[发明专利]电子件用的铁-镍合金薄板、荫罩和有该荫罩的阴极射线管无效
申请号: | 97117741.4 | 申请日: | 1997-08-26 |
公开(公告)号: | CN1068635C | 公开(公告)日: | 2001-07-18 |
发明(设计)人: | 久保井健 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社 |
主分类号: | C22C38/08 | 分类号: | C22C38/08;H01J29/07 |
代理公司: | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人: | 范明娥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种用于电子部件的具有优越软化性的Fe-Ni合金薄板。合金主要含有(重量)32到40%Ni,不大于0.1%Si、不大于0.5%Mn和5到50ppm硼以及余量Fe和不可避免的杂质。其中痕量元素要满足下列要求“S+O”≤150ppm、Al<400ppm、N≤50ppm、P≤100ppm、周期表中的Ⅳb、Ⅴb和Ⅵb族的元素量不大于2000ppm,B(原子%)/N(原子%)之比不小于0.8,最好大于1.0。本发明还涉及由该合金制的荫罩和有荫罩的阴极射线管。 | ||
搜索关键词: | 电子 镍合金 薄板 阴极射线管 | ||
【主权项】:
1.一种用于电子部件的Fe-Ni合金薄板,它具有优越的软化性能,其中:按重量计,所述Fe-Ni合金主要含有:32到40%Ni,不大于0.1%Si、不大于0.5%Mn和5-50ppm硼以及余量Fe和不可避免的杂质;而其中作为在所述Fe-Ni合金中杂质的痕量元素要满足:“S+O”≤150ppm、Al≤400ppm、N≤50ppm、P≤100ppm、在周期表中所规定的Ⅳb、Ⅴb和Ⅵb族的元素量不大于2000ppm;以及B原子%/N原子%的原子比不小于0.8,其中:“S”是硫;“O”是氧;“N”是氮,“P”是磷和“B”是硼。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立金属株式会社,未经日立金属株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/97117741.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:甲胺类的生产
- 下一篇:丙烯嵌段共聚物、其制备方法以及包含该共聚物的组合物