[发明专利]冷等离子体表面处理设备及其处理工艺

权利要求书

1.一种冷等离子体表面处理工艺，其特征是采用直流辉光放电的正柱区产生冷等离子体，并利用它对材料表面进行处理，被处理材料的层面与电场方向平行。

2.根据权利要求1所述的表面处理工艺，其特征是处理条件及参数为：介质气体：空气、氧、氮，真空度：0.02～5乇，放电区平均电流密度：0.2～10MA/cm²，处理时间：5～180秒。

3.根据权利要求1所述的表面处理工艺，其特征是可处理化纤织物、玻璃纤维布、塑料薄膜、棉花和兔毛、羊毛等毛类纤维。

4.根据权利要求1所述的表面处理工艺，其处理设备是由电源部分、真空室、抽气系统和传动系统组成，其特征是：

a、在真空室两端的支撑板(15)之间，装有若干根转轴(8)和一根主动传动轴(14)，二根支撑悬梁(9)的一端固定在支撑板(15)上，在支撑悬梁(9)上，分别套有卷取辊(10)和卷出辊(11)。

b、在真空室两端设有阴极和阳极，

c、在真空室内壁及室内的传动系统涂覆有电绝缘材料。

5、根据权利要求4所述的处理设备，其特征在于传动系统的主动传动轴(14)通过离合器(13)与电机(21)联接，卷取辊(10)通过可打滑的摩擦式离合器(12)与电机(21)联接。

6、根据权利要求4、5所述的处理设备，其特征在于传动系统的卷取辊(10)和卷出辊(11)之间配有传送纤维状材料的输送网，其网眼规格2×2cm～4×4cm。

7、根据权利要求4所述的处理设备，其特征在于电绝缘材料是由704硅橡胶和陶瓷片或704硅橡胶和玻璃纤维布组成。