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[发明专利]正型感光性组合物-CN200980118371.7有效
发明人：高桥元树;绪方寿幸;久里州多佛·柯多尼尔;仲村亮正;志知哲也;植松照博 -专利权人：东京应化工业株式会社;东海旅客铁道株式会社
申请日： 2009-05-13 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供能够形成高析像度且有机物残渣影响小的金属化合物薄膜图案的正型感光性组合物。该正型感光性组合物含有通过涂布后的煅烧处理能够形成金属化合物薄膜的金属络合物成分(A)以及感光剂(B)，(A)成分的配体优选为以芳香族化合物为骨架的多齿配体。通过具有该组成，即使实质上不含有感光性树脂的组合物体系，也能够赋予感光性，能够容易地形成金属化合物薄膜图案。
感光性组合

[发明专利]正型感光性组合物-CN200580002009.5无效
发明人：佐藤勉 -专利权人：株式会社新克
申请日： 2005-07-12 - 公布日： 2007-02-07 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：提供一种正型感光性组合物，该组合物可以在无需热处理和25～60％湿度条件下得到非常优良的密接性，可以在低碱性强度下显影，能够保持高感光度并能进行不产生残渣的显影，能获得鲜明、清晰的轮廓，因抗蚀膜非常坚硬而能提高显影前处理中的耐擦伤性所述正型感光性组合物含有(A)分子中至少有一个羧基的碱溶性高分子物质；(B)吸收显影曝光光源的红外线将其转变成热的光热变换物质；及(C)硫醇化合物。
感光性组合

[发明专利]正型感光性组合物-CN200510095993.6有效
发明人：渡边孝太郎;畠中优介 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2005-08-30 - 公布日： 2006-03-08 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：一种正型感光性组合物，含有(A)红外线吸收剂以及(B)具有三芳基锍盐结构并且结合于芳基骨架的取代基的哈曼特值的总和大于0.46的化合物。作为(B)化合物的阴离子结构，优选具有亲疏水性参数logP不足2的阴离子结构。本发明提供了可用于对应加热模式的正型平版印刷版原版中的溶解性差异优良并且耐污染性良好、可用作平版印刷版原版的记录层的正型感光性组合物。
感光性组合

[发明专利]正型感光性组合物-CN201410749267.0在审
发明人：冈本优纪;木村佑希;江头友弘 -专利权人：捷恩智株式会社
申请日： 2014-12-09 - 公布日： 2015-06-17 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种正型感光性组合物，其含有硅氧烷聚合物(A)、下述式(1)或式(2)所表示的萘醌二叠氮衍生物(B)、以及有机溶剂(C)。并且其特征在于：使本发明的正型感光性组合物于350℃以上进行热硬化而获得的硬化膜的于波长400nm下的每1μm膜厚的透光率为95％以上。式中，R1及R2分别独立地表示芳基。
感光性组合

[发明专利]正型感光性组合物-CN200480001589.1无效
发明人：佐藤勉 -专利权人：株式会社新克
申请日： 2004-06-25 - 公布日： 2006-01-04 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种正型感光性组合物，其特征是：无须进行烤版并且在湿度为25－60％的条件下涂布后能够获得充分的粘附性，能够在低的碱强度下显影，能够保持高感光度并且显影中不会产生残渣，从而所形成的图案的轮廓清晰，抗蚀剂膜非常坚硬，因而可以提高显影前的处理中的耐擦伤性。该正型感光性组合物含有作为必要成分的(A)分子中具有至少1个羧基的高分子物质、和(B)吸收图像曝光光源的红外线并转变成热的光热转换物质。
感光性组合

[发明专利]正型感光性组合物-CN201210383570.4无效
发明人：竹之内宏美;尾见仁一;斋藤诚一 -专利权人：株式会社艾迪科
申请日： 2012-10-11 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种正型感光性组合物，其适合于形成高耐热性、高耐溶剂性、高透射率、低介电常数的层间绝缘膜，且具有在显影工序中即使超过最佳显影时间也能形成良好的图案形状的大的显影容限，具体而言，其是含有使下述的化合物（1）与化合物（2）进行水解缩合反应而得到的聚硅氧烷化合物、光产酸剂及有机溶剂的正型感光性组合物。的烷基或C6～10的芳基，R²表示C2～10的2价烃基，R³表示C2～10的2价饱和脂肪族烃基，X¹及X²表示酸解离性溶解抑制基团
感光性组合

