[发明专利]玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方及其制造方法无效
申请号: | 99116008.8 | 申请日: | 1999-01-12 |
公开(公告)号: | CN1260334A | 公开(公告)日: | 2000-07-19 |
发明(设计)人: | 黄崧基 | 申请(专利权)人: | 黄崧基 |
主分类号: | C04B28/00 | 分类号: | C04B28/00 |
代理公司: | 清远市专利事务所 | 代理人: | 刘显通 |
地址: | 511500 广东省清远*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方及其制备方法,该配方是用碳化硅及陶瓷粘结剂混合而制成,陶瓷粘结剂包括Al2O3、SiO2、Fe2O3、MgO、K2O与Na2O、TiO2及CaO。该磨块是将上述粘结剂各成份的矿物混合,再与碳化硅拌匀成混合磨料,经模具冲压或注浆成型并干燥,最后高温烧结成品。用该配方制造的磨块具有高耐磨性、高耐热性特点,价格与普通磨块相当,使用寿命却提高4—10倍,大大降低了单位面积的加工成本及提高加工效率和经济效益。 | ||
搜索关键词: | 玻化砖 石材 研磨 抛光 专用 配方 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方,它是按抛光精度要求,选取碳化硅的目数,然后用该目数的碳化硅15%-65%及粘结剂85%-35%混合制成,其特征在于:所述的粘结剂为陶瓷粘结剂,该陶瓷粘结剂使用下列矿物成份:钾长石与钠长石、粘土、石英、高岭土、滑石、石灰石,经混合、研磨、筛分成混合物,其化学成份及含量为:5-30%的Al2O3、30-75%的SiO2、0.2-1%的Fe2O3、0.5-3%的MgO、3-30%的K2O与Na2O、0.5-1.5%的TiO2及1-4%的CaO,其中K2O与Na2O可同时使用或单独使用。
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