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[发明专利]一种快速激光刻痕方法-CN201010562021.4有效
发明人：黄望芽;李国保;张鑫强;毛兴;郭万青;朱简如;向邦林 -专利权人：宝山钢铁股份有限公司
申请日： 2010-11-26 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： C21D8/12 文献下载
摘要：一种快速激光刻痕方法，采用激光刻痕设备，在取向硅钢带钢上、下表面同时进行激光刻痕，将高度聚焦的连续波激光束同时在运行的带钢上、下表面进行划线，带钢上、下表面刻痕线采用等间距交错的形式，以保证刻痕铁损改善效果均匀，带钢单个表面的刻痕线间距6～12mm；激光功率1000～3000W，扫描速度100～400m/min。本发明的目的在于提供一种快速激光刻痕方法，通过在取向硅钢带钢上、下表面同时进行激光刻痕，加工速度达到传统单面激光刻痕方法的1.5～2倍；激光刻痕产品的铁损改善率稳定达到10％～16％。
一种快速激光刻痕方法

[发明专利]激光刻痕机在拉伸平整退火机组上动态同步刻痕的应用-CN202010487399.6有效
发明人：刘鹏程;刘宝志;张嘉声;张艳芳;王强;李刚;胡强;李艳霞 -专利权人：包头市威丰稀土电磁材料股份有限公司;包头威丰新材料有限公司
申请日： 2020-06-02 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： B23P23/06 文献下载
摘要：本发明克服了现有技术存在的不足，提供了一种激光刻痕机在拉伸平整退火机组上动态同步刻痕的应用，为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：激光刻痕机在CT线上不同工艺速度下动态同步刻痕的应用，包括由上料开卷机、清洗段、第一烘干段、涂层机组、第二烘干段、加热段、冷却段、活套、张力机、测磁仪和收卷机依次相连形成的CT生产线，所述CT生产线上设置有激光刻痕机，所述激光刻痕机位于张力机和测磁仪之间，所述激光刻痕机的多个激光头交替刻痕确保取向硅钢带同步动态刻痕，通过调整所述激光刻痕机的多个激光头的高度控制刻痕宽幅，调整所述激光刻痕机的多个激光头的焦距控制刻痕深度，及控制多个激光头相应时间来满足刻痕间隔要求。
激光刻痕拉伸平整退火机组动态同步应用

[发明专利]取向硅钢激光刻痕装置及取向硅钢激光刻痕自动生产线-CN201710397113.3有效
发明人：张健;陈志斌;黄山石;陈啸;陈宗旺;戴童;李浩楠 -专利权人：温州大学激光与光电智能制造研究院;温州市质量技术监督检测院
申请日： 2017-05-31 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： C21D8/12 文献下载
摘要：本发明提供一种取向硅钢激光刻痕装置及取向硅钢激光刻痕自动生产线，涉及激光加工技术领域，取向硅钢激光刻痕装置包括第一传送机构、第二传送机构和激光刻痕机构；激光刻痕机构用于将取向硅钢带的外表面刻痕；第一传送机构和第二传送机构沿取向硅钢带的轧向分别设置在激光刻痕机构的两端，用于传送取向硅钢带；且第一传送机构上设有第一张紧件，第二传送机构上设有第二张紧件，在刻痕时第一张紧件和第二张紧件能够配合使激光刻痕机构上的取向硅钢带张紧。在第一张紧件和第二张紧件的配合下，激光刻痕机构上的取向硅钢带张紧在激光刻痕机构的工作台的台面上，能够在刻痕的过程中使取向硅钢带保持稳定，使激光光束能够精确地作用在取向硅钢带的表面，提高激光刻痕的精确度。
取向硅钢激光刻痕装置自动生产线

