[发明专利]用于减少光学基片反射的涂层、方法和设备

摘要

描述了一种对光学基片涂敷减反射(AR)涂层的方法。该涂层的厚度和成分，可通过将对于与人的视觉系统灵敏度成角度相关和成波长相关的涂层的菲涅尔反射系数之积减至最小来确定，以将此涂敷制品感知的反射率减至最小。带有化学惰性气体如氩和氮的紧凑的反应室被抽真空并冲入化学惰性气体，例如氩或氮。一或多个分子组成的先质通过等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)进行沉积，以形成减反射薄膜。基于被控制厚度的含氟聚合物薄膜的单层减反射涂层以及有机、有机硅的和/或无机多涂层被描述。也被提供的是使用偏振发光二极管、偏振光学滤光片和光电二极管的光学监测薄膜生长的方法。来自监测器的反馈被用于控制先质流量，以预定的减反射特性产生单涂层和多涂层。

主权项

1.一种透明或半透明的被涂敷的制品，它具有一感知的反射率FAR，其中FAR＝∫∫s(λ，θ)R(λ，θ)dλdθ，式中λ是波长，θ是入射角，s(λ，θ)是作为波长和入射角函数的人的灵敏度函数，以及R(λ，θ)是p-和s-偏振反射率的平均，被涂敷的制品包括；一光学基片；以及被涂敷在上述光学基片至少一部分上的一或多层减反射材料；上述一或多个减反射材料层的厚度被进行选择，以使上述被涂敷制品的上述被感知的反射率FAR被减至最小。