[发明专利]用于光敏阻焊剂的附着力促进剂无效
| 申请号： | 93105071.5 | 申请日： | 1993-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN1077470A | 公开（公告）日： | 1993-10-20 |
| 发明（设计）人： | 陈德朴;刘密新;杨树屏 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C09D11/00 | 分类号： | C09D11/00 |
| 代理公司： | 清华大学专利事务所 | 代理人： | 罗文群 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于光敏阻焊剂的附着力促进剂，属高分子化学技术领域。该促进剂通过下列反应式获得其中IV是季戊四醇三-丙烯酸酯或季戊四醇三-甲基丙烯酸酯，V是五氧化二磷、磷酸或氧氯化磷，m＝1或2，n＝2或1，且m+n＝3，R＝H或-CH3。本促进剂能够在光固化过程中快速固化，而且还能够提高阻焊膜的耐温性能，使阻焊膜在焊接过程中耐较高温度冲击而不脱落。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光敏 焊剂 附着力 促进剂 | ||
【主权项】：
1、一种用于光敏阻焊剂的附着力促进剂，其特征在于所述的促进剂通过下列反应式获得：其中Ⅳ是季戊四醇三-丙烯酸酯或季戊四醇三-甲基丙烯酸酯；Ⅴ是五氧化二磷、磷酸或氧氯化磷中的任何一种；m=1，2；n=2，1；且m+n=3；R=H，-CH3
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