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- [发明专利]电镀铂槽液的维护方法-CN202111056364.8有效
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朱亦晨;丛霄;李小祥;杨志
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中国航发南方工业有限公司
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2021-09-09
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2022-12-09
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C25D21/14
- 本发明公开了一种电镀铂槽液的维护方法，包括：S1、依据电镀铂工艺试验，确定电镀铂槽液的比重标准范围和pH标准范围，并配制电镀铂槽液，将燃气涡轮叶片浸入电镀铂槽液内进行电镀铂处理；S2、在电镀铂处理后，获得电镀铂槽A液，再次测定电镀铂槽A液的比重，向电镀铂槽A液滴加镀铂AP补充剂，直至电镀铂槽A液的比重在比重标准范围之内，获得电镀铂槽B液；S3、测定电镀铂槽B液的pH，向电镀铂槽B液滴加酸或碱，直至电镀铂槽B液的pH在pH标准范围之内，获得电镀铂槽C液；S4、将S3中的电镀铂槽C液加热到工作温度，搅拌，静止，待电镀铂槽C液加中的悬浮物沉淀完全，完成电镀铂槽液的维护。本发明的电镀铂槽液的维护方法，通过添加镀铂AP补充剂，实现对电镀铂槽液的维护。
- 电镀铂槽液维护方法
- [实用新型]一种电镀液槽装置-CN201520433361.5有效
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谢彪
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谢彪
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2015-06-23
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2015-12-02
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C25D17/02
- 本实用新型提供一种电镀液槽装置，其包括电镀液子槽、电镀液母槽，该电镀液子槽设于电镀液母槽中；其中所述电镀液子槽下部还设有一空腔结构，所述空腔结构底部与电镀液母槽连通，所述空腔结构顶部与电镀液子槽底部连通所述电镀液槽装置后中还包括位置对应并处于同一对称轴上电镀液母槽凹形槽口与电镀液子槽凹形槽口。本实用新型所提供的电镀液槽装置相对传统连续循环电镀线体，可以减小电镀液子槽内电镀液与电镀液母槽内电镀液的液位落差减小，大幅延长电镀溶液中如珍珠镍等有效成分的时效性及其利用率，有效降低生产成本，提高电镀产品质量，并从根本上解决了在水平连续循环电镀线体上进行珍珠镍电镀与镍钴合金等电镀工艺的难题。
- 一种电镀装置
- [实用新型]印刷电路板的表面处理装置-CN200620157107.8无效
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杨延鸿
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扬博科技股份有限公司
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2006-10-17
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2007-10-17
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H05K3/18
- 本实用新型是一种印刷电路板的表面处理装置，是包括有一内部可供印刷电路板输入并浸渍电镀液的电镀槽、一供应电镀槽电镀液，并可供电镀液回流的储液槽，其中该储液槽下方设置有升降装置，储液槽与电镀槽下方连接有可变形的软管，由升降装置将储液槽上升至高于电镀槽时，电镀液便可自动的流向电镀槽而不需任何马达来将电镀液输入至电镀槽，当电镀作业结束后，利用升降装置将储液槽降至低于电镀槽电镀液面的位置，则电镀液便会自动的经由软管回流至储液槽，由于不需要设备中继槽及马达等设备，因此结构简单，可以降低成本。
- 印刷电路板表面处理装置
- [发明专利]一种连续电镀线装置-CN201210546266.7有效
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谢彪;庞美兴
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苏州市安派精密电子有限公司
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2012-12-17
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2013-04-17
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C25D3/12
- 本发明公开了一种连续电镀线装置，包括环形的钢带以及安装在钢带下方的电镀液槽，所述的电镀液槽包括电镀液子槽和电镀液母槽，多个待电镀的工件悬挂在所述的钢带下方，所述的钢带运行时待电镀的工件进入所述的电镀液子槽内由电镀液进行电镀处理，由所述的电镀液母槽向所述的电镀液子槽输送电镀液，控制电镀液子槽内电镀液和电镀液母槽内电镀液的液位落差。通过上述方式，本发明保证了电镀液子槽内电镀液和电镀液母槽内电镀液的液位落差大大减小，相对传统连续电镀线体，其电镀溶液循环时冲击力大幅降低，有利于抑制珍珠镍溶液中有机成分的分解，从而大幅度延长电镀溶液中珍珠镍的时效性，从根本上解决了在连续电镀线体上进行珍珠镍电镀的难题。
- 一种连续电镀线装
- [实用新型]一种电镀设备的独立回收装置-CN202120646176.X有效
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邹俊峰;孙昌波;罗应勇
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东莞金镀实业有限公司
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2021-03-31
