[发明专利]具有分布气隙的扼流圈无效

专利信息
申请号: 97191661.6 申请日: 1997-01-08
公开(公告)号: CN1114217C 公开(公告)日: 2003-07-09
发明(设计)人: A·科林斯;J·斯尔盖利斯;J·阿鲍-埃利尔斯;R·J·马蒂斯;R·哈瑟加瓦 申请(专利权)人: 联合讯号公司
主分类号: H01F17/06 分类号: H01F17/06;H01F27/25;H01F27/34;H01F1/153
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 卢新华,钟守期
地址: 暂无信息 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种具有带分布气隙的磁芯的扼流圈。该磁芯由铁基的快速固化的金属构成。通过退火处理使非晶金属部分晶化以形成该分布气隙构造。由于退火处理,磁芯的非晶金属合金被部分纯晶超过10%的体积,并且在10千赫下具有导磁率为100-400,低的磁芯损耗(即在100千赫和0.1特斯拉下小于70瓦/公斤),以及优异的DC偏置性能(即在3980安/米的DC偏置磁场或50奥斯特下维持起始导磁率的至少40%)。
搜索关键词: 具有 分布 扼流圈
【主权项】:
1.一种生产扼流圈的方法,所述扼流圈具有磁芯,所述磁芯由铁基非晶金属合金构成,且具有分布气隙,所述生产扼流圈的方法包括:在一选定的温度和时间下,在保护气氛中将所述扼流圈退火,以使磁芯的非晶金属合金被部分结晶超过10%的体积,并具有在10千赫下为100-400的导磁率。
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