[发明专利]一种检测激光刻痕设备中异常镜片的方法-CN201710852367.X有效
发明人：向邦林;郭万青;侯长俊;徐志超;胡钧 -专利权人：宝山钢铁股份有限公司
申请日： 2017-09-19 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种检测激光刻痕设备中异常镜片的方法。本发明的检测激光刻痕设备中异常镜片的方法，包括如下步骤：S1、在聚焦镜和带钢之间设置一遮光部件；S2、控制激光器发射激光光线并形成激光束，控制激光束沿带钢的宽度方向扫描；S3、确定带钢上是否具有由激光束扫描形成的刻痕线以及刻痕线上断点的长度；S4、当带钢上无刻痕线或者断点的长度与预设长度值不一致时，确定扫描镜异常。本发明的检测激光刻痕设备中异常镜片的方法，能够结合光学反射的原理快速准确地判断出激光刻痕设备中的异常镜片，并且无需拆卸激光刻痕设备。
一种检测激光刻痕设备异常镜片方法

[发明专利]一种激光刻痕机在纵剪线上的应用-CN201910725001.5有效
发明人：刘鹏程;张艳芳;刘宝志;李振兴;贾建峰 -专利权人：包头市威丰稀土电磁材料股份有限公司
申请日： 2019-08-07 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： C21D8/12 文献下载
摘要：本发明一种激光刻痕机在纵剪线上的应用，属于取向硅钢生产设备技术领域；提供了一种大功率、且刻痕质量较高的应用激光刻痕机的纵剪线；技术方案为：一种激光刻痕机在纵剪线上的应用，包括：上料开卷段、清洗段、第一烘干段、刻痕段、涂层段、第二烘干段、退火段、测磁段和下料收卷段；所述上料开卷段、清洗段、第一烘干段、刻痕段、涂层段、第二烘干段、退火段、测磁段和下料收卷段依次设置，所述刻痕段采用激光刻痕机；所述刻痕段还包括凹透镜，所述凹透镜设置于若干并列设置的激光刻痕机的下方；本发明可广泛应用于取向硅钢刻痕领域。
一种激光刻痕线上应用

[发明专利]一种智能多头取向硅钢激光刻痕装备及其控制方法-CN201910373925.3有效
发明人：刘汝松 -专利权人：南京苏星智能装备有限公司
申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2020-09-11 - 主分类号： C21D1/09 文献下载
摘要：本发明公开了一种双针多头取向钢激光刻痕装备，包括刻痕机构以及补偿控制机构，所述刻痕机构包括若干对激光扫描组件，每对激光扫描组件包括脉冲激光发射光源、激光振镜扫描头以及用于调节激光扫描组件姿态的微调控制机构本发明的双针多头取向钢激光刻痕装备，通过多组激光扫描组件的联合作业，每组激光驱动单针刻痕作业，计算机数控实现每对激光扫描组件双针同组差动快速刻制，实现与取向硅钢生产线同步的刻痕，本取向钢激光刻痕装备的最大作业速度可以实现刻痕速度每分钟60～120m，通过计算机数控实现多组激光扫描组件联动作业，满足全幅面取向硅钢的激光刻痕，多对激光扫描组件同时作业并实时补偿。
一种智能多头取向硅钢激光刻痕装备及其控制方法

[实用新型]一种基于多面棱镜四光路双通道激光刻痕光学系统-CN201721198713.9有效
发明人：邵华江;李思佳;李思泉 -专利权人：上海嘉强自动化技术有限公司
申请日： 2017-09-19 - 公布日： 2018-04-17 - 主分类号： G02B26/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于多面棱镜四光路双通道激光刻痕光学系统，包括组合准直镜阵列模块、柱面聚焦镜阵列模块、棱镜前平反镜组阵列模块、多面棱镜、长条离轴抛物柱面镜阵列模块、吸光阵列模块、长条斜平反镜组阵列模块、长条平反镜阵列模块、长条斜抛物柱面镜阵列模块以及刻痕材料。本实用新型提供的一种适用于取向硅钢激光刻痕细化磁畴以降低铁损,具有刻痕速度超快、扫描幅面极宽、加工效率极高等优势，极大程度提高了多面棱镜的利用效率，同时也成倍提升了激光刻痕效率，且适用于光纤激光器激光刻痕应用的基于多面棱镜的四光路双通道激光刻痕光学系统
一种基于多面棱镜四光路双通道激光刻痕光学系统

