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[发明专利]一种电解铜箔中水回用RO膜的清洗工艺-CN202010629882.3有效
发明人：杨雨平;杨剑文;廖飞群;肖汀;杨声鸿;蓝秀红;钟学志 -专利权人：广东嘉元科技股份有限公司
申请日： 2020-07-03 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： B01D65/06 文献下载
摘要：其清洗组合配方包含碱性清洗液和酸性清洗液；碱性清洗液包含第一清洗液、第二清洗液、第三清洗液以及第七清洗液；酸性清洗液包含第四清洗液、第五清洗液以及第六清洗液。通过将第一清洗液、第二清洗液、第三清洗液、第四清洗液、第五清洗液、第六清洗液和第七清洗液依次对RO膜进行清洗，能够有效清除RO膜内的有机胶体、大分子有机物、小分子有机物、细菌、无机盐结垢、悬浮物及藻类、有机盐结垢，疏通RO膜膜孔，恢复RO膜正常的产水量，增加了RO膜的使用寿命，提高了RO膜的使用率，进而降低了使用成本。
一种电解铜箔中水 ro 清洗工艺

[发明专利]一种利用有机酸处置飞灰的处理方法及系统-CN202210609990.3在审
发明人：毛岩鹏;张嘉政;逄栋杰;王文龙;王旭江;李敬伟 -专利权人：山东大学
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： C04B7/26 文献下载
摘要：本发明提供一种利用有机酸处置飞灰的处理方法及系统，涉及垃圾资源回收技术领域，包括：水洗，水洗飞灰并获取飞灰泥浆和水洗液；酸洗，利用有机酸对飞灰泥浆依次进行多次酸洗，获取灰渣和酸洗液；浓缩，分别对水洗液和酸洗液进行沉淀过滤浓缩，并分离酸洗液中的有机酸盐浓缩液和无机酸盐浓缩液；结晶，水洗液浓缩液和无机酸盐浓缩液共同结晶，有机酸盐浓缩液结晶；后处理，灰渣与浓缩产生的沉淀物作为水泥生料供应水泥生产线。针对目前飞灰中有机氯难以脱除导致处理后的飞灰无法满足水泥类生料需求的问题，利用有机废弃物厌氧发酵后的废液作为有机酸酸洗液，去除可溶性氯化物和酸溶性氯化物，降低对环境和设备的影响，有效降低飞灰中氯含量。
一种利用有机酸处置处理方法系统

[实用新型]一种适用于日光温室土壤盐分的双层暗管淋排结构-CN202020429721.5有效
发明人：孙凯宁;岳耀权;杨宁;温丹;王晓;张浩然;王克安 -专利权人：山东省农业科学院蔬菜花卉研究所
申请日： 2020-03-30 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： A01B77/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种适用于日光温室土壤盐分的双层暗管淋排结构，围绕日光温室内部种植区域和水池墙体设有砖混墙体；盐淋洗液过滤层包括有机物料层及无纺布层，无纺布层位于有机物料层中；盐淋洗液收集排出装置分为上下双层，分别铺设在有机物料层中，在双层盐淋洗液收集排出装置之间以及上层盐淋洗液收集排出装置与有机物料层表层之间均铺设有无纺布层，每层盐淋洗液收集排出装置均包括盐淋洗液收集管、连通管、盐淋洗液主管及排水管，盐淋洗液收集管上开设有进液孔，并通过连通管与盐淋洗液主管相连通，盐淋洗液主管上连通有排水管。
一种适用于日光温室土壤盐分双层暗管结构

[实用新型]一种稀土萃取有机相的铀钍除杂系统-CN201521118736.5有效
发明人：肖睿;廖延全;史卫东;朱荣华;吴伯伟;江海波;何地宝;钟成福;施瑜 -专利权人：江阴加华新材料资源有限公司
申请日： 2015-12-30 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： C22B3/44 文献下载
摘要：本实用新型涉及稀土萃取有机相的铀钍除杂系统，包含若干级槽体的混合槽，该混合槽一部分作为洗液槽，剩余作为水洗槽；洗液高位槽，该高位槽带有加热装置；低位槽；沉淀反应釜，该沉淀反应釜带有抽滤装置以实现固液分离；滤液储槽和洗液配制槽；所述高位槽接入末级洗液槽，初级洗液槽接出至低位槽，低位槽再接出至沉淀反应釜，沉淀反应釜再依次接出至滤液储槽和洗液配制槽及洗液高位槽。本实用新型实现了对循环前空白有机相中铀钍的除杂预处理，将空白有机相中的铀钍含量控制在1g/L以下，以提高有机相的萃取效果，确保有机相的循环产能。
一种稀土萃取有机系统

