[发明专利]获得具有超薄保护层的照相压印板的方法无效
| 申请号： | 88104559.4 | 申请日： | 1988-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN1031899A | 公开（公告）日： | 1989-03-22 |
| 发明（设计）人： | 阿梅里卡斯·克里斯托弗·瓦伊塔尔 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03F7/10 | 分类号： | G03F7/10;G03F7/16;G03C1/74;G03C1/90 |
| 代理公司： | 中国专利代理有限公司 | 代理人： | 杨松坚 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 使用具有粘接保护层的照相压印板对光化射线产生成像曝光的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 获得 具有 超薄 保护层 照相 压印 方法 | ||
【主权项】：
1、一种将施加到底基上的光敏层对光化射线成像曝光，随后由底基上移去光敏层上相同区域的一种方法，其中，曝光包括光化射线通过具有透明和不透明区域的照相压印板，照相压印板的一面具有粘接的保护层，其中的改进在于照相压印板的形成，包括如下步骤：a)压触具有支撑物而厚度不大于0.25mil的胶粘剂层，使其施加到照相压印板上，随后把支撑物立即与胶粘剂层相脱离；b)通过压触把厚度不大于0.25mil的保护层施加到胶粘剂层上；其粘接层和保护层的总厚度不大于0.50mil。
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