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[发明专利]图像拼接系统-CN201910487331.5有效
发明人：王智;汪燕青;杨斯曼 -专利权人：杭州海康汽车技术有限公司
申请日： 2019-06-05 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种图像拼接系统，包括：一个图像传感器，包括调制成像区域；具有调制装置的光学系统，用于形成调整后的中间像；转换组件，用于将所述调整后的中间像转变为调制投影图像，所述调制投影图像投射到所述调制成像区域并被所述图像传感器采集；其中，所述具有调制装置的光学系统包括：光学装置，用于形成中间像；调制装置，包括遮光区域，所述遮光区域用于在所述中间像的位置遮挡所述中间像中对其他光学系统产生影响的杂光光线并将所述中间像调制为所述调整后的中间像通过调制装置的遮光区域在中间像的位置遮挡光学系统中对其他光学系统产生影响的杂光光线，降低光学系统的杂光光线对其他光学系统产生影响的概率，提升图像的准确性。
图像拼接系统

[发明专利]微透镜阵列曝光装置以及微透镜阵列曝光方法-CN202310459191.7在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种微透镜阵列曝光装置以及微透镜阵列曝光方法，属于曝光机技术领域，装置包括照明系统、掩膜版、成像系统以及感光基板，成像系统具有第一成像镜头组和第二成像镜头组，第一成像镜头组和第二成像镜头组沿中间像面镜像对称，第一成像镜头组和第二成像镜头组均为规则排布的微透镜镜头组；照明系统提供曝光光束，曝光光束照射掩模版的图案，并经过第一成像镜头组形成中间像面，再通过第二成像镜头组曝光于感光基板；第一成像镜头组的物面对应掩模版，第一成像镜头组的像面对应中间像面；第二成像镜头组的物面为中间像面，第二成像镜头组的像面对应于感光基板。
透镜阵列曝光装置以及方法

[发明专利]光学组件、光学仪器和方法-CN201880098442.0在审
发明人： P·卡斯安 -专利权人：埃德利控股公司
申请日： 2018-10-09 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： G02B21/36 文献下载
摘要：光学组件(100)包括第一透镜单元(10)和第二透镜单元(20)，其中，中间像平面(2)在第一透镜单元与第二透镜单元之间被限定，其中第一透镜单元(10)布置成将来自第一像平面(1)的像成像为在中间像平面(2)内的放大中间实像，并且经过第一透镜单元的全部可能光路在第一像平面中限定第一入口区(11)并在中间像平面中限定第一出口区(12)，其中第二透镜单元(20)布置成将来自中间像平面(2)的像成像为在第二像平面(3)中的放大实像，其中经过第二透镜单元的全部可能光路在中间像平面中限定第二入口区(21)并在第二像平面中限定第二出口区(22)，其中第二入口区(21)包括第一出口区的第一部分并排除第一出口区的第二部分
光学组件光学仪器方法

[实用新型]图像拼接系统-CN201920848274.4有效
发明人：王智;汪燕青;杨斯曼 -专利权人：杭州海康汽车技术有限公司
申请日： 2019-06-05 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种图像拼接系统，包括：一个图像传感器，包括调制成像区域；N个具有调制装置的光学系统，用于形成调整后的中间像，N为小于或等于20的正整数；转换组件，用于将调整后的中间像转变为调制投影图像，调制投影图像投射到调制成像区域并被图像传感器采集；其中，具有调制装置的光学系统包括：光学装置，用于形成中间像；调制装置，包括遮光区域，遮光区域用于在中间像的位置遮挡中间像中对其他光学系统产生影响的杂光光线并将中间像调制为调整后的中间像
中间像光学系统调制调制装置遮光区域图像传感器成像区域投影图像杂光图像拼接系统本实用新型光学装置遮挡杂光转换组件正整数投射遮挡采集图像概率

[发明专利]投影光学系统、曝光装置及曝光方法-CN03121921.7有效
发明人：大村泰弘 -专利权人：尼康株式会社
申请日： 2003-04-14 - 公布日： 2003-10-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种具有较大的像侧数值孔径及投影视野且面对振动时的机械安定性等优良的投影光学系统。包括形成第1面(R)的第1中间像的第1成像光学系统(G1)、有凹面反射镜(CM)，基于第1中间像发出的光束形成第2中间像的第2成像光学系统(G2)、基于第2中间像发出的光束，在第2面(W)上形成最终像的第3成像光学系统(G3)。
投影光学系统曝光装置方法

