[实用新型]一种光刻胶旋涂设备有效
| 申请号： | 202320107743.3 | 申请日： | 2023-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN219676441U | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 聂树平;王忠诚;王恒;周立早;武学俊 | 申请（专利权）人： | 合肥晶合集成电路股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 苗晓娟 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻胶旋涂设备，属于半导体制造领域，所述设备至少包括：工作腔体，以形成工作腔室；旋转单元，所述旋转单元包括容纳槽，所述容纳槽容纳晶圆；喷胶单元，位于所述晶圆的一侧，且允许所述喷胶单元远离或靠近所述晶圆；以及预烘单元，设置在所述工作腔室内，所述预烘单元和所述喷胶单元位于所述晶圆的同一侧，且所述预烘单元与所述喷胶单元交替移至所述晶圆上。本实用新型提供的一种光刻胶旋涂设备，能够提高光刻胶的覆盖均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 胶旋涂 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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