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[发明专利]采用纳米过滤的抗蚀剂剥离液连续使用系统-CN200880020488.7无效
发明人：住田正直;林秀生 -专利权人：东亚合成株式会社
申请日： 2008-06-27 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明要解决的课题是提供：不进行剥离液交换、即使进行长时间剥离，用于抗蚀剂剥离的剥离液中的抗蚀剂成分的浓度处于一定浓度范围内的系统。采用剥离液进行正型抗蚀剂剥离时，剥离液中溶解的抗蚀剂成分，采用特定的陶瓷过滤器(5)进行错流过滤使其减少。而且，剥离工序生成的含抗蚀剂成分的剥离液，在过滤工序进行处理，副产的抗蚀剂成分浓度被浓缩的浓缩剥离液适当排至体系外，向被除去抗蚀剂成分的处理剥离液中适当添加新剥离液后的剥离液，再度于剥离工序中使用，从而完成抗蚀剂剥离系统
采用纳米过滤抗蚀剂剥离连续使用系统

[发明专利]一种防水抗污超纤面料及其加工工艺-CN202310494747.6在审
发明人：徐博华;姚佳灵;邵慧 -专利权人：华尔泰国际纺织（杭州）有限公司
申请日： 2023-05-05 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： D06M15/576 文献下载
摘要：本发明公开了一种防水抗污超纤面料，包括海岛短纤和抗污树脂液，由海岛短纤和抗污树脂液制成，先将海岛短纤制成无纺布，之后浸入抗污树脂液中，其中抗污树脂液能够赋予该面料优异的防水和抗污性能，该抗污树脂液为改性聚氨酯，通过在制备出的聚氨酯上引入大量含氟基团，显著提高聚氨酯的疏水性，提高抗污性能，当无纺布浸入制备出的树脂液后，树脂液中引入的中间体2结构中的硅氧烷能够水解，进而使得聚氨酯牢牢的与无纺布附着。
一种防水抗污超纤面料及其加工工艺

[发明专利]基板处理装置及送液装置-CN200410028733.2有效
发明人：高木善则;福地毅;北泽裕之;安藤美奈子 -专利权人：大日本屏影象制造株式会社
申请日： 2004-03-12 - 公布日： 2004-09-22 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：提供一种不产生颗粒，将处理液高精度地送液的装置。在将抗蚀剂液(处理液)向狭缝喷嘴(41)送液的送液机构(80)中设有抗蚀剂液泵(81)和驱动机构(82)。此外，在抗蚀剂液泵(81)上设有小直径的第1波纹管、大直径的第2波纹管、第1波纹管与第2波纹管的结合部件及构成抗蚀剂液的流路的管。通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积减少，管内的抗蚀剂液被向狭缝喷嘴(41)送液。此外，通过驱动机构(82)向图3中下方向移动结合部件，管的内部容积增加，将抗蚀剂液向抗蚀剂液泵(81)吸引。
处理装置

[发明专利]一种织物磁力提升沾液吸附式抗紫外整理方法-CN201811062032.9在审
发明人：曹根阳;盛丹;潘恒;刘冰倩;徐卫林 -专利权人：武汉纺织大学
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2019-02-01 - 主分类号： D06B1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种织物磁力提升沾液吸附式抗紫外整理方法，属纺织技术领域。本发明采用的整理液槽为中空状，在整理液槽内活动设置有铁制沾液板，在整理液槽上方固定设置有电磁铁，电磁铁与铁制沾液板相对应，电磁铁与铁制沾液板的表面积相等，电磁铁的磁力与铁制沾液板的重量和整理液槽的深度成正比这种整理方法使得织物与抗紫外整理液不直接接触，不会发生织物过量吸附抗紫外整理液中的抗紫外整理剂而导致抗紫外整理液中的浓度改变的现象。因此，采用本技术方案，实现了抗紫外整理过程中抗紫外整理液浓度不改变，有利于保证织物抗紫外效果前后一致性。
抗紫外整理电磁铁沾液整理液铁制磁力提升吸附式纺织技术领域抗紫外整理剂不直接接触行程控制器主动导辊组固定设置活动设置磁力成正比中空状板相吸附相等过量保证