[发明专利]成像光学系统和具有这种成像光学系统的用于微光刻的投射曝光设备-CN201180020318.0有效
发明人： H-J.曼;D.谢弗 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2011-04-02 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： G02B17/06 文献下载
摘要：一种成像光学系统（1），其具有多个反射镜（M1-M6），该多个反射镜（M1-M6）将物平面（5）中的物场（3）成像至像平面（9）中的像场（7），该成像光学系统包括第一部分物镜（11）和第二部分物镜（13），第一部分物镜（11）将物场成像至中间像（15）上，第二部分物镜（13）将中间像成像至像场上，并包括物场和像场之间的成像光线（17）的光路中的倒数第二个反射镜（M5）、以及该光路中的最后一个反射镜（M6这里，倒数第二个反射镜（M5）将中间像成像至另一中间像（19）上，且最后一个反射镜将该另一中间像成像至像场上。
成像光学系统具有这种用于微光投射曝光设备

[发明专利]成像装置-CN03159443.3有效
发明人：斋藤圣史;小林达也;紫村大;铃木浩一;相田孝光 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2003-09-24 - 公布日： 2004-05-12 - 主分类号： G03G15/16 文献下载
摘要：成像装置具有：像载体；中间转印体，用于从上述像载体接受调色剂像转印；清理机构，该清理机构清理上述中间转印体上的调色剂像；第一模式，上述第一模式为向印材转印上述中间转印带上的调色剂像；第二模式，上述第二模式为在上述转印体上的可以成像的全区域形成调色剂像，并在不向转印材转印上述调色剂像的情况下进行清理。由此，可以防止中间转印体从新品状态开始使用时产生的图像不良，或成像装置长期没有使用后开始使用时产生的图像不良。
成像装置

[发明专利]一种零串扰的聚焦型光场相机F#匹配方法-CN202211309158.8在审
发明人：穆郁;冀鹏州;张晨钟;张正辉;赵侃;徐大维 -专利权人：天津津航技术物理研究所
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H04N23/55 文献下载
摘要：本申请提供一种零串扰的聚焦型光场相机F#匹配方法，包括根据中间像面与微透镜阵列之间的位置关系，判断聚焦型光场相机的结构形式，所述中间相面为主物镜所成的像；分别求解中间像面位于不同结构下的半像高；根据所述半像高分别求解所述中间像面处于不同结构时的主物镜口径；根据所述半像高与所述主物镜口径分别求解聚焦型光场相机在不同结构下的F#；根据所述F#求解主物镜与微透镜阵列之间的F#匹配关系；本申请的方法，避免了在成像的过程中发生串扰或者空像素的情况，使得探测器所成的像可以紧密相邻
一种零串扰聚焦型光场相机匹配方法

[发明专利]一种可实现亚波长像素偏振器与探测器集成的光学系统-CN201911242240.1有效
发明人：张伟;李文昊;马振予;谭鑫 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2019-12-06 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： G02B27/28 文献下载
摘要：本发明提供一种可实现亚波长像素偏振器与探测器集成的光学系统，将目标物体发出的光束经过所述前组透镜光学单元成像于中间像面处，形成中间像，所述中间像面处放置亚波长像素偏振器，所述中间像经过所述亚波长像素偏振器，在所述亚波长像素偏振器的每个像素单元处衍射形成携带特定偏振信息的像，具有不同像素偏振特征的像经过所述后组透镜光学单元，成像于所述探测器的接收面，所述探测器的每个像素单元接收到具有不同偏振特征的像，从而实现对整个目标物体的偏振成像，实现了低畸变、高像质、高稳定性、实时信息获取的像素偏振成像光学系统。
一种实现波长像素偏振探测器集成光学系统

[发明专利]图像形成装置-CN200510092008.6有效
发明人：木村丈信;佐藤洋太郎;浜田州太 -专利权人：柯尼卡美能达商用科技株式会社
申请日： 2005-08-16 - 公布日： 2006-04-12 - 主分类号： G03G15/16 文献下载
摘要：一种形成图像的图像形成装置，其特征在于，具有：形成调色剂像的图像形成部分；承载由图像形成部分形成的调色剂像的像承载体；由支撑材料把其一部分支撑为平面状的中间转印体；把在上述像承载体上形成的调色剂像转印到上述中间转印体上的一次转印装置；把上述中间转印体上的调色剂像转印到转印材料上的二次转印装置；在上述中间转印体的移动方向上位于上述二次转印装置的上游侧，配置在把上述中间转印体支撑成平面状的位置上，具有用于消去上述中间转印体上的调色剂像电荷的放电电极和栅格的反布电现象消电器；与上述反布电现象消电器相对的上述中间转印体的反面接触的导电刷。
图像形成装置

