专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]材料真空放气率的测试方法及装置-CN202111293223.8在审
  • 刘相波;成荣;张鸣;朱煜 - 清华大学
  • 2021-11-03 - 2022-03-01 - G01N7/14
  • 一种材料真空放气率的测试方法及装置,包括:用真空泵对真空腔室抽真空,记录第一真空变化曲线;将真空腔室内充入填充气体,再对真空腔室抽真空,记录第二真空变化曲线;比较第一、第二真空变化曲线,如不重合度超过阈值,则重复获得第二真空变化曲线,直至前后两次第二真空变化曲线的不重合度小于阈值;将被测材料放入真空腔室,关闭真空腔室并停止充入填充气体;再次用真空泵对真空腔室进行抽真空,记录第三真空变化曲线;通过最后一次第二真空变化曲线、第三真空变化曲线,真空泵极限真空真空泵有效抽速和真空腔室本底气载,计算被测材料放气率。本发明不需要知道真空腔体的材料、漏率等信息,即可获得被测材料的放气率。
  • 材料真空放气测试方法装置
  • [发明专利]一种原子层沉积镀膜机的真空控制系统-CN202011320038.9有效
  • 柳存定;黎明;杨伟 - 中国科学院光电技术研究所
  • 2020-11-23 - 2022-12-30 - C23C16/455
  • 本发明公开了一种原子层沉积镀膜机的真空控制系统,涉及真空镀膜技术领域,该真空控制系统包括通过管道依次连接的A热阱、镀膜真空室、A控制组件、B热阱、B控制组件、分子泵,A热阱和分子泵均连接有前级真空泵;在所述A热阱与镀膜真空室之间设置有A阀门。本发明的真空控制系统和对应的控制方法一方面能够有效地提高原子层沉积镀膜机的本底真空和镀膜真空,从而减少残余物理吸附气体分子对原子层沉积薄膜性质的影响,另一方面通过B热阱、A控制组件以及前级真空泵的配合,使分子泵仅用于获得本底真空,从而提高分子泵的使用效率和使用寿命。
  • 一种原子沉积镀膜真空控制系统
  • [发明专利]真空镀膜基片清洗方法-CN201510355273.2在审
  • 马远周 - 马远周
  • 2015-06-25 - 2017-01-11 - C23C14/02
  • 真空镀膜基片清洗方法,将基片固定在夹具上,往超声波机中加入洗涤剂溶液,加热到60℃左右,将基体放入超声波机里清洗10分钟后,用高压氮气将基体吹干,最后放到烘干器中烘10分钟,待基体完全干燥后装进真空室工架上,关闭真空室,开启真空系统抽气,当真空本底真空低于0.001帕斯卡时,通入氩气,使真空维持在0.1帕斯卡至0.9帕斯卡,开启离子溅射电源,对工架上的基片进行溅射清洗。
  • 真空镀膜清洗方法

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