[发明专利]绝缘体基硅传输门干扰的解决方法无效

专利信息
申请号: 99118748.2 申请日: 1999-09-16
公开(公告)号: CN1249539A 公开(公告)日: 2000-04-05
发明(设计)人: 安杰斯·布赖恩特;爱德华·J·诺瓦克;米恩·H·通 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L23/64;H01L21/336
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王永刚
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: N型MOSFET的SOI传输门干扰的解决方法,在FET的栅与体之间连接电阻器以消除干扰状态。此FET制造在衬底中,具有源、漏和栅,场效应晶体管的体是电浮置的,且基本上与衬底电隔离。提供了将FET的电浮置体耦合到栅的高阻通路,致使当栅处于低位时,在能够出现明显的热充电之前,体向低态放电,从而防止了当晶体管处于关断时电荷在体上的积累。高阻通路的电阻最好约为1010Ωμm除以传输门的宽度。
搜索关键词: 绝缘体 传输 干扰 解决方法
【主权项】:
1.制造于衬底中的具有源、漏和栅的场效应晶体管,其中场效应晶体管的体是电浮置的,且晶体管基本上与衬底电隔离,其特征在于包含:将场效应晶体管的电浮置体耦合到场效应晶体管的栅的高阻通路,致使当栅处于低位时,在能够出现明显的热充电之前,体向低态放电,从而防止当晶体管处于关断时电荷在体上的积累。
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