[发明专利]近眼显示光学系统和近眼显示设备-CN201910825980.1在审
发明人：郝希应;陈杭;王雁茹;胡增新 -专利权人：舜宇光学（浙江）研究院有限公司
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：该近眼显示光学系统包括图像源单元、目视图像放大系统以及中间像面形成单元。该图像源单元用于沿着发射路径发射图像光线。该目视图像放大系统具有一光学观看轴。该中间像形成单元被设置于该图像源单元和该目视图像放大系统之间的光路中，其中该中间像形成单元用于接收经由该图像源单元发射的该图像光线，以在该中间像形成单元和该目视图像放大系统之间形成一中间像，其中该目视图像放大系统用于将形成该中间像的该图像光线沿着该光学观看轴导入人眼以成像
显示光学系统设备

[实用新型]近眼显示光学系统和近眼显示设备-CN201921450515.6有效
发明人：郝希应;陈杭;王雁茹;胡增新 -专利权人：舜宇光学（浙江）研究院有限公司
申请日： 2019-09-03 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：该近眼显示光学系统包括图像源单元、目视图像放大系统以及中间像面形成单元。该图像源单元用于沿着发射路径发射图像光线。该目视图像放大系统具有一光学观看轴。该中间像形成单元被设置于该图像源单元和该目视图像放大系统之间的光路中，其中该中间像形成单元用于接收经由该图像源单元发射的该图像光线，以在该中间像形成单元和该目视图像放大系统之间形成一中间像，其中该目视图像放大系统用于将形成该中间像的该图像光线沿着该光学观看轴导入人眼以成像
显示光学系统设备

[发明专利]图像形成装置-CN200510116426.4有效
发明人：西川晃弘 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2005-10-20 - 公布日： 2006-04-26 - 主分类号： G03G15/01 文献下载
摘要：一种图像形成装置，备有：多个像承载体；在多个像承载体上形成多个静电像的静电像形成装置；利用进行了规定的极性带电的显影剂，使在多个像承载体上形成的静电像显影，作为显影剂像的多个显影器；在多个一次转印部中，将多个像承载体上承载的显影剂像一次转印在中间转印体上的一次转印装置；在二次转印部中将一次转印在中间转印体上的显影剂像二次转印在记录材料上的二次转印装置；清除中间转印体上的显影剂的清除装置；以及在进行了一次转印后，将未进行二次转印的未二次转印显影剂像从中间转印体上清除除去的情况下，根据未二次转印显影剂像的图像比率或位置，可变地控制清除装置的清除条件的控制器。
图像形成装置

[发明专利]复制方法及图像形成装置-CN97120080.7无效
发明人：高桥充;杉本浩之 -专利权人：株式会社理光
申请日： 1997-10-05 - 公布日： 2003-06-25 - 主分类号： G03G15/16 文献下载
摘要：本发明的图像形成装置设有形成有墨像的像载体及由复数辊架设且在一次复制部与上述像载体相接的带状中间复制体，将像载体上顺序形成的墨像顺序叠合在中间复制体上，然后再一次性地复制在复制纸上，从感光体和中间复制体的接触部，沿中间复制体移动方向下游侧配置出口偏压辊，在上游侧配置入口接地辊，上述接触部内中间复制体反面设有接触构件，且该构件接地。
复制方法图像形成装置

[发明专利]曝光装置、器件制造系统及器件制造方法-CN201710421666.8有效
发明人：加藤正纪 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2013-11-29 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：具有：投影光学系统(PL)，使来自光罩(M)的第1投影光束(EL2a)成像而形成中间像，使来自形成中间像的中间像面(P7)的第2投影光束(EL2b)在基板(P)上再成像而形成投影像；光量减少部，将从第1投影光(EL2a)产生的投射至基板(P)上的泄漏光的光量减少，投影光学系统(PL)具有：部分光学系统(61)，使来自光罩(M)的第1投影光(EL2a)成像并投射至中间像面(P7)；反射光学系统(62)，将从部分光学系统(61)投射的第1投影光(EL2a)引导至中间像面(P7)，且将来自中间像面(P7)的第2投影光(EL2b)引导至部分光学系统(61)，部分光学系统(61)使来自中间像面(P2)的第2投影光
中间像面投影光光学系统成像基板投射投影光学系统光量减少投影光束投影像中间像光罩反射光学系统器件制造系统曝光装置器件制造泄漏光

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