[其他]喇曼散射分析的测量装置的吸附衬底无效
| 申请号： | 86201587 | 申请日： | 1986-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN86201587U | 公开（公告）日： | 1987-03-25 |
| 发明（设计）人： | 莫育俊;李秀英 | 申请（专利权）人： | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65 |
| 代理公司： | 中国科学院物理研究所专利办公室 | 代理人： | 高存秀,崔茹华 |
| 地址： | 北京市6*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 用于表面增强喇曼散射分析的测量装置所专用的吸附衬底属于表面分析技术和光谱技术领域。本实用新型是用适当颗粒的金属粉末对铜片或铝片进行机械抛光，获得表面粗糙度为500和1000的铜质吸附衬底和铝制吸附衬底。利用这种吸附衬底进行表面分析及痕迹物质的检测均有很高的灵敏度，并且价格低廉。 | ||
| 搜索关键词： | 散射 分析 测量 装置 吸附 衬底 | ||
【主权项】：
1、一种喇曼散射分析的测量装置的吸附衬底，其特征在于：铜质吸附衬底表面粗糙度为500，和银质吸附衬底表面粗糙度为1000。
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