[发明专利]一种织物磁力提升沾液吸附式抗皱整理方法-CN201811062959.2在审
发明人：曹根阳;潘恒;盛丹;刘冰倩;徐卫林 -专利权人：武汉纺织大学
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： D06M10/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种织物磁力提升沾液吸附式抗皱整理方法，属纺织技术领域。本发明采用的整理液槽为中空状，在整理液槽内活动设置有铁制沾液板，在整理液槽上方固定设置有电磁铁，电磁铁与铁制沾液板相对应，电磁铁与铁制沾液板的表面积相等，电磁铁的磁力与铁制沾液板的重量和整理液槽的深度成正比这种整理方法使得织物与抗皱整理液不直接接触，不会发生织物过量吸附抗皱整理液中的抗皱整理剂而导致抗皱整理液中的浓度改变的现象，也不会造成织物抗皱整理效果因为浓度发生变化而产生差异性。因此，采用本技术方案，实现了抗皱整理过程中抗皱整理液浓度不改变，有利于保证织物抗皱效果前后一致性。
电磁铁沾液抗皱整理液整理液抗皱铁制磁力提升吸附式纺织技术领域织物抗皱整理不直接接触抗皱整理剂行程控制器主动导辊组固定设置活动设置磁力差异性成正比中空状板相吸附相等过量保证

[发明专利]涂敷处理方法、涂敷处理装置和计算机能够读取的存储介质-CN200880008386.3有效
发明人：吉原孝介;井关智弘;高柳康治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-02-28 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在涂敷工序中，使基板高速旋转，在此状态下从第一喷嘴向基板的中心部喷出抗蚀剂液，在基板上涂敷抗蚀剂液。接着，在平坦化工序中，使基板的旋转减速，使基板以低速旋转，使基板上的抗蚀剂液平坦化。此时，涂敷工序中的第一喷嘴进行的抗蚀剂液的喷出持续进行至平坦化工序的中途，在该平坦化工序中在使抗蚀剂液的喷出结束时，使第一喷嘴移动，使抗蚀剂液的喷出位置从基板的中心部移动。采用本发明，能够在基板面内均匀地涂敷抗蚀剂液。
处理方法装置计算机能够读取存储介质

[发明专利]抗蚀液涂敷方法和装置-CN200310104695.X无效
发明人：高森秀之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2003-10-27 - 公布日： 2004-06-02 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的目的是抑制在被处理基板上涂敷的抗蚀液在干燥处理中的移动、保证抗蚀膜的膜厚均一性的抗蚀液涂敷方法和抗蚀液涂敷装置。抗蚀液喷嘴头154沿点划线A所示路线移动，对第1列至第3列依次进行涂敷扫描。更详细地说，沿Y方向穿过各个列的液晶板区域S移动，仅仅限定向各涂敷区域E(图中斜线部分)涂敷抗蚀液。从而，基板G的被处理面中，仅仅向与液晶板区域S分别对应的涂敷区域E以大致一定的膜厚涂敷了抗蚀液。基板周缘部和相邻接的涂敷区域E、E的间隙d中，残留有不存在抗蚀液膜的空区域。
抗蚀液涂敷方法装置

[发明专利]抗蚀剂剥离装置-CN03178649.9无效
发明人：中川俊元;小川修;森田悟;小早川泰之;菊川诚 -专利权人：长濑产业株式会社;株式会社平间理化研究所;长濑CMS科学技术株式会社
申请日： 2003-07-18 - 公布日： 2004-02-25 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种抗蚀剂剥离装置，具有收容粘附抗蚀剂的基板、向该基板上供给抗蚀剂剥离液的抗蚀剂剥离室，与前述抗蚀剂剥离室相连接、导入含该抗蚀剂剥离室内的抗蚀剂剥离液成分的混合气、分离该混合气中的该抗蚀剂剥离液成分的气液分离部分，与前述气液分离部分相连接、把分离的前述抗蚀剂剥离液成分供给前述抗蚀剂剥离室内的回收抗蚀剂剥离液供给部分。
抗蚀剂剥离装置