[发明专利]正型感光性组合物-CN200610087743.2无效
发明人：佐藤勉 -专利权人：株式会社新克
申请日： 2003-11-27 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及具有红外波长区域激光感应性的碱可溶性的正型感光性组合物。其是一种不需要烤版、在作业室内的湿度为25～60％的条件下涂布可获得必要充分的粘合性、可以进行保持高灵敏度的不发生残渣的显影、能以锐利的轮廓切割、抗蚀剂膜非常硬的、提高在显影前的处理中的耐伤性的正型感光性组合物其含有具有酚性羟基的碱可溶性有机高分子物质，吸收图像曝光光源的红外线变换成热的光热变化物质，和聚乙烯吡咯烷酮/聚醋酸乙烯酯共聚物等粘合改质剂。
感光性组合

[发明专利]正型感光性组合物-CN200310118662.0无效
发明人：佐藤勉 -专利权人：株式会社新克
申请日： 2003-11-27 - 公布日： 2005-06-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及具有红外波长区域激光感应性的碱可溶性的正型感光性组合物。其是一种不需要烤版、在作业室内的湿度为25～60％的条件下涂布可获得必要充分的粘合性、可以进行保持高灵敏度的不发生残渣的显影、能以锐利的轮廓切割、抗蚀剂膜非常硬的、提高在显影前的处理中的耐伤性的正型感光性组合物其含有具有酚性羟基的碱可溶性有机高分子物质，吸收图像曝光光源的红外线变换成热的光热变化物质，和聚乙烯吡咯烷酮/聚醋酸乙烯酯共聚物等粘合改质剂。
感光性组合

[发明专利]正型感光性组合物-CN200580026838.7无效
发明人：佐藤勉 -专利权人：株式会社新克
申请日： 2005-10-25 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供一种蚀刻因子和粘附性出色的正型感光性组合物。该组合物含有(A)分子中具有至少一个羧基的碱溶性高分子物质、(B)吸收显影曝光光源的红外线并转换为热的光热转换物质、以及(C)硅烷偶合剂。上述(C)硅烷偶合剂优选为具有从咪唑基、乙烯基、环氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、氨基、巯基、异氰酸酯基、苯乙烯基、聚硫化物基构成的组中选择的至少一种官能团和烷氧基甲硅烷基的硅烷偶合剂。
感光性组合

[发明专利]正型感光性组合物-CN200580001836.2无效
发明人：佐藤勉;戈正平 -专利权人：株式会社新克
申请日： 2005-07-12 - 公布日： 2007-01-31 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：提供一种正型感光性组合物，该组合物在无需热处理和25～60％湿度条件下涂布后可以得到必要而充分的密着性，可以在低碱性强度下显影，经时稳定性及再现性优良，可以保持高感光度，能够进行不产生残渣的显影，轮廓鲜明而清晰，因光刻胶膜非常坚硬而能在显影前处理中提高耐擦伤性。作为必要成分其中含有(A)分子中至少有一个羧基和/或羧酸酐基的高分子物质、(B)胺化合物、及(C)吸收图像曝光光源的红外线将其转换成热的光热变换物质。
感光性组合

[发明专利]正型感光性组合物-CN200480001742.0无效
发明人：佐藤勉 -专利权人：株式会社新克
申请日： 2004-05-27 - 公布日： 2006-06-21 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种正型感光性组合物，其不需烘烤且工作室内湿度在25％～60％的条件下涂布可以获得必要充分的附着力，具有高感光度、能够进行不产生残渣的显像，显像轮廓鲜明，形成的抗蚀膜非常坚硬并可通过显像前的处理提高其耐伤性该正型感光性组合物中含有具有酚羟基的碱性可溶性有机高分子物质(A)，吸收图像曝光光源的红外线能够转化成热的光热转化物质(B)，从由(1)乙烯基吡咯烷酮/醋酸乙烯酯共聚物等构成的物质组中选择的至少一种树脂
感光性组合

