[发明专利]使用光敏剥离材料的反转成像法无效
| 申请号： | 90107366.0 | 申请日： | 1990-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN1051435A | 公开（公告）日： | 1991-05-15 |
| 发明（设计）人： | 小哈维·沃特·泰勒 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03F3/00 | 分类号： | G03F3/00;G03F7/26;G03C1/805 |
| 代理公司： | 中国专利代理有限公司 | 代理人： | 黄家伟 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明是有关影像复制方法，尤其是有关彩色校正方法，该法利用含可剥离掩膜层、光坚膜层、弹性层和支持体的剥离光敏材料，在掩膜层上产生一个透明片的正像，而在弹性层上产生一个透明片的负像。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 光敏 剥离 材料 反转 成像 | ||
【主权项】：
1、制备用于表层校正片的予着色影像的方法，该方法依次包括如下步骤：(A)提供一种予着色剥离光敏材料，该材料从上到下依次具有：(1)能透过光化辐射线的可剥离掩膜层；(2)含染料的光坚膜层；(3)基本上不具光敏性的弹性层；和(4)支持片基；(B)将掩膜层剥离；(C)用光化辐射线将不含掩膜层的以上材料按成像方式曝光；(D)将掩膜层叠压到已曝光材料上，要使掩膜层原来与光坚膜层相接的那一面仍然与光坚膜层相接；(E)用光化辐射线将材料整体曝光；和(F)剥下掩膜层，这样经步骤(C)被曝光的光坚膜层部分保留在弹性层上，而经步骤(C)未能曝光的光坚膜层部分保留在掩膜层上。
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