专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]抛光-CN201310657018.4有效
  • 路新春;郭垒;沈攀 - 清华大学
  • 2013-12-06 - 2014-03-26 - B24B29/00
  • 本发明公开了一种抛光。所述抛光包括:基座组件,所述基座组件的周面上设有刻度线组;和保持环组件,所述保持环组件螺纹配合在所述基座组件上,所述保持环组件的周面上设有与所述刻度线组配合的指示线。根据本发明实施例的抛光具有避免掉片、抛光效果好等优点。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光-CN201510315554.5在审
  • 陈国兴;施荣荣;陈猛;费枭;赵倍吉 - 上海新傲科技股份有限公司
  • 2015-06-10 - 2015-12-09 - B24B41/047
  • 本发明提供了一种抛光,包括:抛头基座;抛头基座表面的固定环;以及连接固定环与抛头基座的垫片;所述垫片沿着垂直于抛头基座表面的方向具有弹性。本发明为了保证晶圆不受固定环高度的影响而能够与抛光台充分接触,垫片设置为沿着垂直于抛头基座表面的方向具有弹性。其优点在于,由于抛头基座与抛光台之间存在压力,在晶圆减薄至固定环接触到抛光台之后,虽然固定环也与抛光台接触,由于垫片具有弹性,因此仍然可以保证晶圆与抛光台之间以存在压力的状态充分接触。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光-CN201710117233.3在审
  • 许振杰;郑家旺;路新春;沈攀 - 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
  • 2017-03-01 - 2017-06-27 - B24B37/11
  • 本发明提出一种抛光,该抛光包括基板、驱动件、上浮动件、下浮动件、传动件,以及吸附件,其中,驱动件包括第一连接端,和第一传动端;上浮动件包括第二连接端和上浮动端,第二连接端与第一连接端同轴心固定相连,上浮动端为凹球面或者凹圆锥面;下浮动件包括下浮动端和第三连接端,下浮动端为凸球面;下浮动端的凸球面与上浮动端的凹球面或者凹圆锥面相适配,且可拆卸地相连,且上浮动件与下浮动件之间进行浮动的转动中心不高于工件的抛光表面通过本发明能够减小接触点变形,减少工件与抛光盘间的偏摆,弥补抛光抛光盘之间的平行度误差,使工件贴合在抛光盘表面,且提升抛光效果。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光-CN201410384793.1有效
  • 陈菊芳 - 陈菊芳
  • 2014-08-07 - 2016-11-16 - B24B41/047
  • 本发明公开了一种抛光,包括上盖盘、中盖盘和下盖盘,上盖盘连接有旋转轴,下盖盘连接有夹持器,所述上盖盘和中盖盘之间均匀设置有若干个连杆,连杆的上端铰接于上盖盘的中心,连杆的下端铰接于中盖盘的边缘,连杆的上端与上盖盘之间设置有橡胶缓冲垫本发明能够改进现有技术的不足,进一步提高抛光旋转时的稳定性。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光-CN201110039266.3有效
  • 路新春;王同庆;何永勇;雒建斌 - 清华大学
  • 2011-02-16 - 2011-09-07 - B24B39/06
  • 本发明公开了一种抛光,所述抛光包括盖板;主隔膜,所述主隔膜为环形且具有弹性,所述主隔膜固定在所述盖板的下表面上;基座,所述基座固定在所述主隔膜的下表面上;柔性膜,所述柔性膜固定在所述基座的下表面上,根据本发明实施例的抛光不仅可以防止晶圆在化学机械抛光过程中被甩出,而且可以获得均匀的、一致的抛光效果。此外,由于所述保持环的磨损不会降低抛光效果,因此所述保持环可以具有更长的使用寿命,从而降低了抛光成本。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光-CN201110039127.0有效
  • 路新春;王同庆;何永勇;雒建斌 - 清华大学
  • 2011-02-16 - 2011-09-07 - B24B39/06
  • 本发明公开了一种抛光,所述抛光包括盖板;基座,所述基座固定在所述盖板的下表面上,所述基座的下表面形成有环形凹槽;柔性膜,所述柔性膜固定在所述基座的下表面上且覆盖在所述环形凹槽上以形成与外界连通的下腔室根据本发明实施例的抛光可以提供更低的抛光压力。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光-CN200810079277.2有效
  • 种宝春;柳滨;周国安 - 中国电子科技集团公司第四十五研究所
  • 2008-08-28 - 2009-01-14 - B24B41/047
  • 本发明涉及一种用于半导体晶圆的化学机械抛光设备上的抛光。传动盘上装有弹簧顶销,弹簧顶销的上端部与上盖盘的内上表面相接触,传动盘与基盘间设有传动销,背膜贴覆于基盘的下表面上,且其周圈设固定环与基盘固定,围持环悬吊于基盘上,传动盘与基盘间设有活动平衡关节装置,本抛光抛光质量好、抛光平整度高。
  • 抛光
