[发明专利]低成本铸造γ-TiAI用的整体式坩埚和铸型无效
申请号: | 98802006.8 | 申请日: | 1998-01-27 |
公开(公告)号: | CN1101284C | 公开(公告)日: | 2003-02-12 |
发明(设计)人: | J·C·拉萨勒;D·G·杰文斯;J·F·赖安 | 申请(专利权)人: | 联合讯号公司 |
主分类号: | B22C9/04 | 分类号: | B22C9/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 卢新华,罗才希 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种铸造反应性金属用的整体式坩埚,它由石墨套筒和连接在其上的可熔模型结合而成,在模型外表上加涂有由表面涂层稀浆和陶瓷灰泥交替叠成的叠层,用以形成熔模壳型。该叠层伸展到套筒的连接部分上。壳型被焙烧后能使可熔模型气化而留下套筒和壳型、即整体式坩埚。 | ||
搜索关键词: | 低成本 铸造 tiai 整体 坩埚 铸型 | ||
【主权项】:
1.一种制造浇铸反应性金属用的整体式坩埚和铸型的方法,它包括下列步骤:将可熔模型加装到圆柱形石墨套筒上;围绕模型和套筒的连接部分形成一个熔模壳型;将壳型和所附着的套筒焙烧,使之完全固化,并使模型气化。
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