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[实用新型]一种具有自动除尘功能的曝光机-CN202121243423.8有效
发明人：袁强;刘长征;张郅懿 -专利权人：龙岩海圣科技有限公司
申请日： 2021-06-04 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具有自动除尘功能的曝光机，包括曝光机本体和曝光室，所述曝光机本体的前侧壁设有延伸至曝光室内的放置机构，所述放置机构用于对待曝光件进行放置，所述放置机构上设有用于对待曝光件进行限位的固定机构，所述曝光机本体的前侧壁安装有吹风机构，所述吹风机构与放置机构相对，所述放置机构包括安装在曝光机本体前侧壁上的气缸，所述气缸的伸缩端端部安装有L型板。本实用新型结构设计合理，不仅能够便于对待曝光件进行固定，自动将其推入曝光室内，避免其发生歪斜现象，保障曝光工作的正常进行，且能够在将待曝光件移动至曝光室内的同时，将待曝光件上粘附的灰尘吹落，保障曝光质量
一种具有自动除尘功能曝光

[发明专利]一种曝光日志采集系统和方法-CN201410422891.X有效
发明人：占河;张侦 -专利权人：苏宁易购集团股份有限公司
申请日： 2014-08-25 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： H04L29/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种曝光日志采集系统，所述系统包括网页前端服务器、网页浏览客户端和曝光数据收集服务器，其特征在于，所述网页前端服务器所提供包含具有唯一标示的曝光元素的网页；所述网页浏览客户端下载曝光数据采集工具，当曝光元素加载成功后进行曝光数据采集，从网页提取曝光元素并向曝光数据收集服务器发送包含有所述曝光元素的唯一标示以及相关信息的曝光数据；所述曝光数据收集服务器接收上述曝光数据，并在对该数据进行处理后写入曝光日志
一种曝光日志采集系统方法

[发明专利]成像装置以及曝光影像偏差的校正方法-CN200810217648.9无效
发明人：高云峰;孙海翔 -专利权人：深圳市大族激光科技股份有限公司;深圳市大族数码影像技术有限公司
申请日： 2008-11-25 - 公布日： 2009-07-15 - 主分类号： B41J2/435 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光影像偏差的校正方法，其包括以下步骤：通过影像检测装置对成像面上的测试版进行采样检测，获得曝光模块在成像面上的实际曝光影像的位置数据；生成能够校正所述曝光模块在所述成像面上的曝光位置偏差的曝光控制信息；按照所述曝光控制信息，控制所述曝光模块在所述成像面上进行曝光时的运动，进行补偿校正。本发明的曝光影像偏差的校正方法通过影像检测装置对实际的曝光影像的位置数据进行检测，生成补偿校正的曝光控制信息，并以此对曝光模块的运动进行控制，实现校正。
成像装置以及曝光影像偏差校正方法

[发明专利]曝光装置、方法、薄膜晶体管的制造方法、显示装置-CN200410007397.3无效
发明人：入口千春 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2004-03-02 - 公布日： 2004-09-22 - 主分类号： G03H1/22 文献下载
摘要：本发明涉及曝光装置、方法、薄膜晶体管的制造方法、显示装置。本发明的目的是提供为了能够高密度地形成不同的曝光区域，并且使整个装置的尺寸小而具有适当构成的曝光装置。在用于使任意的曝光区域曝光的曝光装置中，备有具有用于使曝光区域曝光的预定光束宽度(B)的曝光光束的照射装置(280)，具有至少与曝光光束的光束宽度相当的宽度的遮光板(S)、和通过驱动遮光板遮断曝光光束的一部分或全部，阻止曝光光束(B)到达曝光区域(DA)以外的区域的驱动装置(110)。
曝光装置方法薄膜晶体管制造显示装置

[发明专利]光栅尺双向对接曝光法-CN200410009663.6无效
发明人：赵泽宇 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2004-10-14 - 公布日： 2006-04-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：光栅尺双向对接曝光法，其基本原理就是通过精确控制对接重叠区域的曝光量，使得该区域的曝光量与其它区域的曝光量相同，从而达到扩延有效曝光区域之目的。因此采用双向对接曝光法可以解决曝光机的导轨过短，曝光行程不足的问题。实验表明采用双向对接曝光技术，曝光重合处的光栅线条完全满足测量要求，并大幅度提高了曝光设备的有效行程，解决了曝光机导轨行程短的问题。本发明方法操作简单，不需要对原有的曝光机结构进行大的改动，时间短，成本低，具有很高的实用推广价值。
光栅尺双向对接曝光