  • [实用新型]抛光-CN201420441962.6有效
  • 陈菊芳 - 陈菊芳
  • 2014-08-07 - 2014-12-31 - B24B41/047
  • 本实用新型公开了一种抛光,包括上盖盘、中盖盘和下盖盘,上盖盘连接有旋转轴,下盖盘连接有夹持器,所述上盖盘和中盖盘之间均匀设置有若干个连杆,连杆的上端铰接于上盖盘的中心,连杆的下端铰接于中盖盘的边缘,连杆的上端与上盖盘之间设置有橡胶缓冲垫本实用新型能够改进现有技术的不足,进一步提高抛光旋转时的稳定性。
  • 抛光
  • [外观设计]抛光-CN202130556966.4有效
  • 覃静连 - 覃静连
  • 2021-08-25 - 2022-01-18 - 08-05
  • 1.本外观设计产品的名称:抛光。2.本外观设计产品的用途:用于打磨抛光。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状与色彩的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。
  • 抛光
  • [外观设计]抛光-CN202130713607.5有效
  • 朱位江 - 朱位江
  • 2021-10-30 - 2022-05-10 - 08-05
  • 1.本外观设计产品的名称:抛光。2.本外观设计产品的用途:用于一种打磨、抛光用的抛光。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。
  • 抛光
  • [发明专利]抛光设备及其抛光方法-CN201710439072.X在审
  • 赵慧佳;路新春;沈攀 - 天津华海清科机电科技有限公司;清华大学
  • 2017-06-12 - 2017-10-03 - B24B1/00
  • 本发明公开了一种抛光设备及其抛光方法,所述抛光设备包括上抛光和下抛光,所述上抛光和所述下抛光相对布置,所述上抛光和所述下抛光相对可移动以抛光,所述上抛光的下表面和所述下抛光的上表面均具有用于放置待抛光物的待抛光物放置区;用于向待抛光物的待抛光面放入抛光液的抛光液输送装置,所述抛光液输送装置的出口连通所述上抛光和所述下抛光之间的空间。根据本发明的抛光设备,通过使上抛光相对下抛光移动可以同时抛光两个待抛光面,并且通过抛光液输送装置可以向上抛光和下抛光之间的空间输送抛光液,这样有利于提高抛光效率,降低成本。
  • 抛光设备及其方法
  • [实用新型]一种轨道式抛光-CN201320561412.3有效
  • 纪宗武 - 天津市滨海新区芊伊科技发展有限公司
  • 2013-09-11 - 2014-04-02 - B24B47/08
  • 本实用新型公开了一种轨道式抛光机,包括基座、抛光抛光支架、横梁、抛光盘机构、抛光动力机构和抛光加压气缸,所述抛光支架固定安装在所述基座上,所述横梁与所述抛光支架的上端连接,并且相互垂直,所述基座内设置有驱动与传动部件,所述抛光盘机构设置在所述驱动与传动部件上部,所述抛光动力机构安装在所述横梁上,所述抛光动力机构与所述抛光传动连接,所述抛光加压气缸设置在所述抛光与所述抛光动力机构之间。本实用新型一种轨道式抛光机中的抛光的直线运动由抛光摆动装置实现,本实用新型的结构比较简单,并且工作状态稳定。
  • 一种轨道抛光机
  • [发明专利]超薄膜片边缘抛光工具-CN201711295078.0在审
  • 张勇;王力;杨洋;周宇航 - 上海航天设备制造总厂有限公司
  • 2017-12-08 - 2018-05-15 - B24B29/02
  • 本发明的超薄膜片边缘抛光工具包括可动抛光模块、固定抛光模块、上部底座、下部底座和抛光背盖模块;所述固定抛光模块与所述下部底座固连;所述抛光背盖模块与所述上部底座和下部底座相连;所述可动抛光模块包括可动抛光滚轮、抛光滑块和楔形块;所述可动抛光滚轮与所述抛光滑块相连,所述抛光滑块与所述楔形块相连;所述抛光背盖模块包括:抛光背盖、电磁吸盘和背盖弹簧;所述电磁吸盘与所述抛光背盖相连,所述背盖弹簧套设在所述电磁吸盘上;所述抛光滑块和所述楔形块置于所述上部底座和所述抛光背盖内,且能在所述上部底座和所述抛光背盖内移动,所述楔形块与所述背盖弹簧相连。
  • 超薄膜片边缘抛光工具
  • [发明专利]一种低粘度磨粒流泵的柱塞孔旋转抛光装置-CN202211119173.6在审
  • 袁巧玲;郭旭;葛江涛;王玥 - 浙江工业大学
  • 2022-09-15 - 2022-11-18 - B24B31/116
  • 本发明属于超精密加工领域,具体涉及一种低粘度磨粒流泵的柱塞孔旋转抛光装置,包括抛光抛光安装组件、旋转驱动机构及轴向移动驱动机构,所述抛光用以对工件内壁进行抛光,所述抛光安装组件用以安装抛光,所述抛光能够在抛光安装组件上同时进行轴向前后移动和以抛光轴心为中心线的旋转,所述旋转驱动机构用以带动抛光进行旋转,所述轴向移动驱动机构用以带动抛光进行轴向前后移动。本发明将抛光一端堵死另一端进入磨料,通过磨料在抛光内部的挤压以及抛光旋转给磨粒带来的离心力而对工件进行抛光这样抛光效果较好,并且相比传统磨粒流抛光装置抛光更加的彻底均匀。
  • 一种粘度磨粒流泵柱塞旋转抛光装置

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