[发明专利]一种取向硅钢的耐热型激光刻痕方法-CN202210457773.7在审
发明人：史凯琳 -专利权人：上海宝鼎机械制造有限公司
申请日： 2022-04-28 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： C21D8/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种取向硅钢的耐热型激光刻痕方法，使硅钢带在聚焦辊上形成30˚～120˚的包角；以及对聚焦辊上的硅钢带施加至少15N/mm2的张应力，使其在激光刻痕区域的上表面获得足够的拉应力本发明的产品刻痕影响区更深，闭合磁畴的体积更大，达到提高激光刻痕改善效率和耐高温的效果。本发明方法具有刻痕方法简单、刻痕效率高、高温时效性能好的明显优势，对于连续或脉冲激光刻痕方法均适用。
一种取向硅钢耐热激光刻痕方法

[发明专利]一种金属膜片Ω形刻痕的皮秒激光刻蚀加工方法-CN202111284260.2在审
发明人：杨祎;常涛;解庆;刘伟;张春红;张亮;张玻溶 -专利权人：西安航天动力研究所
申请日： 2021-11-01 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本发明提供了一种金属膜片Ω形刻痕的皮秒激光刻蚀加工方法，主要解决了传统激光刻蚀路径设计方法无法实现不规则形状刻痕加工以及网格点集填充激光刻蚀路径导致加工效率较低的问题。本发明首先对Ω形刻痕图样进行规则图形的拆分和还原，其次采用点集制图软件生成Ω形刻痕点集群，并基于点集群进行Ω形刻痕路径的设计并进行初步绘制；再次使用皮秒激光加工工艺进行Ω形刻痕的加工；最后对出现的缺陷进行修正后完成金属膜片Ω形刻痕的皮秒激光刻蚀加工。本发明提供的设计方法可用于大尺寸、任意刻痕深度、任意材料的Ω形刻痕金属膜片的皮秒激光加工，进而将带有Ω形刻痕的金属膜片应用于液体火箭发动机膜片阀。
一种金属膜片刻痕激光刻蚀加工方法

[发明专利]一种Fe基中高频非晶纳米晶带材及其制备方法-CN202210890639.6在审
发明人：夏满龙 -专利权人：盐城晶径科技有限公司
申请日： 2022-07-27 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： H01F1/153 文献下载
摘要：本发明公开了一种Fe基中高频非晶纳米晶带材，采用非晶纳米晶材料，应用于磁场强度0.1T—1.4T，频率400Hz—100kHz的中高频变压器，至少有一面具有多个激光照射刻痕，激光刻痕间距1mm—60mm，激光刻痕光束直径在0.1—0.5mm，激光斑点间距0.1mm—0.3mm。通过激光刻痕加工，将带材的磁畴宽度a1设定为原带材磁畴宽度a0的1/10—1/3，且通过S3步骤得出磁畴宽度a1后，根据以下公式确定激光刻痕间距：d*a＝μ/logf。本发明所述的Fe基中高频非晶纳米晶带材及其制备方法，采用创新的激光刻痕间距确定方法与退火工艺，能够迅速确定最佳的激光刻痕工艺参数和退火工艺，提升带材的中高频性能，降低30％—50％的损耗，制造出性能更优的非晶纳米晶带材及器件
一种 fe 高频纳米晶带材及其制备方法

[实用新型]一种拉伸平整线卷取前进行激光刻痕的设备-CN202023009487.X有效
发明人：严九江 -专利权人：海安华诚新材料有限公司
申请日： 2020-12-14 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种拉伸平整线卷取前进行激光刻痕的设备，包括工作台和接屑盒，所述工作台的上方设置有安装架，且安装架的内部设置有滑动轨，所述滑动轨的内部安装有滑动调节杆，且滑动调节杆的右侧设置有激光刻痕仪，所述工作台的外表面设置有掉屑孔，所述激光刻痕仪的右侧设置有压平辊，且压平辊的右侧设置有支架，所述支架的内侧设置有转轴，且转轴的内侧设置有收卷辊，所述支架的上方设置有电机，且支架的外表面设置有卡槽。该拉伸平整线卷取前进行激光刻痕的设备，通过设置的滑动轨，能够使激光刻痕仪通过滑动调节杆在滑动轨内进行前后滑动，从而能够便于根据需要将激光刻痕仪调节到合适的使用位置，提高了装置的实用性。
一种拉伸平整卷取进行激光刻痕设备

