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[发明专利]等离子体处理装置以及监视装置-CN202210117791.0在审
发明人：平野贤;远藤宏纪 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-02-08 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置,其缩短自等离子体处理装置的等离子体处理空间中的异常的产生至停止向等离子体处理空间的电力的供给的时间。该等离子体处理装置具有:装置侧控制器部,其用于进行与在等离子体处理空间进行的处理相关的控制；高频电源生成部,其用于向等离子体处理空间供给电力；以及监视部,其对自监视对象发送至装置侧控制器部的监视对象信息进行监视,基于监视对象信息检测等离子体处理空间中的异常的产生,并且以停止对于检测到了异常的产生的等离子体处理空间的来自高频电源生成部的电力的供给的方式,对高频电源生成部进行控制,装置侧控制器部对于监视部进行监视部进行监视的监视对象
等离子体处理装置以及监视

[发明专利]一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置-CN202111405568.8在审
发明人：柳晶晶;谭文超;穆金均;钟英英 -专利权人：广州大学
申请日： 2021-11-24 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种筛网电极目数可调的大气压低温等离子体射流处理装置，包括装配体、固定台、第一支撑体、进气口、等离子体发生器、第二支撑体以及高压频率可调交流电源；其中，等离子体发生器包括筛网电极、玻璃介质板和圆形电极本发明解决了等离子体射流装置结构固定导致等离子体射流位置不可调以及处理材料不充分的问题，不仅能随时调整等离子体射流处理材料的距离和随时更换筛网电极目数，还能随时调整被处理区域的位置和增大等离子体射流的面积，真正实现全方位处理材料，提高了等离子体处理材料的灵活性、方便性，使得等离子体射流处理材料得到更加广泛的应用。
一种筛网极目可调大气压低温等离子体射流处理装置

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN200480014926.0无效
发明人：野泽俊久;石桥清隆;中西敏雄 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2004-05-31 - 公布日： 2006-07-05 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体发生装置，可以抑制由产生等离子体引起的对被处理体的损坏，进行适当的等离子体处理。该等离子体处理装置至少包含：对被处理体进行等离子体处理的等离子体处理室；将所述被处理体配置在所述等离子体处理室内的被处理体保持机构；和在该等离子体处理室内产生等离子体的等离子体发生机构，其中等离子体发生机构使用可供给间断的能量的装置
等离子体处理装置方法

[发明专利]多区域气体注入上电极系统-CN201280057644.3有效
发明人：赖安·拜斯;拉金德尔·迪恩赛;阿列克谢·马拉赫塔诺夫;李路民;南尚基;吉姆·罗杰斯;埃里克·赫德森;格拉尔多·德尔加迪诺;安德鲁·D·贝利三世;迈克·凯洛格;安东尼·德拉列拉;达雷尔·埃利希 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2012-11-16 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：一种等离子体处理的系统和方法，该系统和方法包括等离子体处理系统，该等离子体处理系统包括等离子体室和耦联到所述等离子体室的控制器。所述等离子体室包括衬底支撑件和与所述衬底支撑件相对的上电极，所述上电极具有多个同心气体注入区域。
区域气体注入电极系统

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN201910437815.9有效
发明人：松浦广行 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-24 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法，能够抑制由于生成等离子体而导致的等离子体生成部的损伤。等离子体处理装置包括具有等离子体电极的等离子体生成部，能够对收纳在处理容器内的基片进行等离子体处理，上述等离子体生成部的至少与所述等离子体电极相对的部分由合成石英形成。
等离子体处理装置方法

[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法-CN200880114295.8有效
发明人：野野村胜;水上达弘 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2008-11-27 - 公布日： 2010-09-22 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。在将处理对象物收容在处理室内进行等离子体处理的等离子体处理中，在放电检测传感器接收根据等离子体放电的变化而诱发的电位变化的信号，并作为表示电位变化的信号数据暂时记录在信号记录部中，参照记录的信号数据，由信号解析部抽取放电开始波的计数值、异常放电的计数值、微小电弧放电的计数值等表示等离子体放电状态的指标数据，通过由装置控制部监视指标数据而判定等离子体放电的状态，执行为了适当地进行等离子体处理动作的重试处理、累积等离子体处理、维修判定处理
等离子体处理装置方法