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2021-11-12
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C25D21/18
- 本实用新型涉及自动化设备技术领域，尤其涉及一种电镀设备的独立回收装置，包括电镀槽，所述电镀槽的右端依次设置有电镀液回收槽和电镀元件清洗槽，所述电镀槽的上方设置有电镀元件运输装置，所述电镀液回收槽的下方设置有集液槽，所述电镀液回收槽与集液槽之间设置有回收管，所述回收管的两端分别与电镀液回收槽和集液槽连通，本实用新型可将电镀工件表面的电镀滴液进行有效回收，有效减少电镀液的损耗，能够再次利用，降低生产成本；并且避免对电镀液进行防污染处理，降低废水治理的负荷；同时，可免除电镀滴液对电镀设备表面造成的污染及腐蚀，从而延长设备使用寿命及降低设备的故障发生率。
- 一种电镀设备独立回收装置
- [发明专利]一种电镀设备用挡液装置-CN201210449944.8无效
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夏品军
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江苏矽研半导体科技有限公司
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2012-11-12
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2013-02-06
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C25D21/12
- 本发明公开了一种电镀设备用挡液装置，包括：电镀液母槽（2）；电镀液子槽（4），安装于所述电镀液母槽（2）的上方；其特征在于：还包括：电镀液过渡槽（6），安装于所述电镀液母槽（2）的上方、用于收容从所述电镀液子槽（4）中溢流出来的电镀液；回流管（7），一端与所述电镀液过渡槽（6）相通，另一端竖直向下延伸至所述电镀液母槽（2）内的底部；挡液板（8），安装在所述电镀液过渡槽（6）中，并能够根据所述电镀液过渡槽（6）中的液面高度打开或关闭，在打开时，电镀液能够通过所述回流管（7）回流至所述电镀液母槽（2）中。本发明能够使电镀液液面波动小，使电流密度保持稳定,且镀件质量较好。
- 一种电镀备用装置
- [实用新型]一种电镀设备用挡液装置-CN201220593058.8有效
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夏品军
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江苏矽研半导体科技有限公司
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2012-11-12
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2013-06-05
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C25D21/10
- 本实用新型公开了一种电镀设备用挡液装置，包括：电镀液母槽（2）；电镀液子槽（4），安装于所述电镀液母槽（2）的上方；其特征在于：还包括：电镀液过渡槽（6），安装于所述电镀液母槽（2）的上方、用于收容从所述电镀液子槽（4）中溢流出来的电镀液；回流管（7），一端与所述电镀液过渡槽（6）相通，另一端竖直向下延伸至所述电镀液母槽（2）内的底部；挡液板（8），安装在所述电镀液过渡槽（6）中，并能够根据所述电镀液过渡槽（6）中的液面高度打开或关闭，在打开时，电镀液能够通过所述回流管（7）回流至所述电镀液母槽（2）中。本实用新型能够使电镀液液面波动小，使电流密度保持稳定，且镀件质量较好。
- 一种电镀备用装置
- [发明专利]电镀设备-CN201911404930.2在审
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贾照伟;焦欣欣;王坚;王晖
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盛美半导体设备（上海）股份有限公司
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2019-12-31
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2021-07-16
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C25D21/00
- 本发明提供一种电镀设备，电镀设备包括多个电镀模块，每个所述电镀模块包括为其提供电镀液的供液槽；以及连通管路，设置于不同的供液槽之间，以实现对应供液槽之间的液体互通。通过上述方案，本发明的电镀设备，对于多个电镀模块中的供液槽，用于供应相同电镀时，可以通过连通管路实现相互连通，对各供液槽中的电镀液相互混合，使得多个供液槽内的电镀液理化性质相同，从而可以对其中任意一个电镀模块中的电镀液进行分析以表征多个电镀模块中电镀液的特征，多个供液槽通过连通管路相互连通，有利于各个电镀模块中电镀效果的一致性，还可以实现相互之间供液槽液位的调整。
- 电镀设备
- [实用新型]电镀液槽系统-CN201520596758.6有效
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谢彪
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谢彪
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2015-08-08
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2015-12-09
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C25D17/02
- 本实用新型涉及电镀领域,尤其是涉及一种电镀液槽系统,包括电镀液母槽，其特征在于：电镀液母槽底部设置有循环进液口和循环出液口，循环进液口和循环出液口之间有一条电镀液通路，电镀液通路上设置有过滤补液装置。本实用新型的一种电镀液槽系统具有可以进行连续电镀，在电镀过程中电镀层均匀的优点，尤其适合K4沙丁镍电镀液的电镀作业。
- 电镀系统
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