[发明专利]玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方及其制造方法无效

专利信息
申请号: 99116008.8 申请日: 1999-01-12
公开(公告)号: CN1260334A 公开(公告)日: 2000-07-19
发明(设计)人: 黄崧基 申请(专利权)人: 黄崧基
主分类号: C04B28/00 分类号: C04B28/00
代理公司: 清远市专利事务所 代理人: 刘显通
地址: 511500 广东省清远*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方及其制备方法,该配方是用碳化硅及陶瓷粘结剂混合而制成,陶瓷粘结剂包括Al2O3、SiO2、Fe2O3、MgO、K2O与Na2O、TiO2及CaO。该磨块是将上述粘结剂各成份的矿物混合,再与碳化硅拌匀成混合磨料,经模具冲压或注浆成型并干燥,最后高温烧结成品。用该配方制造的磨块具有高耐磨性、高耐热性特点,价格与普通磨块相当,使用寿命却提高4—10倍,大大降低了单位面积的加工成本及提高加工效率和经济效益。
搜索关键词: 玻化砖 石材 研磨 抛光 专用 配方 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方,它是按抛光精度要求,选取碳化硅的目数,然后用该目数的碳化硅15%-65%及粘结剂85%-35%混合制成,其特征在于:所述的粘结剂为陶瓷粘结剂,该陶瓷粘结剂使用下列矿物成份:钾长石与钠长石、粘土、石英、高岭土、滑石、石灰石,经混合、研磨、筛分成混合物,其化学成份及含量为:5-30%的Al2O3、30-75%的SiO2、0.2-1%的Fe2O3、0.5-3%的MgO、3-30%的K2O与Na2O、0.5-1.5%的TiO2及1-4%的CaO,其中K2O与Na2O可同时使用或单独使用。
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