[实用新型]工业污泥等离子体全分解焚烧处理设备-CN201820776828.X有效
发明人：朱敏璋;李国财;徐敏;王亚飞;唐军;李伟林 -专利权人：昆山绿威环保科技有限公司
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： F23G5/02 文献下载
摘要：工业污泥等离子体全分解焚烧处理设备,工业污泥引入口(9)接入等离子体焚烧炉(1)，等离子体发生器(2)连接等离子体焚烧炉(1)，氮气源(8)同时接入等离子体发生器(2)和等离子体焚烧炉(1)，冷却水循环装置(3)连接在等离子体发生器(2)和等离子体焚烧炉(1)之间，等离子体焚烧炉(1)分别接出到蒸发回收装置(4)、微量尾气直排口(5)和非挥发废渣外排口(6)。可用于处理需高温裂解的多氯联苯(PCB)等高危险性废弃物；不产生二噁英(Dioxin)等剧毒物质，尾气处理量仅为传统焚烧法的5％至10％，可回收利用；无废水排放，废渣稳定无污染可填埋处理，保证处理安全。
等离子体焚烧炉等离子体发生器工业污泥等离子体焚烧处理设备废渣焚烧冷却水循环装置无废水排放分解多氯联苯高温裂解回收装置剧毒物质能源节约尾气处理氮气源可回收外排口引入口等高挥发可用填埋直排废弃物尾气蒸发安全保证

[发明专利]基于低温等离子体的无机填料高通量羟基化方法和装置-CN202111164775.9在审
发明人：余亮;董守龙;姚陈果 -专利权人：重庆大学
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： C09C1/46 文献下载
摘要：本发明公开基于低温等离子体的无机填料高通量羟基化方法和装置，方法步骤为：1)利用辊对辊装置带动传送带(1)移动，使平铺的待处理填料(3)移动到低温等离子体区；2)电源向位于聚酰亚胺传送带(1)上方的低温等离子体发生器(2)放电；3)等离子体发生器(2)受电后，在低温等离子体区产生大气压低温等离子体；4)所述大气压低温等离子体对位于等离子体区的待处理填料(3)进行处理，得到接枝‑OH基团(羟基)的填料。装置包括传送带(1)、辊对辊装置、电源、等离子体发生器(2)、控制器、温度测量装置和放电功率测量装置；本发明中经过低温等离子体高通量处理的无机填料质量好、接枝效果优越，整个过程不涉及溶剂，不产生有毒副产物
基于低温等离子体无机填料通量羟基方法装置

[发明专利]等离子体非均匀性检测-CN202180008893.2在审
发明人： S·E·萨瓦斯;A·德尚布里耶 -专利权人：科米特技术美国股份有限公司
申请日： 2021-01-09 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种检测射频等离子体处理系统中的等离子体的非均匀性的方法，该方法包括：在所述射频等离子体处理系统的反应室内生成等离子体；以及用关于所述射频等离子体处理系统的室对称轴以方位角部署的多个传感器，检测来自等离子体的在从维持等离子体的射频功率的频率到大约十倍频率的倍数的频率范围内的电信号该方法还包括将由所述多个传感器从等离子体拾取的电信号的波形进行比较；以及基于比较由所述多个传感器中的每一个检测到的等离子体的电性质来确定何时发生等离子体非均匀性。
等离子体均匀检测

[发明专利]等离子体处理装置-CN201080019703.9有效
发明人：卢多维克·葛特;提摩太·J·米勒;克里斯多夫·J·里维特;伯纳德·G·琳赛 -专利权人：瓦里安半导体设备公司
申请日： 2010-04-01 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：一种等离子体处理装置包含：处理腔室；压板，其定位于所述处理腔室中，用于支撑工件；源，其经组态以在所述处理腔室中产生等离子体，所述等离子体具有邻近所述工件的前表面的等离子体鞘；以及绝缘修改器。所述绝缘修改器经组态以控制等离子体与等离子体鞘之间的边界的形状，使得所述边界的形状的一部分不平行于由工件的面向等离子体的前表面界定的平面。控制所述等离子体与所述等离子体鞘之间的所述边界的所述形状使得能够达成撞击所述工件的微粒的较大的入射角范围。
等离子体处理装置

[发明专利]抑制电弧放电的对应等离子体喷头RF顶电极调谐的MERIE等离子体反应器-CN02824112.6有效
发明人： D·J·霍夫曼;Y·叶;D·凯兹;D·A·小布赫贝格尔;X·赵;K－L·姜;R·B·哈根;M·L·米勒 -专利权人：应用材料有限公司
申请日： 2002-09-24 - 公布日： 2005-03-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：用于处理半导体工件的等离子体反应器，包括反应室，其具有室壁并且包含用于夹持半导体工件的工件支撑；电极，其包括室壁的一部分；RF功率发生器，其用于为顶电极提供在发生器频率的功率，并且能在期望的等离子体离子密度级，在室中维持等离子体；在电极—等离子体共振频率，在期望的等离子体离子密度，顶电极与在室中形成的等离子体一起共振，发生器的频率至少接近电极—等离子体的共振频率。反应器还包括围绕上覆在晶片表面的等离子体处理区的一套MERIE磁体，该套MERIE磁体产生搅动等离子体的缓慢环流磁场，以改进搅动等离子体的环流磁场从而改进等离子体密度分布均匀性。
抑制电弧放电对应等离子体喷头 rf 电极调谐 merie 反应器

