶体管的金属元件背离所述显示面板的一侧和/或所述薄膜晶体管的金属元件背离所述显示面板的一侧覆盖有光吸收层。通过设置不同类型的光吸收层来构建具有低反射率的外挂式控层,进而能够用于构建具有控功能的显示装置。
  • 光控显示装置
  • [发明专利]制作偏振隐形图像薄膜的方法及薄膜-CN201110285210.6无效
  • 夏知识 - 夏知识
  • 2011-09-23 - 2012-05-02 - B32B5/00
  • 本发明公开提供一种制作偏振隐形图像薄膜的方法,包括如下步骤:提供具有偏振介质特性的塑料薄膜,并将所述塑料薄膜制作成偏振隐形图案载体,提供偏振片,将所述隐形图案载体黏贴到所述偏振片的上表面,在所述隐形图案载体的上表面制作图案区,并在所述图案区印刷上油墨层,在所述偏振片的下表面黏贴反射层,在所述图案区上成型保护层,得到偏振隐形图像薄膜。本发明制作偏振隐形图像薄膜的方法成本低廉、制作工艺简单、易于推广应用,此外本发明还公开了一种薄膜
  • 制作偏振光隐形图像薄膜方法
  • [发明专利]薄膜蚀刻方法及阵列基板的制作方法-CN202111383275.4在审
  • 李治朝;马冬冬 - 昆山龙腾光电股份有限公司
  • 2021-11-22 - 2022-02-25 - H01L21/033
  • 本发明提供一种薄膜蚀刻方法,主要包括以下步骤:在薄膜上涂覆阻,形成阻层;对光阻层进行烘烤固化,使阻层形成固化程度不一样的阻表层和阻底层;利用光罩对上述烘烤之后的阻进行曝光、显影,形成倒梯形结构的阻图案;以倒梯形结构的阻图案为遮罩,对薄膜进行蚀刻以形成薄膜图案;剥离倒梯形结构的阻图案。本发明利用对光阻层进行烘烤固化,使得阻的表层和底层得到硬度性质不一样的阻,阻的硬度从上至下逐渐减小,使得曝光、显影后得到倒梯形结构,从而能蚀刻更细的薄膜图案,有利于清除阻。
  • 薄膜蚀刻方法阵列制作方法
  • [发明专利]光刻机的罩吸附平台的优化方法-CN202310781822.7在审
  • 王小光 - 南京科利德光电材料有限公司
  • 2023-06-28 - 2023-09-19 - G03F7/20
  • 本发明实施例提供一种光刻机的罩吸附平台的优化方法,包括以下步骤:对光刻机的罩吸附平台进行初次清洁以去除所述罩吸附平台的罩承载区域的脏污物;在完成初次清洁的所述罩承载区域贴附防静电薄膜,并去除所述防静电薄膜与所述罩承载区域之间的气泡;在所述防静电薄膜对应所述罩承载区域的吸风孔的位置对应开孔;以及对开孔完成的所述防静电薄膜表面进行二次清洁以去除开孔后的残留物。本实施例通过在罩吸附平台的罩承载区域贴附防静电薄膜,使得罩与罩吸附平台柔性接触,从而防止罩损伤,保证罩光刻精度。
  • 光刻吸附平台优化方法
  • [发明专利]无泄漏低损磁薄膜磁表面快模可控单向任意拐弯波导-CN201610796438.4有效
  • 欧阳征标;郑耀贤 - 深圳大学
  • 2016-08-31 - 2021-02-19 - G02B6/125
  • 本发明公开了一种无泄漏低损磁薄膜磁表面快模任意方向可控单向拐弯波导,其包括一个光输入端(1)、一个光输出端(2)、一个磁薄膜(3)、背景介质(4)、两个吸波层(5、6)和一个偏置磁场;所述单向拐弯波导的端口(1)为光输入端、其端口(2)为光输出端;磁薄膜(3)设置于背景介质中,磁薄膜(3)采用磁材料;磁薄膜(3)和背景介质(4)为任意角度弯曲形;所述磁薄膜(3)处设置有偏置磁场,且方向可控;磁薄膜(3)弯曲部分为圆环形状;磁材料与所述背景介质(4)的表面处为磁表面快波。本发明具有结构简单、体积小、便于集成、低损耗、传输效率高,适合于大规模路集成,被广泛应用到各种光波导的设计中。
  • 泄漏低损磁光薄膜表面可控单向任意拐弯波导
