[发明专利]用椭偏法测量临界尺寸的设备和方法无效
| 申请号： | 99125883.5 | 申请日： | 1999-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN1255625A | 公开（公告）日： | 2000-06-07 |
| 发明（设计）人： | A·米凯利斯;O·根兹;U·曼茨 | 申请（专利权）人： | 西门子公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 邹光新,王忠忠 |
| 地址： | 联邦德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 按照本发明测量具有外形双折射的表面图形的设备包括一个光源为带有表面图形的表面提供入射光;一个光探测器用来测量入射光被表面图形反射后的特性;一个转台使样品表面转动,使得入射光因转台转动而以不同的角度入射;还包括一个处理器来处理测得的反射光特性,并使之与测得的表面图形相关联。本发明还包括测量具有外形双折射的表面图形的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用椭偏法 测量 临界 尺寸 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.测量具有外形双折射的表面图形的设备，包括：一个光源，提供入射光射到具有表面图形的表面上；一个光探测器，测量入射光被表面图形反射后的特性；一个转台，用于转动所述表面以使入射光由于转台的转动而以不同的角度入射；一个处理器，处理测得的反射光特性，并使之与表面图形相关联。
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