[发明专利]一种多弧等离子体气化炉-CN202111193494.6在审
发明人：倪国华;李磊;胡磊;孙坡;李淩豪;金国卫 -专利权人：中科等离子体科技（合肥）有限公司
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2022-01-04 - 主分类号： C10J3/20 文献下载
摘要：本发明的一种多弧等离子体气化炉，基于气化炉，气化炉包括进料管、炉排、炉渣收集装置及排烟口；还包括多弧等离子体发生器，所述多弧等离子体发生器安装在等离子体射流导管的侧壁上，多弧等离子体发生器与等离子体射流导管连通；等离子体射流导管布置在气化炉炉壁内侧的炉排上端；等离子体射流导管设有n个出口，为n≥2的自然数，均布于等离子体射流导管，出口的角度与水平面夹角0°≤ɑ≤30°。本发明通过多弧等离子体发生器与环形等离子体射流导管的结合，使得输送到被处理物料区的等离子体射流温度场更加均匀，避免了传统电弧等离子体由于温度梯度大，处理物料过程中易导致局部结渣的问题，提高了气化效率。
一种等离子体气化

[发明专利]用于工件加工的感应耦合等离子体中的增强点火-CN202080004312.3在审
发明人： S·E·萨瓦;马绍铭 -专利权人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了一种等离子体处理设备和相关方法。在一个示例中，等离子体处理设备包括等离子体腔室。所述等离子体处理设备包括形成所述等离子体腔室的至少一部分的介电壁。所述等离子体处理设备包括位于所述介电壁附近的感应耦合元件。所述等离子体处理设备包括紫外光源，该紫外光源被配置用于将紫外光束发射到面对所述等离子体腔室的内部容积的金属表面上。所述等离子体处理设备包括被配置用于控制所述紫外光源的控制器。
用于工件加工感应耦合等离子体中的增强点火

[发明专利]一种低温等离子体处理医疗废水的装置及方法-CN201810322020.9在审
发明人：黄青;张启富;魏星;张宏;柯志刚 -专利权人：芜湖华鹿环保科技有限公司
申请日： 2018-04-11 - 公布日： 2018-10-12 - 主分类号： C02F1/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种低温等离子体处理医疗废水的装置及方法，装置包括有低温等离子体电源、等离子体放电反应器、集水池和供气系统，低温等离子体电源与等离子体放电反应器连接，等离子体放电反应器设置于供气系统的集气罩内，等离子体放电反应器的高压电极对集气罩内的氧气进行等离子体放电生成臭氧，最后臭氧对集水池内的医疗废水进行处理。本发明采用介质阻挡放电技术产生低温等离子体，低温等离子放电产生的高能电子、紫外光和臭氧等对医疗废水进行降解，具有降解效率高，无二次污染等优点。
等离子体放电医疗废水反应器臭氧低温等离子体处理低温等离子体电源供气系统集气罩集水池低温等离子体介质阻挡放电低温等离子无二次污染紫外光高能电子高压电极降解效率放电降解氧气

[实用新型]一种低温等离子体处理医疗废水的装置-CN201820510992.6有效
发明人：黄青;张启富;魏星;张宏;柯志刚 -专利权人：魏星
申请日： 2018-04-11 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： C02F1/46 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种低温等离子体处理医疗废水的装置，包括有低温等离子体电源、等离子体放电反应器、集水池和供气系统，低温等离子体电源与等离子体放电反应器连接，等离子体放电反应器设置于供气系统的集气罩内，等离子体放电反应器的高压电极对集气罩内的氧气进行等离子体放电生成臭氧，最后臭氧对集水池内的医疗废水进行处理。本实用新型采用介质阻挡放电技术产生低温等离子体，低温等离子放电产生的高能电子、紫外光和臭氧等对医疗废水进行降解，具有降解效率高，无二次污染等优点。
等离子体放电医疗废水反应器臭氧低温等离子体处理低温等离子体电源本实用新型供气系统集气罩集水池低温等离子体介质阻挡放电低温等离子无二次污染紫外光高能电子高压电极降解效率放电降解氧气