[发明专利]真空渗碳方法、设备及渗碳制品无效
| 申请号： | 96194022.0 | 申请日： | 1996-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN1184510A | 公开（公告）日： | 1998-06-10 |
| 发明（设计）人： | 久保田健 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本H |
| 主分类号： | C23C8/22 | 分类号： | C23C8/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 魏金玺,谭明胜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种渗碳处理方法,包括在真空渗碳炉的加热室中真空加热工件,从渗碳气体源向加热室输送乙炔气,以及通过抽真空源使加热室内真空度保持1kPa或低于1kPa。因此,可以在防止碳黑产生以及节约所用气量和热量的同时使包括工件深孔内壁的工件各部分均匀渗碳。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 渗碳 方法 设备 制品 | ||
【主权项】：
1.一种真空渗碳方法，其中通过在真空渗碳炉的加热室中真空加热钢材工件，并向加热室输送渗碳气体进行渗碳处理，该方法的特征在于，气态不饱和脂肪烃用作渗碳气体，和渗碳处理在加热室的真空度不大于1kPa的情况下进行。
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