[发明专利]抗蚀剂剥离液控制装置-CN98108312.9无效
发明人：中川俊元;中川光元;小川修;西嶋佳孝;宝山隆博 -专利权人：株式会社平间理化研究所;长濑产业株式会社
申请日： 1998-05-12 - 公布日： 2003-05-14 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：一种在半导体制造工艺或液晶基板制造工艺中对用于剥离抗蚀剂的抗蚀剂剥离液进行控制的装置，其目的是将抗蚀剂剥离液的质量控制恒定，而且削减溶液使用量，减少停机时间并降低成本。该控制装置具有一个用于通过吸光光度计16测定抗蚀剂剥离液中溶解的抗蚀剂浓度并补给抗蚀剂剥离原液、羟胺溶液、纯水以及预先调配好的抗蚀剂剥离新液中至少一种的抗蚀剂浓度测定·液体补给装置；以及一个用于通过吸光光度计15测定抗蚀剂剥离液中的羟胺浓度并补给抗蚀剂剥离原液、羟胺溶液和纯水中至少一种的羟胺浓度测定·液体补给装置。
抗蚀剂剥离控制装置

[发明专利]AnnexinV‑FITC细胞凋亡试剂盒-CN201610432720.4在审
发明人：马永江 -专利权人：广州杰特伟生物科技有限公司
申请日： 2016-06-17 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： G01N33/542 文献下载
摘要：本发明公开了AnnexinV‑FITC细胞凋亡试剂盒，所述试剂盒包括：含0.6‑0.8％BSA的PBS缓冲液，含2.5‑4％多聚甲醛的PBS缓冲液，含0.6‑0.8％Triton X‑100和0.06‑0.08％吐温40的PBS缓冲液，兔抗caspase‑3一抗，带有Alexa Fluor488绿色荧光素标记的山羊抗兔IgG二抗，含18‑22μM DAPI的PBS缓冲液。所述兔抗caspase‑3一抗是用合成的人caspase‑3蛋白中靠近Asp175的氨基末端残基的多肽抗原免疫兔子获得的多克隆抗体；兔抗caspase‑3一抗按1:600的体积比稀释于封闭液中。所述山羊抗兔IgG二抗按1:600的体积比稀释于封闭液中；其中，所述封闭液为含10％山羊血清和0.06‑0.08％吐温40的PBS液。
annexinv fitc 细胞试剂盒

[发明专利]显影方法和显影装置-CN201510336734.1有效
发明人：竹口博史;井关智弘;寺下裕一 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-06-17 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成CD分布均匀性足够高的抗蚀剂的显影方法。本发明涉及的显影方法，其用于对基板表面上的曝光后的抗蚀剂膜进行显影来形成抗蚀剂图案，依序具有如下步骤：(A)向旋转的基板供给显影液的步骤；(B)使抗蚀剂膜与显影液反应的步骤；和(C)为了使抗蚀剂膜与显影液的反应停止而从抗蚀剂膜表面除去显影液的步骤，在(A)步骤中，使用接液喷嘴，该接液喷嘴具有显影液的排出口和从排出口在横向扩展且与抗蚀剂膜相对的面，并且在(C)步骤中，使除去了显影液的抗蚀剂膜表面的反应停止区域和与显影液的反应持续进行的抗蚀剂膜表面的反应进行区域的边界从抗蚀剂膜的中心部向周缘部移动
显影方法装置