  • [发明专利]无泄漏低损型磁薄膜磁表面快模任意角单向拐弯波导-CN201610795826.0有效
  • 欧阳征标;郑耀贤 - 欧阳征标
  • 2016-08-31 - 2019-04-23 - G02B6/12
  • 本发明公开了一种无泄漏低损型磁薄膜磁表面快模任意角单向拐弯波导,它包括一个光输入端(1)、一个光输出端(2)、一个磁薄膜(3)、背景介质(4)、两个吸波层(5、6)和一个偏置磁场;所述单向拐弯波导的左端为光输入端(1)、其右端为光输出端(2);所述磁薄膜(3)设置于背景介质(4)中;所述磁薄膜(3)采用磁材料;所述磁薄膜(3)和背景介质(4)为任意角度弯曲形;所述磁薄膜(3)处设置有偏置磁场;所述磁薄膜(3)弯曲部分为圆环形状;所述磁材料与所述背景介质(4)的表面处为磁表面快波。本发明具有结构简单、体积小、便于集成,低损耗、高传输效率高,适合于大规模路集成,被广泛应用到各种光波导的设计中。
  • 泄漏低损型磁光薄膜表面任意单向拐弯波导
  • [发明专利]一种标签纸及其制作方法-CN202010364928.3在审
  • 陈永智 - 广州市羊城印刷有限公司
  • 2020-04-30 - 2020-07-10 - G09F3/02
  • 本发明公开了一种标签纸及其制作方法,该标签纸包括依次层叠的面纸、珠膜以及透明薄膜;所述面纸和所述珠膜之间设有第一胶水层;所述珠膜与所述透明薄膜之间设有第二胶水层;所述透明薄膜下方设有第三胶水层。该制作方法包括在透明薄膜上涂覆第二胶水层并与珠膜复合;将不干胶纸的面纸和底纸分离,所述面纸的一面涂覆有不干胶形成所述第一胶水层;将面纸与复合有透明薄膜的珠膜复合;在面纸上印刷需要的内容;对复合在所述珠膜上的透明薄膜进行模切;在模切后的透明薄膜上涂覆不干胶以形成所述第三胶水层,并将底纸复合到透明薄膜上;对面纸和珠膜进行模切。
  • 一种标签及其制作方法
  • [发明专利]一种低功耗激发气体传感器及其制备方法-CN202210676309.7在审
  • 黄辉;渠波;尚瑞晨 - 黄辉;渠波;尚瑞晨
  • 2022-06-15 - 2022-09-09 - G01N27/12
  • 本发明的一种低功耗激发气体传感器及其制备方法,包括:陷衬底,其顶面设置有敏感膜;激发装置,其所发出的光线照射至陷衬底及敏感膜上,激发装置用于激发敏感膜中的电子空穴对;所述敏感膜包括依次叠置的表层金属氧化物薄膜、金属催化剂薄膜、底层金属氧化物薄膜,金属催化剂薄膜用于对待测气体分子进行吸附和反应,并在激发装置的照射下激发出表面等离子共振(SPR),表层金属氧化物薄膜与底层半导体薄膜为同种或不同种膜,所述底层金属氧化物薄膜与所述陷衬底贴合;电极,其为两个并设置在表层金属氧化物薄膜的顶面。
  • 一种功耗激发气体传感器及其制备方法
  • [发明专利]晶片加工用薄膜及使用晶片加工用薄膜来制造半导体装置的方法-CN201080065170.8有效
  • 建部一贵 - 古河电气工业株式会社
  • 2010-03-09 - 2012-11-14 - H01L21/301
  • 本发明在于提供一种在将具有由胶粘剂层及粘合薄膜构成的切割/管芯焊接薄膜的晶片加工用薄膜卷成滚筒状时,可充分地抑制在胶粘剂层发生转印痕的晶片加工用薄膜。本发明的晶片加工用薄膜的特征在于,具有:粘合薄膜,其由基材薄膜及设于所述基材薄膜上的粘合剂层构成;及胶粘剂层,其设于所述粘合剂层上,所述粘合剂层中,至少在对应于环框的部分,含有放射线聚合性化合物及第一引发剂,在含有所述第一引发剂的位置以外的部分,含有放射线聚合性化合物及其他的引发剂,所述第一引发剂会发生反应的的波长与所述其他的引发剂会发生反应的的波长不同。
  • 晶片工用薄膜使用制造半导体装置方法

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