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[发明专利]一种多功能的基片磨抛装置及其磨抛方法-CN201210018459.5有效
发明人：康仁科;朱祥龙;董志刚;冯光;郭东明 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2012-01-19 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： B24B37/013 文献下载
摘要：本发明一种多功能的基片磨抛装置及其磨抛方法，属于平面基片的超精密加工技术领域，涉及一种用于硅片、蓝宝石基片和玻璃基板等硬脆材料的磨抛平整化加工及减薄加工，可用于陶瓷、金属和复合材料等平面薄板的磨削和抛光加工基片磨抛方法采用三种方式：轴向切入式磨抛、径向切入式磨削和留边磨抛方法。磨抛装置采用由磨削主轴单元和抛光主轴单元组成的双主轴结构，在一台装置上完成基片的磨削和抛光加工；磨削主轴单元和抛光主轴单元通过一根牵引绳牵引，互为配重。磨抛装置将磨削机和抛光机集成于一体，基片只需一次性装夹，即可完成磨削和抛光两道工序加工，提高基片磨抛加工精度和磨抛加工自动化，降低碎片率，提高了生产效率。
一种多功能基片磨抛装置及其方法

[发明专利]一种光学波导器件的制作方法-CN201210477391.7有效
发明人：吴砺;凌吉武;贺坤;陈卫民;张新汉 -专利权人：福州高意通讯有限公司
申请日： 2012-11-22 - 公布日： 2014-06-04 - 主分类号： B24B19/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学波导器件的制作方法，包括以下步骤：分别将波导平片和基片的表面抛光后进行光胶或深化光胶；对光胶或深化光胶后的波导平片和基片两端的端面进行抛光，再在两端的端面上贴上保护片；将基片固定在磨抛机上，对波导平片的表面进行磨抛，磨抛至其厚度为10微米~50微米；将波导平片的表面磨抛完成后，整体放置在磨抛机上，再将磨抛机和波导平片设在磨抛液中，对波导平片进行成型磨抛，成型波导平片的表面为包括一条以上凹槽的结构，其中所述的磨抛机包括磨抛机基片和磨抛结构，所述的磨抛结构设在磨抛机基片上，磨抛结构的磨抛表面形状与成型的波导平片的表面形状对应。
一种光学波导器件制作方法

[实用新型]便携式微流控芯片及检测装置-CN201820190178.0有效
发明人：陈龙 -专利权人：首慈康健养老有限公司
申请日： 2018-02-05 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： B01L3/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种微流控芯片，包括微流控芯片基片、待测物检测室和侧抛磨光纤；侧抛磨光纤固定设置在微流控芯片基片的表面，侧抛磨光纤的侧抛磨区开口向上设置在微流控芯片基片的表面；待测物检测室包裹在侧抛磨光纤的侧抛磨区的外周，使得待测物置于待测物检测室的侧抛磨区。
微流控芯片抛磨检测装置待测物本实用新型检测室光纤微流控检测灵敏度准确度光纤固定技术缺陷开口向上医学检测传统的外周

[发明专利]便携式微流控芯片、检测装置及微流控检测方法-CN201811142376.0在审
发明人：陈龙;陈哲 -专利权人：首慈康健养老有限公司
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： B01L3/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种便携式微流控芯片，包括微流控芯片基片、待测物检测室和侧抛磨光纤；侧抛磨光纤固定设置在微流控芯片基片的表面，侧抛磨光纤的侧抛磨区开口向上设置在微流控芯片基片的表面；待测物检测室包裹在侧抛磨光纤的侧抛磨区的外周，使得待测物置于待测物检测室的侧抛磨区。
微流控芯片抛磨微流控检测装置待测物检测室光纤检测检测灵敏度准确度光纤固定技术缺陷开口向上医学检测传统的外周

[发明专利]一种微流控芯片、微流控检测装置及微流控检测方法-CN201811142400.0在审
发明人：陈龙 -专利权人：首慈康健养老有限公司
申请日： 2018-09-28 - 公布日： 2019-01-18 - 主分类号： B01L3/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种微流控芯片，包括微流控芯片基片、待测物检测室和侧抛磨光纤；侧抛磨光纤固定设置在微流控芯片基片的表面，侧抛磨光纤的侧抛磨区开口向上设置在微流控芯片基片的表面；待测物检测室包裹在侧抛磨光纤的侧抛磨区的外周，使得待测物置于待测物检测室的侧抛磨区。
微流控芯片微流控抛磨检测装置待测物检测室光纤检测检测灵敏度准确度光纤固定技术缺陷开口向上医学检测传统的外周

