[发明专利]冷等离子体表面处理设备及其处理工艺无效
| 申请号： | 89107909.2 | 申请日： | 1989-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN1033283C | 公开（公告）日： | 1996-11-13 |
| 发明（设计）人： | 林立中 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | D06M10/00 | 分类号： | D06M10/00;C03C25/00 |
| 代理公司： | 福建省专利事务所 | 代理人： | 林捷华 |
| 地址： | 350002*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用冷等离予体对材料表面进行处理的设备及其处理工艺。其主要特点是采用直流辉光放电中较长的正柱区产生冷等离予体，并利用它对材料表面进行处理。真空室的两端各设一个电极。如真空室中需要传动装置，则真空室两端还设有支撑板，支撑板之间装有若干根转轴和一根主动传动轴。主动传动轴带动被处理材料通过放电区。本发明具有结构简单、造价低、易于大规模工业生产、无电磁污染和处理效果好等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 表面 处理 设备 及其 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种冷等离子体表面处理工艺，其特征是采用直流辉光放电的正柱区产生冷等离子体，并利用它对材料表面进行处理，被处理材料的层面与电场方向平行。
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