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- [实用新型]一种上光用具-CN01250999.X无效
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王士元
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王士元
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2001-10-15
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2002-09-25
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A46B11/02
- 本实用新型涉及一种生活用品,尤其是真皮、地板、家具、汽车上光抛光用具。本实用新型由手柄1与手柄1外表的上光刷2所组成。手柄1为空腔结构,其一端到另一端依次为后固定盖3、螺旋压缩弹簧4、活塞5、上光剂6、涂头7、涂头保护盖8。本实用新型因上光刷与上光剂融为一体,故使用及保管十分方便。另外,上光剂用尽后可填充新的预制上光剂,从而大大节省上光剂的包装成本。
- 一种上光用具
- [发明专利]一种清洁上光剂-CN88105538.7无效
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沈锦良;徐祖国
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上海市胜利日用化工厂
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1988-06-30
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1989-02-01
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C09G1/06
- 一种清洁上光剂，属软性乳化型清洁上光剂。它含4％～6％的蜡，13％～24％的润滑剂，15％～25％的填充剂，25％～35％的200#溶剂汽油和40％的软水，2％～2.5％的季胺盐型阳离子表面活性剂和2％～2.5％的18醇。这种清洁上光剂集清洁上光功能为一体，去污力强，上光性好，使用方便，易去垢，不吸尘，经日晒雨淋仍能保持光亮，且耐热达40℃不会分离。它适用于汽车、电镀、玻璃、等制品表面的清洁上光。
- 一种清洁上光
- [发明专利]用以形成半导体器件精细图形之方法-CN96114082.8无效
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裴相满
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现代电子产业株式会社
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1996-12-26
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2002-02-13
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H01L21/302
- 一个用以形成一个半导体器件之精细图形的方法，包括步骤提供一个半导体衬底；在所述半导体衬底上形成将要被蚀刻的一目标层；在所述目标层上形成一下光致抗蚀剂膜；在所述下光致抗蚀剂膜上形成一中间层；在所述中间层上形成一第一上光致抗蚀剂膜，该第一上光致抗蚀剂膜的蚀刻选择比不同于所述中间层的蚀刻选择比；用一第一曝光掩模选择性地曝光所述第一上光致抗蚀剂膜，形成第一上光致抗蚀剂图形并对该第一上光致抗蚀剂图形进行热处理；用所述第一上光致抗蚀剂图形作掩模，选择性地蚀刻所述中间层以形成中间层图形；在所得结构上形成一第二上光致抗蚀剂膜；以及用一第二曝光掩模选择性地曝光所述第二上光致抗蚀剂膜，使得所述第二上光致抗蚀剂膜的未曝光的部分与所述第一上光致抗蚀剂图形部分地重叠，以形成第二上光致抗蚀剂图形。
- 用以形成半导体器件精细图形方法
- [实用新型]一种刀刮布加工用上光装置-CN202120783023.X有效
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李家华;叶传捷
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嘉兴扬鑫机械有限公司
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2021-04-16
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2021-12-21
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B41F23/08
- 本实用新型属于刀刮布加工装置技术领域，尤其是一种刀刮布加工用上光装置，包括压光机本体，压光机本体的一端设置有上光机座，上光机座的上端安装有上光辊，上光机座的上端安装有上液装置，通过上液装置为上光机座提供上光剂该刀刮布加工用上光装置，通过设置在上光机座的表面安装上液装置，利用上液装置中的旋转轴随上光机座中的上光辊一同转动，进而使得风罩内的吸风效率由上光辊的工作效率进行控制，进而使得风罩内气流进入气囊内，通过气囊的形变，改变气囊在上液管内的占用的体积，进而改变上液管内的上光剂通过出液孔流出的效率，从而使得具有便于根据上光机工作效率调整上光剂涂覆速率的特点。
- 一种刀刮布加工用上光装置
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