[发明专利]曝光头和曝光装置-CN201280071476.3有效
发明人：梶山康一;水村通伸 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2012-03-19 - 公布日： 2014-11-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的曝光头包含以下部分：透明基板；多个曝光光源，其形成于上述透明基板，辐射曝光光；聚光透镜，其使来自上述曝光光源的曝光光会聚到上述曝光对象物上；摄像机构，其配置于隔着上述透明基板与上述聚光透镜相反的一侧，对上述曝光对象物进行摄像；以及控制机构，其基于由上述摄像机构摄像得到的图像信息，控制上述曝光光源的点亮。另外，本发明的曝光装置包含本发明的曝光头。根据这样的构成，能够提高曝光对象物的对位精度，使曝光对象物的曝光精度提高。
曝光装置

[发明专利]曝光设备、曝光方法及曝光掩模-CN200580021755.9有效
发明人：稻生耕久;黑田亮;水谷夏彦 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2005-06-24 - 公布日： 2007-06-06 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光设备、曝光方法和曝光掩模，用于改进的光学光刻。具体来讲，根据本发明的一个优选方式，该曝光设备被设置成与具有可弹性变形的保持部件和提供在该保持部件上并形成有开口图案的光阻挡膜的曝光掩模一起使用，其中，为了曝光，使曝光掩模弯曲以便与要曝光的物体接触。该曝光设备包括距离检测系统，用于检测弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离，和距离控制系统，用于根据来自所述距离检测系统的信号来控制弯曲之前的曝光掩模和要曝光的物体之间的距离。
曝光设备方法

[发明专利]一种自动对位曝光设备及方法-CN201911026873.9在审
发明人：陈志特;王华;何增灿;黄海浩 -专利权人：东莞科视自动化科技有限公司
申请日： 2019-10-26 - 公布日： 2020-01-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种自动对位曝光设备及方法，其中一种自动对位曝光设备包括光源模组和对位模组，还包括第一曝光工位、第二曝光工位和进出料工位，所述第一曝光工位和第二曝光工位分别设置在所述进出料工位的两侧；所述第一曝光工位、第二曝光工位和进出料工位上均设有一工作框模组，三个所述工作框模组分别与一导向模组连接，以实现三个所述工作框模组在所述第一曝光工位、第二曝光工位和进出料工位之间的相互切换；所述光源模组位于所述第一曝光工位或所述第二曝光工位上；所述对位模组位于所述第一曝光工位上或所述第二曝光工位上。本发明可同时进行对位曝光和进/出料，或同时进行对位、曝光以及进/出料，大大提高了该自动对位曝光设备的产能。
曝光工位模组进出料对位工位曝光设备自动对位工作框光源模组出料导向模组曝光产能

[发明专利]曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法-CN202080011094.6在审
发明人：吉田亮平;井田真高;吉田大辅;野嶋琢己;松桥佑介;渡辺畅章 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2020-03-04 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置，其进行第一曝光与第二曝光，所述第一曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在第一时间内对被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光，所述第二曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在与第一时间不同的第二时间内对被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光，所述曝光装置包括：照明光学系统，供给照明光；投影光学系统；以及设定构件，在与扫描方向正交的非扫描方向上，以第一曝光区域及第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域中的曝光量分布相对于所述第二区域的中心变成不对称的分布的方式进行设定
曝光装置照明光学系统以及元件制造方法

[发明专利]曝光机的操作方法-CN202110306971.9在审
发明人：王承宏;徐嘉祥 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2021-03-23 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光机的操作方法，包括在晶圆的第一层上执行曝光，其中曝光的步骤依序地执行于覆盖第一层的多个第一曝光区域上；在晶圆的第二层上执行曝光，其中第二层在第一层上，曝光的步骤依序地执行于覆盖第一层的多个第二曝光区域上；以及在覆盖晶圆的第三曝光区域上执行曝光，且第三曝光区域对应的曝光能量为零。借此，本发明的曝光机的操作方法，通过在相邻的两个曝光步骤之间安插虚拟曝光的步骤，可降低第一层及第二层对应的图案之间的叠对误差。此外，通过这样的方式，使曝光的工艺可适用于不同曝光机机型，避免因曝光的起始位置及结束位置不同而增加叠对误差。
曝光操作方法

