[发明专利]真空压力造型装置无效
| 申请号： | 89102529.4 | 申请日： | 1989-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN1015527B | 公开（公告）日： | 1992-02-19 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·皮特克·斯乐凯;杰姆斯·理查德·哈默纳 | 申请（专利权）人： | 布德公司 |
| 主分类号： | B29C43/04 | 分类号： | B29C43/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 张祖昌 |
| 地址： | 美国密执安*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在真空压力造型装置中使用顶出缸来最初突破上、下模之间的密封以便有助于迅速打开上、下模，从而缩短零件造型周期。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 压力 造型 装置 | ||
【主权项】：
1.一种真空造型装置，具有两个，即第一和第二模，所述第一和第二模中至少一个可以借助压头相对于另一个移动，一个密封环绕所述第一模设置并包括第一和第二密封件，所述密封环当压头使两模靠拢时能在两模间形成真空，其特征在于该装置还包括：围绕所述第二模设置的分模装置，该分模装置与所述密封环和所述压头是分开的；以及所述分模装置的驱动装置，当一零件在所述第一和第二模之间完成造型后，该驱动装置驱动所述分模装置，使所述密封环被推离所述第二模，从而使所述第二密封件突破所述第一和第二模之间的真空密封，而两模仍保持基本闭合。
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