专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]自动粘脱设备-CN202021847174.9有效
  • 陈明生 - 特铨股份有限公司
  • 2020-08-28 - 2021-04-09 - H01L21/683
  • 本实用新型涉及一种自动粘脱设备,该粘脱设备包含有一供吸附一无线静电载盘的载板静电生成组,以及一供吸附一基板基板移载组,而该基板移载组可相对该载板静电生成组线性位移,使得该基板移载组可带动基板压合于该载板静电生成组的无线静电载盘表面,如此,可作动该载板静电生成组使无线静电载盘生成静电电力场,以粘合该基板,而能提升粘合效率,且可大幅降低粘合失败率,并减少生裂损或破片的发生。
  • 自动设备
  • [发明专利]掩模图案的形成方法、基板的加工方法及元件芯片的制法-CN201610795913.6有效
  • 广岛满;针贝笃史 - 松下知识产权经营株式会社
  • 2016-08-31 - 2021-08-13 - H01L21/683
  • 本发明提供一种即使在将较的晶片状基板作为对象的情况下,也能够防止基板基板的掩模图案发生损伤的掩模图案的形成方法、基板的加工方法及元件芯片的制造方法。在元件芯片的制造方法、掩模图案的形成方法以及基板的加工方法中,将工序顺序设定为在进行了设为对与贴附有感光性的保护膜(2)的第1面(1a)对置的第2面(1b)进行研磨而化的基板(1T)的研磨工序之后,进行将曝光完毕的保护膜由此,能够在保护膜(2I)未图案化的稳定的状态下进行用于化的研磨,即使在将较的晶片状基板(1)作为对象的情况下,也能够防止基板(1)或形成基板(1)的掩模图案的保护膜(2I)的研磨时发生损伤。
  • 图案形成方法加工元件芯片制法
  • [实用新型]一种声光晶体减夹具-CN202320311734.6有效
  • 梁玉发;郭杭涛;彭继峰;王梓 - 合肥脉博光电科技有限公司
  • 2023-02-24 - 2023-07-07 - B25B11/00
  • 本实用新型提供了一种声光晶体减夹具,包括第一基板,第一基板的周侧边缘下通过均布的至少三个的螺栓连接有定位环套,螺栓的端部与定位环套的上端面边缘联接,第一基板与定位环套之间夹设有第二基板,第二基板的周侧边缘上均布有至少三个的减千分尺机构,减千分尺机构的下端与定位环套的上端面边缘联接,第二基板与第一基板之间夹设有橡胶垫,第二基板的下表面中部安装有用于固定声光晶体的载物台,第一基板上表面设置有水平调节机构。本实用新型设计合理,实现晶体底面与夹具夹持后的加工过面平行,同时实现了夹具自身水平的可控,实现对晶体的上下两个面的平行度的高精度校准,减后晶体超薄,校准精度高、易操作。
  • 一种声光晶体夹具
  • [发明专利]大面积型单晶硅的制作技术-CN201210518396.X无效
  • 林清富;林子敬;许书嘉 - 林清富
  • 2012-12-05 - 2013-06-12 - B81C1/00
  • 本发明是有关于一种大面积型单晶硅的制作技术,特别是有关一种利用金属辅助蚀刻技术在硅基板或硅晶圆上制作微米结构或纳米结构并脱离硅基板或晶圆的方法。此方法借由金属催化剂沉积、纵向蚀刻、侧向蚀刻、而使微米结构或纳米结构剥离或转移等简单的工艺,形成型单晶硅,并将基板表面处理后,使基板进行回收用于重复制作型单晶硅,而对基板做充分的利用,达到降低其制作成本的目的与增加应用的范围
  • 大面积单晶硅制作技术
  • [发明专利]一种型玻璃基板的后处理工艺-CN202310710953.6在审
  • 张迅;易伟华;谢凯立 - 江西沃格光电股份有限公司
  • 2023-06-15 - 2023-08-01 - C03B27/03
