专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种高性能复合基带及其制备方法-CN201510298687.6在审
  • 刘志勇;李萌;黎文峰;杨炳方;何庭伟 - 河南师范大学
  • 2015-06-03 - 2015-09-09 - C22C9/06
  • 本发明公开了一种高性能复合基带及其制备方法,属于高温涂层超导体用金属基带的合成技术领域。本发明的技术方案要点为:该高性能复合基带外层初始原料为铜重量百分含量为55%的铜镍合金,芯层初始原料为钨铝混合粉末,该钨铝混合粉末中钨粉和铝粉的原子百分含量分别为4%和5%-7%。本发明还公开了该高性能复合基带的制备方法。本发明制备的铜复合基带具有无磁性、高的机械强度和强立方,铜复合基带的芯层采用钨铝合金,降低了钨元素的含量,节省了原材料的成本,热等静压工艺中采用650℃烧结,细化了内外层合金的晶粒尺寸,增加了晶界的含量
  • 一种性能织构铜基复合基带及其制备方法
  • [实用新型]多层双轴取向隔离层结构-CN200320127737.7无效
  • 杨坚;刘慧舟;古宏伟 - 北京有色金属研究总院
  • 2003-12-15 - 2005-02-23 - H01B12/00
  • 本实用新型公开了一种多层双轴取向隔离层结构,是在立方金属衬底表面上,从下到上依次设有立方氧化种子层、二氧化锆阻挡层、和二氧化铈帽子层。并在二氧化铈帽子层上设有YBCO涂层。本实用新型的优点是:1.立方氧化种子层是立方金属衬底材料自身氧化,无需其它材料,降低成本。2.立方氧化种子层与立方金属衬底兼容性较好。3.由于是通过立方金属衬底表面氧化处理,适宜大规模长带生产,制备手段易连续化。4.二氧化锆阻挡层、和二氧化铈帽子层进一步加强隔离层作用,提高表面质量,改善与YBCO的化学稳定性和结构匹配性。
  • 多层取向隔离结构

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