[实用新型]一种微流控芯片及微流控检测装置-CN201820194580.6有效
发明人：陈龙;陈哲 -专利权人：首慈康健养老有限公司
申请日： 2018-02-05 - 公布日： 2018-11-06 - 主分类号： B01L3/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种微流控芯片，包括微流控芯片基片、待测物检测室和侧抛磨光纤；侧抛磨光纤固定设置在微流控芯片基片的表面，侧抛磨光纤的侧抛磨区开口向上设置在微流控芯片基片的表面；待测物检测室包裹在侧抛磨光纤的侧抛磨区的外周，使得待测物置于待测物检测室的侧抛磨区。
微流控芯片抛磨检测装置待测物微流控本实用新型检测室光纤检测灵敏度准确度光纤固定技术缺陷开口向上医学检测传统的外周

[实用新型]一种用于方形基片的化学机械磨抛头-CN200920064616.X有效
发明人：朱宗树;吕文利;魏唯 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请日： 2009-05-27 - 公布日： 2010-05-12 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：一种用于方形基片的化学机械磨抛头，适于陶瓷等方形基片的化学机械抛光；它包括设有负压抽气通道的磨头主轴和位于其底端下方的磨头盘，磨头盘上面接有固定盘；磨头盘底部有向下凸起的方形台阶，该方形台阶中设有多个小通气道且其下端口开在方形台阶底面而其上端口同磨头主轴的负压抽气通道连通；方形驱动环装在磨头盘下面且所述方形台阶位于其中部对应的方形孔中，方形驱动环下端口周边有向下凸起的边框；方形驱动环上表面与磨头盘之间装有垫环。它可以使方形基片在装载与卸载过程中操作便捷，稳定可靠，在磨抛过程中工艺稳定，不易发生掉片，碎片现象；还可提高设备的稳定性与兼容性。
一种用于方形化学机械磨抛头

[发明专利]硬盘新型玻璃基片的制作方法-CN200410020299.3无效
发明人：李江陵 -专利权人：天津日恒科技发展有限公司
申请日： 2004-08-09 - 公布日： 2006-02-15 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：一种硬盘新型玻璃基片及制作方法。涉及一种计算机硬盘玻璃基片的制作方法。它可以使玻璃基片的表面光洁度小于6。其加工方法是；1.打孔；2.玻璃基片表面的粗磨；3.精磨；4.粗抛；5.使用抛光液进行精抛，直至表面光洁度达到5，再在酸性溶液进行硬化即可。在新型玻璃基片的表面上可以涂覆用以储存数据的涂层。由于新型玻璃基片的表面光洁度在现有技术的基础上得到了提高，因此，本发明制作的新型玻璃基片，为计算机硬盘的发展创造了空间。
硬盘新型玻璃制作方法

[发明专利]一种蒸发冷却微结构的制备方法-CN202110479607.2在审
发明人：徐辉 -专利权人：苏州华易航动力科技有限公司
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2021-07-02 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸发冷却微结构的制备方法，包括以下步骤：在基片上表面电沉积一层第一金属，形成沉积层；将沉积层的表面进行精密抛磨，同时，保证一定厚度的沉积层；经抛磨后的沉积层表面涂覆一层光刻胶；将基片放置在光刻机载物台上，用曝光掩膜板进行曝光；将曝光处理后的基片放入显影液中进行显影，显影后进行清洗、干燥；干燥后基片的沉积层的表面沉积一层第二金属；再用溶剂对多余的光刻胶进行溶解；在光刻胶溶解的位置中加入刻蚀液，待溶解至指定位置倒掉多余的刻蚀液本发明采用电沉积方法，实现高效、快速加工大面积的微结构，实现产业化生产；能够实现在同一个基片上同时加工出多个微结构。
一种蒸发冷却微结构制备方法

[发明专利]一种强旋磁性铁氧体薄型基片清洗工艺-CN202311045655.6在审
发明人：李敏 -专利权人：安徽菲尔姆微电子有限公司
申请日： 2023-08-18 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明揭示了一种强旋磁性铁氧体薄型基片清洗工艺，控制基片与抛洗台间的抛洗液在不同方向上流动，并运用无尘布对基片表面进行抛洗；对抛洗后的基片设置于限位槽中进行超声清洗；将经过超声清洗的基片进行高压水蒸汽清洗；以及将经过高压水蒸汽清洗的基片在真空环境下进行烘烤去气。本发明通过控制基片与抛洗台间的抛洗液在不同方向上流动，运用柔性无尘布中的抛洗液对基片表面进行打磨处理，从而实现对基片双表抛洗。有效地避免了传统抛洗局部压力过大造成损伤裂片和抛洗效率不高等问题，实现了对基片的高效无损抛洗。
一种磁性铁氧体薄型基片清洗工艺

