[发明专利]使用光敏剥离材料的反转成像法

权利要求书

1、制备用于表层校正片的予着色影像的方法，该方法依次包括如下步骤：

(A)提供一种予着色剥离光敏材料，该材料从上到下依次具有：

(1)能透过光化辐射线的可剥离掩膜层；

(2)含染料的光坚膜层；

(3)基本上不具光敏性的弹性层；和

(4)支持片基；

(B)将掩膜层剥离；

(C)用光化辐射线将不含掩膜层的以上材料按成像方式曝光；

(D)将掩膜层叠压到已曝光材料上，要使掩膜层原来与光坚膜层相接的那一面仍然与光坚膜层相接；

(E)用光化辐射线将材料整体曝光；和

(F)剥下掩膜层，这样经步骤(C)被曝光的光坚膜层部分保留在弹性层上，而经步骤(C)未能曝光的光坚膜层部分保留在掩膜层上。

2、根据权利要求1的方法，其中成像曝光是使用与予着色材料颜色一致的分色透明片进行的。

3、根据权利要求2的方法，其中步骤（A）至（F）进行二次或多次，每次提供不同颜色的予着色材料并且每次透过与之颜色一致的分色透明片将材料曝光，在透明掩膜层上形成相同数量的予着色影像，将这些影像对准叠加起来，就产生一个多彩色表层校正片。

4、根据权利3的方法，其中步骤（A）-（F）被重复四次，使用颜色分别为黄色、品红色、青色和黑色的予着色光敏材料。

5、根据权利要求1的方法，其中成像曝光是通过正性载像透明片，在掩膜层上形成正像。

6、根据权利要求3的方法，其中每次成像曝光均通过分色正透明片并且形成多色表层正校正片。

7、根据权利要求1的方法，其中光坚膜层是可光聚合材料，它含有高分子粘合剂;可加成聚合的烯类不饱和单体;以及可被光化辐射线活化的引发体系。

8、根据权利要求7的方法，其中可光聚合层含有约35-45%高分子粘合剂，35-45%单体，1-15%染料，2-8%引发体系和0-15%其它成份。

9、根据权利要求7的方法，其中掩膜层是经放电处理过的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。

10、制备用于予印刷表层拷贝彩色校正片的予着色影像的方法，该方法依次包括下列步骤：

（A）提供一种予着色剥离光敏材料，它从上到下依次具有：

（1）能透过光化辐射线的可剥离掩膜层;

（2）含染料的光坚膜层;

（3）基本上不具光敏性的弹性层;和

（4）可除去的支持片基;

（B）除去这层可除去的支持片基，将此不带可除去的支持片基的材料粘接到一个接受片上（5）;

（C）将掩膜层剥离;

（D）将此种含光坚膜层（2），弹性层（3）和接受体（5）的材料，用光化辐射线按成像方式曝光;

（E）将掩膜层叠压到已曝光材料的光坚膜层上，使掩膜层原来之相接的一面仍然与光坚膜层相接;

（F）用光化辐射线将此材料整体曝光;

（G）从光坚膜层剥下可剥离的掩膜层，于是经步骤（D）后光坚膜层中的已成像曝光部分保留在弹性层上，而经步骤（D）后光坚膜层中的未被曝光部分保留在掩膜层上。

11、根据权利要求10的方法，其中成像曝光使用与予着色材料颜色一致的分色透明片进行。

12、根据权利要求11的方法，还包括如下附加步骤：

（H）从另一个不同颜色的光敏材料上除去可除去的支持片基、将此不带支持片基的材料粘接到步骤（G）中的弹性层上形成的影像上;

（I）、除去掩膜层;

（J）、通过与之颜色一致的分色透明片，用光化辐射线将材料曝光;

（K）、将掩膜层再叠压到已曝光材料上，使掩膜原来与光坚膜层相接的一面仍然与光坚膜层相接;

（L）、用光化辐射线将材料复盖曝光;

（M）、从光坚膜层上剥去可剥离的掩膜层，于是经步骤（J）后光坚膜层材料中的已曝光部分保留在弹性层上，形成一个所使用的透明片的负像，而经步骤（J）后未曝光的部分保留在掩膜层上，为所使用的透明片的正像;

（N）、将步骤（H）到（M）进行一次或多次，每次使用不同的予着色材料，并且每次曝光通过与之一致的分色透明片，形成多色表层拷贝校正片。