[发明专利]基于薄记录层的光学记录介质无效
申请号: | 99802905.X | 申请日: | 1999-02-03 |
公开(公告)号: | CN1324481A | 公开(公告)日: | 2001-11-28 |
发明(设计)人: | 金成勋;J·W·G·梅伊;G·C·杜贝尔达姆;F·G·H·范威吉克 | 申请(专利权)人: | 阿克佐诺贝尔公司;三星电子株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 段承恩 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种光学记录介质,具有一个带有沟槽的聚碳酸酯基片,一个包括选自Ag、Ta、Ni、Cr、Si,或其合金或其氧化物材料制成的部分反射镜的记录层,一个有机材料制成的缓冲层,一个Au、Al、Ag或其合金制成的厚反射层和一个保护涂层。利用该部分反射镜、该缓冲层和该厚反射层,形成一个Fabry-Perot标准具。通过一个或多个所述部分反射镜、所述缓冲层、所述厚反射层、或所述基片产生的变形而写入信息。该变形改变或破坏了Fabry-Perot,反射率降低。由于利用该变形而写入信息,可以在该缓冲层中使用非液晶高分子材料。寻迹伺服利用了该部分反射镜/基片界面所反射的振幅和/或相位在该沟槽内外的差异。 | ||
搜索关键词: | 基于 薄记 光学 记录 介质 | ||
【主权项】:
1.一种光学记录介质,包括如下各层:a)一个聚碳酸酯基片,带有在未写入状态下其深度dgu为170-270nm的沟槽(1),其上叠加有b)一个记录层,包括:其材料选自Ag,Ta,V,Ni,Cr,Si,其合金和其氧化物的部分反射镜(2),在没有沟槽的基片处它在770-790nm的透射率在40%-90%之间,其上叠加有一个缓冲层(3),含有在未写入状态下在770-790nm处其固体状态下所测得的折射率nbu为1.45-3.0,消光系数kbu为0-0.3的有机材料,其凸起处的厚度db为10-70nm,该层沟槽图象的深度di是深度dgu的40%-90%,其上叠加有Au,Al,Ag或其合金的厚反射层(4),它们共同形成Fabry-Perot标准具,其中该凸起部分在770-790nm的反射处于高反射状态,其上叠加有c)保护涂层(5)。
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