[发明专利]表面处理剂及其处理方法无效
申请号: | 97181728.6 | 申请日: | 1997-02-10 |
公开(公告)号: | CN1245517A | 公开(公告)日: | 2000-02-23 |
发明(设计)人: | 岩间克己;吉本敏雄;齐藤学;大高守康 | 申请(专利权)人: | 株式会社P&E国际;腮尾信一 |
主分类号: | C09D1/04 | 分类号: | C09D1/04;C09D5/02;C04B41/71 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 刘立平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种含有羟基或羧基的高分子水乳液、硅石粉料、液态基体处理剂、液态基体补强剂及着色剂的四液一粉着色型表面处理剂。所述基体处理剂为含有以氧化硅为主成分的硅石粉料、包括氢氧化钙或氧化钙的含钙物质、选自酸解离指数(pKa)为3以上、5以下的有机酸或有机酸盐及水为主成分的混合物。所述基体补强剂为含有以碱硅酸盐水溶液和选自酸解离指数(pKa)为3以上、5以下的有机酸或有机酸盐为主成分的混合物。对任何基体材料皆显示平滑、高强度、高耐水性的着色剂系在基体补强剂中添加呈平滑剂的硅石粉料和颜料而成的混合物为主成分。涂膜可在短时间内指触形成,其涂布作业性良好。 | ||
搜索关键词: | 表面 处理 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种表面处理剂,其特征在于,所述表面处理剂包括:以薄膜状涂布于基体材料表面的高粘合性的高分子水乳液,载持于上述高分子水乳液薄膜表面、至少部分露出于该薄膜表面、以氧化硅(SiO2)为主成份的硅石粉料,以薄膜状涂布于前述薄膜状涂布的高分子水乳液表面、并覆盖硅石粉料露出部分的基体处理剂,和以薄膜状涂布于前述涂布形成的薄膜状高分子水乳液表面的所述基体处理剂表面之上的基体补强剂;所述高粘合性的高分子水乳液为含有选自羟基(-OH)及羧基(-COOH)中的至少一种的高分子水乳液;所述基体处理剂为含有以氧化硅(SiO2)为主成份的硅石粉料、选自氢氧化钙(Ca(OH)2)及氧化钙(CaO)中的至少一种含钙物质、含有选自酸解离指数(pKa)为3以上、5以下的有机酸及有机酸盐中的至少一种及水(H2O)而成的液态处理剂;所述基体补强剂为含有碱硅酸盐水溶液和选自酸解离指数(pKa)为3以上、5以下的有机酸及有机酸盐中的至少一种的液态处理剂,所述基体补强剂以薄膜状涂布于上述基体处理剂表面。
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