[实用新型]一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备有效
| 申请号： | 202320628671.7 | 申请日： | 2023-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN219326818U | 公开（公告）日： | 2023-07-11 |
| 发明（设计）人： | 富之柢;卢怨谊 | 申请（专利权）人： | 北京茂孚工业控制技术中心 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/56 |
| 代理公司： | 成都顶峰专利事务所(普通合伙) 51224 | 代理人： | 胡庆波 |
| 地址： | 100000 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及金属表面处理设备技术领域，公开了一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备，包括底座、水冷阳极靶组件、水冷阴极靶组件和依次连通设置的真空室、左侧波纹管、左侧高压防护管、中间高压防护管、右侧高压防护管、右侧波纹管和电弧沉积室，所述真空室和电弧沉积室分别与底座滑动连接；所述水冷阳极靶组件的一端与真空室固定连接，所述水冷阳极靶组件的延长段依次穿过左侧波纹管、左侧高压防护管后伸入位于中间高压防护管内的细长管件内；本实用新型提供的一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备，解决了现有技术中对于细长管件的内壁镀膜非常困难的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 带有 双水内冷 小口径 电弧 离子 沉积 设备 | ||
【主权项】：
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