[发明专利]一种强化换热微结构的规模化制备方法-CN202110677082.3有效
发明人：房晓龙;韩鸿恩;杨晓龙 -专利权人：南京航空航天大学
申请日： 2021-06-18 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： B23H3/00 文献下载
摘要：具体包括以下步骤：步骤1：在基片上表面电铸一层金属A，然后对金属A进行抛磨；步骤2：在抛磨后的金属A表面涂覆一层模板，在模板表面开设通孔，得到工件；步骤3：将工件进行电解加工；步骤4：在工件电解加工位置滴加铜蚀刻液进行蚀刻该方法具有安全、高效且适合大面积大规模生产的特性，基片的材料可以根据实际要求而改变，适应各种要求的生产。
一种强化微结构规模化制备方法

[发明专利]一种适于红外光谱椭偏测量的单抛硅片基片处理方法-CN201911388291.5有效
发明人：刘永兴;戴世勋;林常规;亓东锋;沈祥;王训四;付园 -专利权人：宁波大学
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种适于红外光谱椭偏测量的单抛硅片基片处理方法，对通用粒径的氧化铈抛光粉按照氧化铈颗粒的粒径做初次和二次晒晒筛选，得到具有较优粒径的氧化铈颗粒，在使其与水混合制成抛光液，利用双面胶保护住单抛硅片的已抛光面，再利用研磨抛光机的原装的抛磨夹持盘与选取的新抛光盘配合，将搅拌均匀的抛光液利用滴管全面地滴至且覆盖新抛光盘的上表面，最终不断调整抛磨夹持盘的转动速度、转动时间以及研磨压强来对单抛硅片的粗糙面做研磨，从而利用抛光液内的氧化铈颗粒去摩擦单抛硅片的粗糙面，降低利用传统抛光砂纸在单抛硅片表面滑动摩擦产生的长条状且深浅不一致类似于山脉的磨砂表面，实现单抛硅片表面光界面比较规整。
一种适于红外光谱测量硅片处理方法

[实用新型]磁阻传感器-CN89207233.4无效
发明人：王元玮;于朴;田跃 -专利权人：王元玮;于朴;田跃
申请日： 1989-05-22 - 公布日： 1990-02-14 - 主分类号： G01D5/12 文献下载
摘要：本实用新型由基片(1)、磁阻片(2)、引线(3、3′)组成，基片可用陶瓷、铁氧体、氧化铝或塑料经抛磨而成，磁阻片是采用磁阻材料薄片粘接在磨平的基片上，磁阻片光刻成谜宫式形状。
磁阻传感器

[发明专利]一种硫系玻璃光纤的侧面抛光方法-CN202110953489.4在审
发明人：张培晴;杨怡涛;李耀成;甘文博;周伟杰;王训四;戴世勋;林常规 -专利权人：宁波大学
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： B24B19/22 文献下载
摘要：该方法步骤简单、可操作性强、成本低、效率高，其通过飞秒激光直写、化学腐蚀加工平板玻璃基片，以在平板玻璃基片上加工的精加工微型槽作为侧面抛光的专用抛磨固定凹槽，以精加工微型槽的深度为抛光深度的基准进行多次抛光，抛磨的深度、长度、次数、时间及精度可控，得到较为平整、光滑的抛光表面，并解决了传统抛光方法中硫系玻璃光纤容易断裂等问题，最终在确保硫系玻璃光纤的性能的同时，实现了高效、高质的侧面抛光，适用于不同纤芯、
一种玻璃光纤侧面抛光方法

[实用新型]全自动水钻磨抛机的磨抛进位机构-CN201320408523.0有效
发明人：陈哲 -专利权人：陈哲
申请日： 2013-07-10 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： B24B9/08 文献下载
摘要：本实用新型涉及全自动水钻磨抛机的磨抛进位机构，包括机架、磨抛装置、带动装置以及夹具，磨抛装置包括磨抛轮和用于安装磨抛轮的磨抛轮架，水钻定位于夹具工位之中，所述磨抛轮和水钻之间具有磨抛线，该磨抛线始终呈与磨抛轮轴向相平行的直线，所述带动装置带动磨抛装置沿着磨抛装置活动轨迹进位和退位，磨抛装置活动轨迹呈弧形，进而降低冲击力的全自动水钻磨抛机的磨抛进位机构。
全自动水钻磨抛机进位机构

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