[发明专利]锡-钴复合镀层的制备方法无效
| 申请号： | 92112372.8 | 申请日： | 1992-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN1029633C | 公开（公告）日： | 1995-08-30 |
| 发明（设计）人： | 唐致远;郭鹤桐;严立泉 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C25D15/00 | 分类号： | C25D15/00;C25D15/02 |
| 代理公司： | 天津大学专利代理事务所 | 代理人： | 江镇华 |
| 地址： | 300*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种以锡-钴为基质金属的复合镀层制备方法，它使用下述组分的镀液氯化亚锡20～35g/L、氯化钴10～20g/L、焦磷酸钾250～350g/L、碳化硅和氮化硼混和微粒2～5g/L、“代铬-90”20～40ml/L，所述碳化硅和氮化硼混和微粒由粒径小于0.5微米的碳化硅和氮化硼按3∶1的比例混和制成。采用本发明制备的镀层外表光亮，酷似铬镀层，而且有较高的硬度和抗蚀性好等优点，可广泛应用于装饰性电镀中。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 镀层 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种锡-钴复合镀层的制备方法，其特征是，它使用下述组分的镀液：氯化亚锡20～35g/L、氯化钴10～20g/L、焦磷酸钾250～350g/L、碳化硅和氮化硼混和微粒2～5g/L、“代铬-90”(武汉材保所生产)20～40ml/L，所述碳化硅和氮化硼混和微粒由粒径小于0.5微米的碳化硅和氮化硼按3∶1(重量比)的比例混和制成。
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