[发明专利]一种激光刻痕降低取向硅钢铁损的制造方法-CN202110413499.9有效
发明人：刘宝志;刘瑞祥;张艳芳;张航;李艳霞;孙振东;李源;张浩 -专利权人：包头市威丰稀土电磁材料股份有限公司
申请日： 2021-04-16 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： B23P15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光刻痕降低取向硅钢铁损的制造方法，采用0.23‑0.35mm厚取向硅钢作为原材料，钢带在拉伸热平整线出炉后进行激光刻痕处理，细化磁畴，进而降低取向硅钢成品铁损值，达到优化磁性能的目的。本发明的激光刻痕处理后取向硅钢的铁损改善率可达到9‑16％，且经过500℃以上退火后，铁损又恢复到刻痕前状态。
一种激光刻痕降低取向硅钢制造方法

[发明专利]一种取向硅钢分区不等功率的激光刻痕方法-CN202310417860.4在审
发明人：魏新帝;王祥;朱桢;庞静希;程笑天;黄迁亮 -专利权人：无锡普天铁心股份有限公司;安庆新普电气设备有限公司
申请日： 2023-04-19 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： B23K26/362 文献下载
摘要：本发明是一种取向硅钢分区不等功率的激光刻痕方法，将取向硅钢带在横向上划分为三个横向分区，每个横向分区对应设置一个激光头，三个激光头在同一高度布置，三个激光头分别采用不同功率对对应的横向分区的取向硅钢带表面同时进行激光刻痕本发明的优点：针对取向硅钢卷在横向方向上性能和表面状态分布不均匀的特点，对整卷取向硅钢进行横向分区，采用具有不同功率的工艺方案对不同分区进行激光刻痕。采用本发明取向硅钢分区不等功率的激光刻痕方法，在保证整卷取向硅钢带均能得到显著的刻痕降损效果的同时，还能避免或减小对绝缘涂层的损伤，从而获得具有优良磁性能及表面质量的取向硅钢产品。
一种取向硅钢分区不等功率激光刻痕方法

[发明专利]用激光刻痕脱碳板以改善取向硅钢片磁致伸缩的方法-CN202210093164.8在审
发明人：程祥威;田文洲;郭小龙;骆新根;高洋;申明辉;党宁员 -专利权人：武汉钢铁有限公司
申请日： 2022-01-26 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： C21D1/00 文献下载
摘要：用激光刻痕脱碳板以改善取向硅钢片磁致伸缩的方法：冶炼后浇注成坯；铸坯加热；两段常化处理；酸洗后冷轧；脱碳退火；对脱碳板激光刻痕；涂敷退火隔离剂；经对退火隔离剂烘干后高温退火；涂敷退火隔离剂后涂敷绝缘涂料；对绝缘涂层经烘干后烧结；对成品板激光刻痕。本发明通过采用高温加热，使基板磁致伸缩在λp‑p17/50≤600nm/m，A加权磁致伸缩速度在AWV17/50≤53dB(A)，磁感应强度B8≥1.92T，并经在脱碳板上激光刻痕，获得高张力隔离底层、绝缘涂层及成品板横向激光刻痕，在基板上形成复合张力，从而获得磁致伸缩λp‑p17/50≤200nm/m，A加权磁致伸缩速度AWV17/50≤49dB(A)，磁感应强度B8≥1.915T。
激光刻痕脱碳改善取向硅钢片伸缩方法

[发明专利]成双激光刻痕的泡罩包装盖-CN200980118649.0有效
发明人：克里斯蒂·L·斯托耶克 -专利权人： WM.雷格利JR.公司
申请日： 2009-05-20 - 公布日： 2011-04-27 - 主分类号： B65D75/32 文献下载
摘要：一种可破裂的泡罩包装多层盖片，具有顶层(3)、底层(4)和至少一个无激光刻痕的中间层(15)，所述顶层和底层具有两两对准的激光刻痕(6、7)。
成双激光刻痕包装

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