[发明专利]喷墨用清洗液-CN201310478630.5有效
发明人：棹亮人;长濑真;窪田健一郎 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2013-10-14 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： C09D9/00 文献下载
摘要：本发明提供对非水系油墨和水系油墨这两种油墨的清洗性优异的喷墨用清洗液。本发明涉及的清洗液是在非水系油墨和水系油墨的清洗中使用的喷墨用清洗液，上述清洗液含有有机溶剂和水，在将对上述非水系油墨所含的有机溶剂的SP值进行加权平均而得的值设为S1，将对上述水系油墨所含的有机溶剂的SP值进行加权平均而得的值设为S2时，上述清洗液所含的有机溶剂的SP值在S1～S2的范围内，对上述清洗液所含的有机溶剂和水的SP值进行加权平均而得的值在S1～S2的范围内。
喷墨清洗

[发明专利]一种树脂脱附剂及脱附方法-CN202210145596.9有效
发明人：倪健 -专利权人：北京欧美环境工程有限公司
申请日： 2022-02-17 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： B01J20/34 文献下载
摘要：本申请公开了一种树脂脱附剂及脱附方法，其中，树脂脱附剂包括酸清洗液一，盐碱+有机溶剂清洗液，盐碱清洗液和酸清洗液二，酸清洗液一为(2‑8)wt％的盐酸1.5‑3BV，盐碱+有机溶剂清洗液为(2‑5)wt％NaOH+(8‑12)wt％NaCl+(20‑30)wt％有机溶剂溶液0.5‑1BV，盐碱清洗液为(2‑5)wt％NaOH+(8‑12)wt％NaCl溶液2‑4BV，酸清洗液二为(2‑3)wt％的盐酸
一种树脂脱附剂方法

[发明专利]POLY-270剥离清洗液及其制备方法-CN201811603208.7在审
发明人：李晨阳 -专利权人：李晨阳
申请日： 2018-12-26 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明提供了POLY‑270剥离清洗液及其制备方法，POLY‑270剥离清洗液，该POLY‑270剥离清洗液的原料包括碱性试剂、有机溶剂、儿茶酚、羟胺和水。POLY‑270剥离清洗液，剥离清洗液又称striper，用于IC和分立器件中Polymer，光阻的去处，由有机碱还原剂和有机溶剂组成，使用本发明技术制备的POLY‑270剥离清洗液本发明去除了传统IC
清洗液剥离制备有机溶剂组成分立器件功能单一碱性试剂有机溶剂剥离液儿茶酚还原剂有机碱光阻羟胺清洁

[发明专利]用于修复有机酚污染土壤的淋洗液及有机酚污染土壤的修复方法-CN201110144651.4有效
发明人：刘德启;畅如;路建美;王丽华;洪莉萍;卞文娟 -专利权人：苏州大学
申请日： 2011-05-31 - 公布日： 2011-10-19 - 主分类号： C09K17/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于修复有机酚污染土壤的淋洗液，所述淋洗液按照以下方法制备：提供碱法草浆造纸黑液；对所述黑液进行酸析，过滤后得到黄液；将所述黄液的pH值调节至8～10，得到淋洗液。本发明还提供了一种有机酚污染土壤的修复方法，包括以下步骤：采用淋洗液对有机酚污染土壤进行淋洗，所述淋洗液按照以下方法制备：提供碱法草浆造纸黑液；对所述黑液进行酸析，过滤后得到黄液；将所述黄液的pH值调节至8～10，得到淋洗液。本发明提供的淋洗液对受污染土壤进行淋洗时能够将其中的有机酚类污染物洗脱，具有良好的淋洗效果。所述淋洗液以来源广泛、价格便宜的碱法草浆造纸黑液为原料制备，制备方法简单，降低了土壤修复的成本。
用于修复有机污染土壤淋洗方法

[发明专利]一种用于电路板的环保清洗液-CN202211198105.3在审
发明人：陈敬伦;陈莉 -专利权人：南通群安电子材料有限公司;南开大学
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C11D7/12 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于电路板的环保清洗液，按重量份数计，包括以下组分：有机胺10‑50份，含有胍基或脲的有机物4‑40份，有机溶剂4‑10份和含有氨基的有机缓蚀剂0.5‑1份。本发明在传统的电路板用清洗液中创新地引入了含有胍基或脲的有机物，大幅提升了清洗液的碎膜、清洁效率；且由于清洗液中不包含季铵盐成分，故其挥发性更低、容易降解，无毒环保。
一种用于电路板环保清洗

[发明专利]一种超滤膜表面有机污染物的清洗方法及其清洗液的制备方法-CN201510511906.4在审
发明人：支建明 -专利权人：太仓市金鹿电镀有限公司
申请日： 2015-08-20 - 公布日： 2015-11-18 - 主分类号： B01D65/06 文献下载
摘要：本发明提供一种超滤膜表面有机污染物的清洗方法及其清洗液的制备方法，其中清洗方法包括如下步骤：1)选用清洗液；2)气、水冲洗；3)清洗液循环冲洗；4)清洗液浸泡；5)水循环清洗。所述清洗方法采用特制清洗液来针对超滤膜表面有机污染物，采用物理清洗加化学清洗结合的方式对超滤膜进行清洗，有效去除超滤膜表面有机污染物，提升超滤膜的使用寿命。
一种超滤膜表面有机污染物清洗方法及其制备