  • 本发明提供了一种型玻璃基板的后处理工艺。与现有技术相比,本发明通过对型玻璃基板进行预钢化,使其表面应力值及应力层深度较一般值较小,可以保证玻璃基板产品较未钢化产品具备更好的韧性,同时一面精细研磨后,不会出现明显的翘曲,从而可以对另外一面进行表面处理使两面的压应力相同,规避其翘曲风险,最后进行第二次钢化处理可使修复后的型玻璃基板具备良好的化学强度等性能的同时,兼具良好的表观,并且其制程破片率较传统工艺有了大幅度的降低。进一步,本发明将型玻璃基板直接贴合于减粘膜材以对超薄玻璃基板进行研磨修复表面不良,大大提高生产效率。
  • 一种玻璃处理工艺
  • [实用新型]用于无线静电吸盘的粘脱设备及自动粘脱系统-CN202021846699.0有效
  • 陈明生 - 特铨股份有限公司
  • 2020-08-28 - 2021-04-09 - H01L21/683
  • 本创作涉及一种用于无线静电吸盘的粘脱设备及自动粘脱系统,用于一无线静电载盘与一基板的粘合或解离,其该无线静电载盘底面具有导电生成或释放静电电力场的导极,该粘脱设备包含有一框架,一载板静电生成组,一基板移载组,由此,该基板移载组能带动基板与无线静电载盘压合后,能驱动该载板静电生成组使无线静电载盘生成静电电力场,以粘合该基板。通过上述技术手段的具体实现,利用粘脱设备使无线静电载盘可自动粘合基板,其可大幅降低粘合失败率,并减少生裂损或破片的发生,而能在自动清洗、烘烤与预对位后,可供应付高精度的制程需求,并进行自动化粘合。
  • 用于无线静电吸盘设备自动系统
  • [实用新型]一种整体式型塑料排水板及地基竖向排水系统-CN201720329164.8有效
  • 杨志华 - 建湖县申茂软基材料有限公司
  • 2017-03-30 - 2017-12-12 - E02D3/10
  • 本实用新型提供了一种整体式型塑料排水板,包括芯板和滤膜;芯板包括一个基板和多个支撑板;基板为长条状平板,多个支撑板对称地设置于基板的两侧,且与基板垂直,支撑板沿基板的长度方向延伸;滤膜贴合地围设在芯板的外侧,形成的整体式型塑料排水板的厚度小于3.5毫米;支撑板的横断截面呈等腰梯形,远离基板一端的宽度小于贴近基板一端的宽度。本实用新型的整体式型塑料排水板,优化了芯板中支撑板的结构形状和设计布局,在芯板和滤膜的化学性能确定的前提下,大大提高了整体式型塑料排水板的纵向通水量,同时能够控制其厚度数值,大大改善了整体式型塑料排水板的排水效率
  • 一种整体式薄型塑料排水地基竖向排水系统
  • [发明专利]掩膜板、显示背板、显示装置以及掩膜板的制备方法-CN202211668273.4在审
  • 张峰杰;王路;王伟杰;孙中元;薛金祥 - 京东方科技集团股份有限公司
  • 2022-12-23 - 2023-04-04 - C23C14/04
  • 本申请实施例提供一种掩膜板、显示背板、显示装置以及掩膜板,其中,掩膜板包括:掩膜框;掩膜条,连接于掩膜框,掩膜条朝向蒸镀基板的一侧具有支撑面,支撑面设有开孔区域;掩膜片,连接于支撑面朝向蒸镀基板的一侧,掩膜片的朝向蒸镀基板的表面设有减区域,减区域沿远离蒸镀基板的方向凹陷形成,减区域设有多个蒸镀通孔,多个蒸镀通孔与蒸镀基板上的多个第一目标子像素一一对应,且蒸镀通孔的形状与第一目标子像素的预设形状对应;其中,多个开孔区域与多个减区域一一对应且正对设置,开孔区域的正投影面积大于减区域的正投影面积。根据本申请的技术,有利于减小掩膜片与蒸镀基板之间的间隙,降低了蒸镀工艺中的蒸镀阴影效应。
  • 掩膜板显示背板显示装置以及制备方法

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