[发明专利]玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方及其制造方法无效
| 申请号： | 99116008.8 | 申请日： | 1999-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN1260334A | 公开（公告）日： | 2000-07-19 |
| 发明（设计）人： | 黄崧基 | 申请（专利权）人： | 黄崧基 |
| 主分类号： | C04B28/00 | 分类号： | C04B28/00 |
| 代理公司： | 清远市专利事务所 | 代理人： | 刘显通 |
| 地址： | 511500 广东省清远*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 玻化砖 石材 研磨 抛光 专用 配方 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块配方，它是按抛光精度要求，选取碳化硅的目数，然后用该目数的碳化硅15％-65％及粘结剂85％-35％混合制成，其特征在于：所述的粘结剂为陶瓷粘结剂，该陶瓷粘结剂使用下列矿物成份：钾长石与钠长石、粘土、石英、高岭土、滑石、石灰石，经混合、研磨、筛分成混合物，其化学成份及含量为：5-30％的Al2O3、30-75％的SiO2、0.2-1％的Fe2O3、0.5-3％的MgO、3-30％的K2O与Na2O、0.5-1.5％的TiO2及1-4％的CaO，其中K2O与Na2O可同时使用或单独使用。
2.根据权利要求1所述的磨块，其特征在于：该磨块适用于玻化砖及石材系列研磨抛光之用。
3.一种玻化砖及石材研磨抛光专用的磨块的制造方法，根据抛光精度的要求，选取碳化硅的目数，然后用该目数的碳化硅按重量比15％-65％及陶瓷粘结剂85％-35％，搅拌均匀成混合磨料，磨料在模具内冲压或注浆成各种形状的磨块，并干燥至含水份小于2％，其特征在于：高温烧结，温度为900-1400℃。
4.根据权利要求3所述的磨块，其特征在于：该磨块适用于玻化砖及石材系列研磨抛光之用。
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