[实用新型]一种多用途废水预处理设备-CN201620944913.3有效
发明人：钱栋;徐云;蒋小卫 -专利权人：常州市锦云工业废弃物处理有限公司
申请日： 2016-08-25 - 公布日： 2017-04-05 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种多用途废水预处理设备，包括芬顿氧化装置以及分别独立设置的金属表面清洗液预处理装置、有机溶剂水洗液预处理装置、废乳化液预处理装置、含油废水处理装置、生活污水预处理装置；所述金属表面清洗液预处理装置、有机溶剂水洗液预处理装置分别与芬顿氧化装置连接。该设备结构简单、使用方便、成本低廉，可实现连续处理有机溶剂水洗液，预处理效果好。
一种多用途废水预处理设备

[发明专利]一种用于KDP晶体的含水有机清洗液-CN201710407487.9在审
发明人：李晓媛;董会;高伟;王超;吉方;王宝瑞 -专利权人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2017-06-02 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： C01B25/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于KDP晶体的含水有机清洗液。该清洗液包括去离子水、有机溶剂和表面活性剂。本发明的用于KDP晶体的含水有机清洗液，利用KDP易溶于水这一理化特性，在清洗液中加入去离子水作为该清洗液的活性物质，通过控制清洗液中水的存在形式、含量来控制其与KDP元件表面的作用效率，能达到去除其表面污染物而不损害表面质量的目的本发明的用于KDP晶体的含水有机清洗液性质稳定，采用去离子水作为活性成分不会在KDP晶体表面产生新的杂质；通过可控的潮解作用，能有效去除磁流变抛光加工后表面残留的基液和固体颗粒，提高KDP晶体的表面质量
一种用于 kdp 晶体含水有机清洗

[发明专利]清洗液、套组、喷墨记录设备和清洗方法-CN202080039691.X有效
发明人：永野太郎;栗木宽文;东山俊一 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2020-03-24 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： B41J2/165 文献下载
摘要：提供用于清洁喷墨记录设备的清洗液，该清洗液包括：第一水溶性有机溶剂，该第一水溶性有机溶剂在20℃时的蒸气压不小于7Pa；第二水溶性有机溶剂，该第二水溶性有机溶剂在20℃时的蒸气压不大于1Pa；非离子表面活性剂清洗液满足以下条件(1)至(3)：条件(1)：10≤A+B≤60条件(2)：A/B≥1条件(3)：(A+B)/C≥10在条件(1)至(3)中，A：第一水溶性有机溶剂在清洗液总量中的含量(质量％)，B：第二水溶性有机溶剂在清洗液总量中的含量
清洗喷墨记录设备方法

[发明专利]一种衬底片旋转腐蚀清洗设备及其清洗方法-CN202010994444.7在审
发明人：李祥彪;仲崇贵;杨培培 -专利权人：南通大学
申请日： 2020-09-21 - 公布日： 2021-01-15 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种衬底片旋转腐蚀清洗设备及清洗方法，包括工艺腔、旋转机构系统、有机溶剂供给系统、清洗液供给系统、纯水供给系统、供气系统、机械手、回收系统和控制系统；工艺腔内包含衬底片固定装置和喷淋臂；旋转机构系统由电机系统与衬底片固定装置相连；有机溶剂供给系统开启时向工艺腔内输入有机溶剂；清洗液供给系统开启时向工艺腔内输入清洗液；供气系统由管路与喷淋臂连通；机械手自动实现衬底片的传递；回收系统用于排出工艺腔内的气体与废清洗液；控制系统由可编程式控制器及触摸人机界面组成本发明方案采用有机溶剂、酸性清洗液、碱性清洗液等对衬底片表面进行清洗，溶解去除残留有机物、金属离子等，从而得到表面洁净的衬底片。
一种衬底旋转腐蚀清洗设备及其方法

[发明专利]一种平板显示用清洗液及其制备方法-CN201110206269.1有效
发明人：朱玉国 -专利权人：绵阳信利电子有限公司
申请日： 2011-07-22 - 公布日： 2011-12-28 - 主分类号： C11D1/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种平板显示用清洗液及其制备方法。该清洗液，包括式I所示表面活性剂、有机溶剂、螯合剂、防腐剂、消泡剂和水；所述式I所示表面活性剂占所述清洗液总重的百分比为1％-20％；所述有机溶剂占所述清洗液总重的百分比为5％-30％；所述螯合剂占所述清洗液总重的百分比为0.5％-5％；所述防腐剂占所述清洗液总重的百分比为0.01％-5％；所述消泡剂占所述清洗液总重的百分比为0.01％-5％；余量为水。该清洗液能有效除去玻璃基板上面的金属离子，有机及无机杂质和固体粒子，清洗能力强，且对环境无污染，清洗后对基板无腐蚀等特点。
一种平板显示清洗及其制备方法

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