[发明专利]全自动高速平行光曝光装置-CN202211186536.8在审
发明人：余燕青;杜志航;周朝平 -专利权人：东莞市友辉光电科技有限公司
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了全自动高速平行光曝光装置，包括上料机械手，所述上料机械手的顶部固定连接有来料拉带。本发明通过上料机械手、来料拉带、阵列工位、相机移动机构、曝光工位、曝光光源、出料机械手、出料拉带、翻转机构、反面上料机械手、反面阵列工位、反面曝光工位、反面曝光光源和出料工位的配合使用，能够大大提高HJT光伏电池铜基金属化曝光作业生产效率，且便于控制曝光光罩GAP，从而保证曝光精度，如果使用大面积曝光光罩，曝光光罩会因为重力变形，各个HJT电池基片位置的光罩GAP很难保证一致，且本装置曝光的方式可以是曝光工装定速移动通过曝光光源，也可以是曝光光源定速移动通过曝光工装，或者将曝光工装暂停在曝光光源下完成。
全自动高速平行曝光装置

[发明专利]曝光设备-CN202310436374.7在审
发明人：叶飞;项宗齐;汪涛 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-04-19 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光设备，曝光设备包括：工作台；曝光支架，曝光支架可移动地安装于工作台，多个上曝光头组件和多个下曝光头组件，多个上曝光头组件安装于上支臂，多个下曝光头组件安装于下支臂；标定支撑架，标定支撑架安装于工作台且部分位于上曝光头组件和下曝光头组件之间；水平标定组件，水平标定组件安装于标定支撑架，多个上曝光头组件和多个下曝光头组件在水平标定组件处校准多个上曝光头组件相对位置以及多个下曝光头组件相对位置；竖直标定组件，竖直标定组件安装于标定支撑架，竖直标定组件用于校准上曝光头组件和下曝光头组件之间的相对位置根据本发明实施例的曝光设备，具有标定准确、操作方便、有利于实现自动化等优点。
曝光设备

[发明专利]确定光刻工艺窗口的方法、装置、存储介质及电子设备-CN202311222006.9在审
发明人：马春雨;陈冠中;聂方园 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-09-21 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：该方法包括：根据焦距能量矩阵和目标光刻图案的关键尺寸确定目标曝光条件；根据目标曝光条件和预设步进量确定多个第一曝光条件和多个第二曝光条件，以使得曝光设备根据目标曝光条件和多个第一曝光条件对第一晶圆进行曝光，以及根据目标曝光条件和多个第二曝光条件对第二晶圆进行曝光；获取第一晶圆在曝光过程中的多个第一目标焦距和第二晶圆在曝光过程中的多个第二目标焦距；根据目标曝光条件的目标曝光能量和多个第一目标焦距确定第一晶圆的第一光刻工艺窗口，并根据目标曝光条件的目标曝光能量和多个第二目标焦距确定第二晶圆的第二光刻工艺窗口。
确定光刻工艺窗口方法装置存储介质电子设备

[发明专利]一种信息无痕曝光采集方法及装置-CN201910066981.2有效
发明人：胡晓;李勇睿;许夏骏;胡孟亮 -专利权人：苏宁易购集团股份有限公司
申请日： 2019-01-23 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： G06F16/958 文献下载
摘要：本发明公开了一种信息无痕曝光采集方法及装置，该方法包括如下步骤：S1：从服务端获取无痕曝光配置信息并写入内存中，根据无痕曝光配置信息搜索开启无痕曝光的区域的内容并设置相关曝光规则；S2：搜索页面上所有已开启无痕曝光的区域，捕获已开启无痕曝光的区域的曝光元素onload事件，根据曝光元素获取曝光信息；S3：将曝光信息模拟堆栈方式写入内存；S4：将写入内存的曝光信息根据曝光规则进行发送上报。本发明解决了目前曝光埋点过程中对自身业务的侵入性，几乎可做到业务无埋点的情况下进行页面信息曝光的采集，从而大大降低了信息曝光采集的门槛；并规范了曝光信息上报的过程，解决了高并发导致的HTTP请求阻塞，web
一种信息曝光采集方法装置

[实用新型]光量分布均匀式曝光灯结构-CN201420718218.6有效
发明人：范金刚;蓝学军 -专利权人：深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
申请日： 2014-11-26 - 公布日： 2015-03-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光量分布均匀式曝光灯结构，该结构包括机台、置于机台上且用于放置被曝光物的玻璃曝光台面和置于玻璃曝光台面下方的直线传动装置；直线传动装置上活动安设有沿该直线传动装置做直线匀速运动的灯箱，灯箱内置有长度与玻璃曝光台面的宽度相同且接近玻璃曝光台面下方分布的曝光灯；灯箱沿着该直线传动装置做直线匀速运动时，曝光灯与被曝光物形成相对运动且被曝光物感光。本实用新型曝光灯与被曝光物做相对运动而使曝光台面上的受光量分布均匀，有效解决了光量的分布不均匀的问题；同时，光源与曝光台面的距离最大限度的靠近，光源离曝光台面越近，被曝光物在同样的时间内接收到的曝光能量越强
分布均匀曝光结构