[发明专利]提高酶标工作液抗人IgA碱性磷酸酶活性的工艺方法-CN201310343210.6无效
发明人：朱京山 -专利权人：北京和杰创新生物医学科技有限公司
申请日： 2013-08-08 - 公布日： 2015-02-11 - 主分类号： G01N33/535 文献下载
摘要：本发明提供一种提高酶标工作液抗人IgA碱性磷酸酶活性的工艺方法，包括根据抗人IgA碱性磷酸酶自身特点配制相应的酶标二抗工作液；其改进之处是，在所述配制好的酶标二抗工作液中依次加入下列物质：（1）加入低浓度高分子聚合物，使加入的高分子聚合物溶解于配制好的酶标二抗工作液中；（2）在加入高分子聚合物的酶标二抗工作液中再加入抗人IgA碱性磷酸酶，进行搅拌，使其充分溶解，得到提升抗人IgA碱性磷酸酶活性的酶标二抗工作液；通过加入低浓度的高分子聚合物达到提高抗人
提高工作液 iga 碱性磷酸酶活性工艺方法

[发明专利]液浸曝光工艺用抗蚀剂材料以及使用该抗蚀剂材料的抗蚀剂图案形成方法-CN200480005913.7无效
发明人：岩下淳;平山拓;立川俊和 -专利权人：东京応化工业株式会社
申请日： 2004-03-04 - 公布日： 2006-04-05 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供含有树脂成分和该树脂成分的交联剂成分，且上述交联剂成分对液浸介质难溶的液浸曝光工艺用负性抗蚀剂材料，以及使用该材料的抗蚀剂图案形成方法。由此在液浸曝光工艺中，即使在平板印刷曝光的光达到抗蚀剂膜的路径的至少上述抗蚀剂膜上，介在折射率比空气高且折射率比上述抗蚀剂膜低的规定厚度的液体的状态下进行曝光，来提高抗蚀剂图案的分辨率的液浸曝光工艺中，可以同时防止液浸曝光中的抗蚀剂膜变质和使用液体的变质，可以形成用液浸曝光的高分辨率抗蚀剂图案。
曝光工艺用抗蚀剂材料以及使用抗蚀剂图案形成方法

[发明专利]抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法、除去装置、及抗蚀剂显像液的浓度控制方法-CN200610005718.5无效
发明人：梅枝孝道;北川悌也 -专利权人：长濑产业株式会社;长濑CMS科学技术株式会社
申请日： 2006-01-06 - 公布日： 2006-07-12 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明目的在于提供从含TMAH及碳酸盐的抗蚀剂显像液中除去碳酸盐的方法、装置及抗蚀剂显像液的浓度控制方法。本发明所述的抗蚀剂显像液中碳酸盐的除去方法包括利用NF膜过滤含TMAH及碳酸盐的抗蚀剂显像液的过滤工序。
抗蚀剂显像碳酸盐除去方法装置浓度控制

[实用新型]处理液供给装置-CN201721148388.5有效
发明人：佐佐卓志;石丸大辅;桥本克也;志手英男;若水信也;木村一彦 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-09-08 - 公布日： 2018-05-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种能够与装置内的各部分的位置关系、配管、设置条件等无关地利用过滤器适当地去除处理液内的微粒的处理液供给装置。在以往的处理液供给装置中，有时处理液经过过滤器时的液压由于缓冲罐与过滤器的位置关系、两者之间的配管等而不成为期望的液压。本实用新型的抗蚀剂液供给装置对涂布喷嘴供给抗蚀剂液，所述抗蚀剂液供给装置具备：缓冲罐，其暂时贮存从用于贮存抗蚀剂液的抗蚀剂液供给源供给的处理液；过滤器，其设置于涂布喷嘴与缓冲罐之间，用于将抗蚀剂液中的异物去除；以及泵，其将被过滤器去除异物后的抗蚀剂液向涂布喷嘴送出，其中，缓冲罐具有对贮存于该缓冲罐中的抗蚀剂液进行加压搬送的加压搬送功能。
处理供给装置

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