[发明专利]半导体器件

摘要

一个由一个p+集电区(1),一个n型缓冲区(3),一个n－区(5)和一个n+阴极区(7)组成的pin二极管。一个从n+阴极区(7)的表面开始穿过n+阴极区(7)后到达n－区(5)的沟槽(9)。沿着沟槽9的内壁形成一层绝缘膜(11)。形成一个栅电极层(13)隔着绝缘与n+阴极区(7)的侧壁相对。形成一个阴极(17)与n+阴极区(7)电连接。形成一个阳极(19)与p+集电区(1)电连接。n+阴极区(7)整个形成在互相平行伸展的沟槽(9)之间的表面上。这样,一种其栅控电路被简化、且导通特性很好的功率半导体器件即可得到。

主权项

1．一种半导体器件，其中的电流在一个本征或第一导电型的半导体衬底(105)的第一和第二主表面间流动，包括：在所述半导体衬底的所述第一主表面上形成的第二导电型的第一杂质区(107)；以及在所述半导体衬底的所述第二主表面上形成的第二导电型的第二杂质区(101)；它与所述第一杂质区一起夹着一个所述半导体衬底的低浓度区(105)；其中所述半导体衬底包括从所述第一主表面开始穿过所述的第一杂质区后到达所述半导体衬底的所述低浓度的沟槽(113)；所述器件进一步包括：在所述第一杂质区上的第一导电型的第三杂质区(109)，它与在所述半导体衬底的所述第一主表面上的所述沟槽的侧壁接触；一个在所述沟槽中形成的控制电极层(117)，它隔着一层绝缘膜(115)与所述第一和第三杂质区以及所述半导体衬底的所述低浓度区相对，它通过所施加的控制电压控制在所述第一和第二主表面之间流动的电流；一个第一电极层(121)，它在所述半导体衬底的所述第一主表面上形成，并与所述第三杂质区电连接；一个在所述半导体衬底的所述第二主表面上形成，并与所述第二杂质区电连接的第二电极层；其中如果用Dt表示所述沟槽离所述第一主表面的深度，Wt表示所述沟槽宽度，De表示所述第三杂质区离所述第一主表面的深度，We表示所述第三杂质区从其中一个所述沟槽到其中另一个所述沟槽的宽度，Pt表示相邻所述沟槽的间距，则下列表达式成立：2(We+Dt-De)+Wt2(We+Dt-De)+Pt≥0.4。