专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于铬掩膜的铌酸锂薄膜亚微米线宽光波制备方法-CN202210453489.2有效
  • 谢树果;田雨墨;杨燕 - 北京航空航天大学
  • 2022-04-27 - 2023-01-24 - G02B6/13
  • 本发明公开了一种基于铬掩膜的铌酸锂薄膜亚微米线宽光波制备方法,包括以下步骤:获取待加工的铌酸锂薄膜样品;使用电子束蒸发镀膜系统在所述铌酸锂薄膜样品表面沉积铝膜,在铝膜表面旋涂光刻胶,用电子束曝光光刻机将掩膜图案刻在样品上;将样品放置于显影液中进行显影,用电子束蒸发镀膜系统在样品表面沉积铬膜;将样品放入剥离液中,去除光刻胶,留下铬掩膜图形;利用电感耦合等离子体对样品进行刻蚀,得到铌酸锂薄膜亚微米线宽光波。该方法可以制备获得亚微米级线宽的光波,且光波的侧壁垂直度高,基于此工艺加工的铌酸锂光波器件体积小,易集成,具有良好的光约束条件。
  • 基于铬掩膜铌酸锂薄膜微米线宽脊型光波导制备方法
  • [发明专利]一种波导器件的制作方法-CN200410061051.1无效
  • 周立兵;罗风光;曹明翠;袁菁 - 华中科技大学
  • 2004-11-08 - 2005-04-06 - G02B6/10
  • 一种波导器件的制作方法,属于光通信平面波导器件领域,其目的是实现波导掩埋深度和波导线宽无关、且偏振不敏感的平面光波制作。本发明步骤为:对制作波导的基底材料整片进行离子交换,然后进行光刻和等离子体刻蚀,使设计的平面波导器件结构复制到基底材料上并形成结构,再进行第二次离子交换,形成掩埋波导,且波导截面呈圆形。本发明不需要薄膜沉积,成本更低,工艺更简单;波导为同质材料,模场呈圆形轴对称结构,光学传输性能表现为偏振不敏感特性,解决了波导掩埋深度随波导线宽的改变而变化的问题,特别适用于制作阵列波导光栅(AWG)型器件,多模干涉(MMI)型器件等波导线宽不规则的器件。
  • 一种脊形圆波导器件制作方法
  • [发明专利]一种阵列波导光栅光谱平坦化的方法-CN201510666225.5有效
  • 叶彤;储涛;付云飞 - 中国科学院半导体研究所
  • 2015-10-15 - 2015-12-09 - G02B6/12
  • 本发明公开了一种阵列波导光栅光谱平坦化的方法,该方法基于平面光波技术,对阵列波导光栅的通道带宽有改善作用。该方法包括,在阵列波导光栅的或条形波导(包括输入波导、输出波导波导阵列)和平板波导连接处(6),设计制作带孔洞结构(7)的过渡区(预展宽区域)过渡条形波导(或波导)和平板波导,以达到模场预展宽的效果光模场经过波导传输、通过孔洞结构到达平板波导边界时,原有的高斯型模场变换为类似矩形的光模场分布,从而得到平顶的光谱响应。该方法简单易行,适用于大型多路输入多路输出阵列波导光栅,且仅需标准的平面波导制作工艺即可完成。
  • 一种阵列波导光栅光谱平坦方法
  • [发明专利]用于电光调制器的波导电容器-CN201110028768.6有效
  • 李冰 - 李冰
  • 2008-08-20 - 2011-06-08 - G02F1/025
  • 一种用于电光调制器的波导电容器,包括波导,所述波导波导上刻蚀有槽型结构,并在其上加载半导体材料,所加载的半导体材料和波导之间有绝缘层隔离,所加载半导体材料填充至所刻蚀的槽中,其中所述加载后的波导仍保持波导的形状,形成封盖式波导电容;所述绝缘层上直接加载半导体材料;所述波导波导上刻蚀有纵向槽或周期性分布的横向槽结构,所述纵向槽使波导形成双结构,所述横向槽的间隔周期略短于光波长的二分之一。本发明与现有技术相比,波导波导上刻蚀有槽型结构,提高了单位波导导模模斑横截面所携带的电容值,同时,波导导模的有效模斑尺寸比现有的波导电容小,对光的限制因子大,有利于提高调制器的效率。
  • 用于电光调制器波导电容器
  • [发明专利]一种光电神经突触忆阻器-CN202110891073.4在审
  • 黄安平;姬宇航;高勤;王玫;肖志松 - 北京航空航天大学
  • 2021-08-04 - 2021-11-09 - H01L45/00
  • 本发明公开一种光电神经突触忆阻器,其结构由下至上依次包括底电极层、量子点修饰多孔结构层、二维材料层、透明顶电极层、光波层;其特征在于:所述的光波层为光波,具有传导光的作用,其包括有楔形输出端,经所述的光波层的楔形输出端,可以将光垂直射入二维材料层和量子点修饰多孔结构层中。本发明通过集成光波与光电神经突触功能结构,得到具有高对准和限域的光电控制特性,对于光电神经突触器件当中,光电协同作用的控制具有优势。
  • 一种光电神经突触忆阻器

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