[发明专利]基于薄记录层的光学记录介质

权利要求书

1．一种光学记录介质，包括如下各层：

a)一个聚碳酸酯基片，带有在未写入状态下其深度d_gu为170-270nm的沟槽(1)，其上叠加有

b)一个记录层，包括：其材料选自Ag,Ta,V,Ni,Cr,Si，其合金和其氧化物的部分反射镜(2)，在没有沟槽的基片处它在770-790nm的透射率在40％-90％之间，其上叠加有一个缓冲层(3)，含有在未写入状态下在770-790nm处其固体状态下所测得的折射率n_bu为1.45-3.0，消光系数k_bu为0-0.3的有机材料，其凸起处的厚度d_b为10-70nm，该层沟槽图象的深度d_i是深度d_gu的40％-90％，其上叠加有Au,Al,Ag或其合金的厚反射层(4)，它们共同形成Fabry-Perot标准具，其中该凸起部分在770-790nm的反射处于高反射状态，其上叠加有

c)保护涂层(5)。

2．如权利要求1的光学记录介质，其中在写入状态下的折射率n_bw和消光系数k_bw分别小于n_bu和k_bu。

3．如权利要求1或2的光学记录介质，其中该沟槽写入部分的深度d_gw小于该沟槽未写入状态下的深度d_gu。

4．如权利要求1-3中任何一项的光学记录介质，其中d_gu为180-240nm。

5．如权利要求1-4中任何一项的光学记录介质，其中在650nm处的反射率高于30％，而在780nm处的反射率高于60％。

6．如权利要求1-5中任何一项的光学记录介质，其中该部分反射镜选自Ag,Ta，其氧化物和其合金。

7．如权利要求1-6中任何一项的光学记录介质，其中该有机材料的折射率n_bu为1.8-2.2。

8．如权利要求1-7中任何一项的光学记录介质，其中K_bu为0-0.05。

9．如权利要求1-8中任何一项的光学记录介质，其中厚度d_b为15-40nm。