[发明专利]电路基板的制造方法及触摸面板的制造方法-CN201880067544.6在审
发明人：松田知树;片山晃男;山田悟 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2018-09-18 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：一种电路基板的制造方法及触摸面板的制造方法，其依次包括：在导电层上形成正型感光性组合物层的工序；对上述正型感光性组合物层进行图案曝光的工序；对上述经图案曝光的正型感光性组合物层进行显影的工序；将上述经显影的正型感光性组合物层用作掩模，蚀刻导电层的工序；对上述经显影的正型感光性组合物层进行全面曝光的工序；及去除上述经全面曝光的正型感光性组合物层的工序。
路基制造方法触摸面板

[发明专利]正型感光性树脂组合物、分隔壁和光学元件-CN201380013041.8有效
发明人：川岛正行;高桥秀幸;古川丰 -专利权人：旭硝子株式会社
申请日： 2013-03-07 - 公布日： 2017-09-05 - 主分类号： G03F7/075 文献下载
摘要：本发明提供正型感光性树脂组合物、以及提供使用该树脂组合物形成的分隔壁、和光学元件，所述正型感光性树脂组合物能够制造拒墨性优异、即使经过紫外线/臭氧照射处理拒墨性也优异、且点中残留物少的分隔壁，所述正型感光性树脂组合物具有充分的储藏稳定性正型感光性树脂组合物、使用该树脂组合物形成的分隔壁和光学元件，所述正型感光性树脂组合物的特征在于，其为包含碱可溶性树脂(A)、光敏剂(B)和拒墨剂(C)的正型感光性树脂组合物，前述拒墨剂(C)由包含含氟水解性硅烷化合物的混合物的部分水解缩合物形成，前述水解性硅烷化合物中的氟原子的含有比率为10～55质量％。
感光性树脂组合隔壁光学元件

[发明专利]感光性树脂组合物、感光性干膜及其制造方法、抗蚀剂膜、基板及镀敷造形物的制造方法-CN201910364760.3在审
发明人：川上晃也;片山翔太;海老泽和明 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2019-04-30 - 公布日： 2019-11-19 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明的技术问题在于提供高灵敏度且容易形成截面形状为矩形的抗蚀剂图案的化学放大型正型感光性树脂组合物、具备由该化学放大型正型感光性树脂组合物构成的感光性树脂层的感光性干膜、该感光性干膜的制造方法、使用所述的化学放大型正型感光性树脂组合物的图案化的抗蚀剂膜的制造方法、使用所述的化学放大型正型感光性树脂组合物的带铸模的基板的制造方法、和使用该带铸模的基板的镀敷造形物的制造方法。本发明的解决方案在于使化学放大型正型感光性树脂组合物中含有路易斯酸性化合物(C)，所述化学放大型正型感光性树脂组合物包含通过活性光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂(A)、和对碱的溶解性因酸的作用而增大的树脂
正型感光性树脂组合物化学放大型感光性干膜基板制造铸模路易斯酸性化合物感光性树脂层抗蚀剂图案高灵敏度活性光线截面形状抗蚀剂膜产酸剂放射线图案化造形物增大的树脂镀敷照射

[发明专利]树脂组合物，干膜，干膜、抗蚀剂膜、化合物、产酸剂及N-有机磺酰氧基化合物的制造方法-CN202080054678.1在审
发明人：川上晃也 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2020-07-30 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种所含有的产酸剂的溶剂溶解性优异且容易形成掩模线性优异的抗蚀剂图案的化学放大型正型感光性树脂组合物、具备由该化学放大型正型感光性树脂组合物构成的感光性层的感光性干膜、该感光性干膜的制造方法、使用所述化学放大型正型感光性树脂组合物的图案化的抗蚀剂膜的制造方法、可优选地掺混于所述化学放大型正型感光性树脂组合物中的化合物及光产酸剂。化学放大型正型感光性树脂组合物包含：产酸剂(A)，通过活性光线或放射线的照射而产生酸；树脂(B)，对碱的溶解性因酸的作用而增大，产酸剂(A)包含以式(A1)表示的化合物。
树脂组合抗蚀剂膜化合物产酸剂有机磺酰氧基制造方法

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